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公开(公告)号：CN116445844A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310423299.0
申请日：2019-08-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层，其包含下层和表层，所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成，所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成，该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率，23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm，由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。
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公开(公告)号：CN113699476A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111009100.7
申请日：2019-08-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C4/04 , C23C4/134 , C23C4/11 , C01F17/265
Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层，其包含下层和表层，所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成，所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成，该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率，23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm，由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。
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公开(公告)号：CN101135033A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182172.5
申请日：2007-04-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C4/00 , C23C14/00 , C23C16/50 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: C23C4/08 , C23C4/06 , Y10T428/31678
Abstract: 一种适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中的导电、等离子体耐受性构件，该构件包括基材，所述基材在有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层，该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇混合物构成从而具有导电性。由于该构件具有导电性，并且对卤素基腐蚀性气体或其等离子体具有改良的耐腐蚀性，因此在半导体制造设备或平板显示器制造设备中可以抑制因等离子体刻蚀导致的颗粒污染。
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公开(公告)号：CN113699477A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202111009097.9
申请日：2019-08-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层，其包含下层和表层，所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成，所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成，该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率，23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm，由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。
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公开(公告)号：CN110835720A
公开(公告)日：2020-02-25
申请号：CN201910748398.X
申请日：2019-08-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层，其包含下层和表层，所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成，所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成，该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率，23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm，由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101075550A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200610064447.0
申请日：2006-10-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/205 , H01L21/67 , C23F4/00 , C23C16/00 , H01J37/32 , H01J37/00 , H05H1/00 , B32B9/00 , B32B33/00
CPC classification number: C23C4/04 , C23C4/02 , C23C24/04 , Y10T428/24355 , Y10T428/24413
Abstract: 当耐腐蚀构件暴露于含氯气体或其等离子体且随后暴露于环境气氛时，构件表面不吸收湿气。待暴露于含氯气体或其等离子体的构件表面不形成基体材料的氯化物颗粒。在用水冲洗构件后，冲洗水不会显示出对基体的腐蚀性质。构件不存在对基体的损伤而且构件也不会损失耐腐蚀能力。
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公开(公告)号：CN116867924A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202180092120.7
申请日：2021-12-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C4/04
Abstract: 使用成膜用材料形成被膜，该成膜用材料含有包含稀土元素氟化物的晶相的粒子、包含稀土元素氧化物的晶相的粒子和包含稀土元素氟化铵复盐的晶相的粒子的成膜用材料，或者该成膜用材料含有包含稀土元素氟化物的晶相的粒子和包含稀土元素氧化物的晶相和稀土元素氟化铵复盐的晶相的粒子。就本发明的成膜用材料或成膜用浆料而言，特别是如果使用成膜用材料或成膜用浆料采用喷涂来形成喷涂被膜，则能够不需要过剩的热量地形成稀土元素氧氟化物喷涂被膜，因此即使在大气下也抑制喷涂热引起的氧化反应的进行，同时得到稀土元素氟化物和稀土元素氧化物少的稀土元素氧氟化物喷涂被膜，另外，能够抑制过剩的热量导致的被膜剥离。
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公开(公告)号：CN116685564A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202180086497.1
申请日：2021-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C04B41/87
Abstract: 稀土氧化物喷涂材料，其为基于激光衍射‑散射法的体积基准的平均粒径D50为10μm以上且18μm以下的粒子状，压缩度为13以下，并且BET比表面积为0.1m2/g以上且2m2/g以下。本发明的稀土氧化物喷涂材料即使采用将喷涂材料以固体(粒子)供给的大气等离子体喷涂，也能够形成气孔率低的致密的喷涂膜。另外，通过使用本发明的稀土氧化物喷涂材料，采用大气等离子体喷涂形成喷涂膜，从而能够容易地在曲面形成喷涂膜，另外，能够将喷涂膜形成得厚。
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公开(公告)号：CN110835720B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201910748398.X
申请日：2019-08-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层，其包含下层和表层，所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成，所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成，该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率，23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm，由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。
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公开(公告)号：CN1891863A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610099687.4
申请日：2006-06-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 使用具有最低含量的杂质金属元素的稀土金属，将其加工成构件并用基于有机酸的封端剂进行清洗，获得完全由稀土金属组成并且在亚表面区域包含不多于100ppm的杂质金属元素的稀土金属构件，该稀土金属构件的特征在于高表面纯度、大晶粒尺寸、最少的晶界和提高的耐卤素性或耐蚀性。
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