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公开(公告)号：CN111522198B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202010078997.8
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN112824382B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN113045465A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011454985.7
申请日：2020-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D339/08 , C07D279/20 , C07C25/18 , C07C39/367 , C07C69/708 , C07C43/225 , C07D347/00 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D295/00 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C205/58 , C07C233/54 , C07C69/92 , C07C69/86 , C07C69/94 , C07D307/54 , C07D307/33 , C07C59/135 , C07C69/753 , C07C69/40 , C07C69/732 , C07C69/36 , C07C69/96 , C07C59/56 , C07C69/07 , C07C69/63 , C07C59/64 , C07D307/80 , C07C69/78 , C07C69/767 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN111522198A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN202010078997.8
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN111123651B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN201911044993.1
申请日：2019-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113045465B
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202011454985.7
申请日：2020-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07D327/08 , C07D339/08 , C07D279/20 , C07C25/18 , C07C39/367 , C07C69/708 , C07C43/225 , C07D347/00 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D295/00 , C07C69/76 , C07C69/84 , C07C205/58 , C07C233/54 , C07C69/92 , C07C69/86 , C07C69/94 , C07D307/54 , C07D307/33 , C07C59/135 , C07C69/753 , C07C69/40 , C07C69/732 , C07C69/36 , C07C69/96 , C07C59/56 , C07C69/07 , C07C69/63 , C07C59/64 , C07D307/80 , C07C69/78 , C07C69/767 , G03F7/004
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN112782935B
公开(公告)日：2025-05-20
申请号：CN202011225387.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。#imgabs0#式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN112782935A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011225387.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。 式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN112824382A
公开(公告)日：2021-05-21
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN111123651A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201911044993.1
申请日：2019-10-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。
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