公开(公告)号：CN115354269B

公开(公告)日：2025-03-18

申请号：CN202211112737.3

申请日：2018-02-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 浜谷典明 ,  植原一郎

IPC: C23C4/134 ,  C23C4/10 ,  C01F17/265 ,  C01F17/10

Abstract: 提供喷镀被膜，是包含稀土氟化物和/或稀土氧氟化物的喷镀被膜，含有0.01～2质量％的碳或者1～1000ppm的钛或钼，并且在不含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示呈L*为25～64、a*为‑3.0～+5.0、b*为‑4.0～+8.0的灰色乃至黑色，在包含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示，呈L*为25以上且不到91、a*为‑3.0～+5.0、b*为‑6.0～+8.0的白色或者灰色乃至黑色。如果将该被膜形成于耐等离子体构件，则部分的颜色的变化少，取出清洗时也不必再部分地实施难以进行的清洗，成为能够确实实现原本的长寿命的构件。

公开(公告)号：CN110382730B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN201880014710.6

申请日：2018-02-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 浜谷典明 ,  植原一郎

IPC: C23C4/04 ,  C01F17/265 ,  C01F17/10 ,  H01L21/302

Abstract: 提供喷镀被膜，是包含稀土氟化物和/或稀土氧氟化物的喷镀被膜，含有0.01～2质量％的碳或者1～1000ppm的钛或钼，并且在不含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示呈L*为25～64、a*为‑3.0～+5.0、b*为‑4.0～+8.0的灰色乃至黑色，在包含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示，呈L*为25以上且不到91、a*为‑3.0～+5.0、b*为‑6.0～+8.0的白色或者灰色乃至黑色。如果将该被膜形成于耐等离子体构件，则部分的颜色的变化少，取出清洗时也不必再部分地实施难以进行的清洗，成为能够确实实现原本的长寿命的构件。

公开(公告)号：CN101135033A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：CN200710182172.5

申请日：2007-04-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 前田孝雄 ,  牧野勇一 ,  中野瑞 ,  植原一郎

IPC: C23C4/00 ,  C23C14/00 ,  C23C16/50 ,  C23F4/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C23C4/08 ,  C23C4/06 ,  Y10T428/31678

Abstract: 一种适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中的导电、等离子体耐受性构件，该构件包括基材，所述基材在有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层，该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇混合物构成从而具有导电性。由于该构件具有导电性，并且对卤素基腐蚀性气体或其等离子体具有改良的耐腐蚀性，因此在半导体制造设备或平板显示器制造设备中可以抑制因等离子体刻蚀导致的颗粒污染。

公开(公告)号：CN115354269A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202211112737.3

申请日：2018-02-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 浜谷典明 ,  植原一郎

IPC: C23C4/134 ,  C23C4/10 ,  C01F17/265 ,  C01F17/10

Abstract: 提供喷镀被膜，是包含稀土氟化物和/或稀土氧氟化物的喷镀被膜，含有0.01～2质量％的碳或者1～1000ppm的钛或钼，并且在不含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示呈L*为25～64、a*为‑3.0～+5.0、b*为‑4.0～+8.0的灰色乃至黑色，在包含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示，呈L*为25以上且不到91、a*为‑3.0～+5.0、b*为‑6.0～+8.0的白色或者灰色乃至黑色。如果将该被膜形成于耐等离子体构件，则部分的颜色的变化少，取出清洗时也不必再部分地实施难以进行的清洗，成为能够确实实现原本的长寿命的构件。

公开(公告)号：CN110382730A

公开(公告)日：2019-10-25

申请号：CN201880014710.6

申请日：2018-02-28

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 浜谷典明 ,  植原一郎

IPC: C23C4/04 ,  C01F17/00 ,  H01L21/302

Abstract: 提供喷镀被膜，是包含稀土氟化物和/或稀土氧氟化物的喷镀被膜，含有0.01～2质量％的碳或者1～1000ppm的钛或钼，并且在不含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示呈L*为25～64、a*为-3.0～+5.0、b*为-4.0～+8.0的灰色乃至黑色，在包含氧氟化物的情况下，用L*a*b*色度表示，呈L*为25以上且不到91、a*为-3.0～+5.0、b*为-6.0～+8.0的白色或者灰色乃至黑色。如果将该被膜形成于耐等离子体构件，则部分的颜色的变化少，取出清洗时也不必再部分地实施难以进行的清洗，成为能够确实实现原本的长寿命的构件。

公开(公告)号：CN101135033B

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200710182172.5

申请日：2007-04-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 前田孝雄 ,  牧野勇一 ,  中野瑞 ,  植原一郎

IPC: C23C4/00 ,  C23C14/00 ,  C23C16/50 ,  C23F4/00 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C23C4/08 ,  C23C4/06 ,  Y10T428/31678

Abstract: 一种适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中的导电、等离子体耐受性构件，该构件包括基材，所述基材在有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层，该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇混合物构成从而具有导电性。由于该构件具有导电性，并且对卤素基腐蚀性气体或其等离子体具有改良的耐腐蚀性，因此在半导体制造设备或平板显示器制造设备中可以抑制因等离子体刻蚀导致的颗粒污染。