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公开(公告)号：CN1891863A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610099687.4
申请日：2006-06-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 使用具有最低含量的杂质金属元素的稀土金属，将其加工成构件并用基于有机酸的封端剂进行清洗，获得完全由稀土金属组成并且在亚表面区域包含不多于100ppm的杂质金属元素的稀土金属构件，该稀土金属构件的特征在于高表面纯度、大晶粒尺寸、最少的晶界和提高的耐卤素性或耐蚀性。
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公开(公告)号：CN101135033A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710182172.5
申请日：2007-04-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C4/00 , C23C14/00 , C23C16/50 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: C23C4/08 , C23C4/06 , Y10T428/31678
Abstract: 一种适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中的导电、等离子体耐受性构件，该构件包括基材，所述基材在有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层，该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇混合物构成从而具有导电性。由于该构件具有导电性，并且对卤素基腐蚀性气体或其等离子体具有改良的耐腐蚀性，因此在半导体制造设备或平板显示器制造设备中可以抑制因等离子体刻蚀导致的颗粒污染。
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公开(公告)号：CN1209831C
公开(公告)日：2005-07-06
申请号：CN00122528.6
申请日：2000-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: H01M4/385 , H01M4/383 , H01M10/345 , Y10S420/90
Abstract: 本发明的目的是提供吸氢合金，它能改善高比率放电性能并抑制粒径下降，即使当其钴含量下降时，循环寿命等同于或高于传统合金，并具有高容量。具体而言，本发明提供主相为CaCu5型晶体结构的吸氢合金，其中合金的La含量范围在24-33wt%之间，而合金的Mg或Ca含量范围在0.1-1.0wt%之间，上述合金的Co含量不大于9wt%。
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公开(公告)号：CN1342782A
公开(公告)日：2002-04-03
申请号：CN01125941.8
申请日：2001-06-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C23C4/11 , Y10T428/25 , Y10T428/26 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明涉及形成高度防腐蚀或防腐蚀的稀土元素氧化物或稀土元素基复合氧化物热喷涂层的有效方法,该涂层是通过使用由氧化物颗粒组成的独特热喷涂粉末采用等离子体热喷涂方法形成的。该热喷涂颗粒的特征在于,特定的分布指数为0.1－0.7,特定的平均颗粒直径为5－80μm,特定的BET比表面积为1－5m2/g,以及以氧化物重量计算的非常低含量的杂质铁不超过5ppm。本文使用的火焰喷涂粉末的特征在于几个其它颗粒参数,包括球粒构型、颗粒直径D90,堆积密度和累积孔体积。
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公开(公告)号：CN101075550A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200610064447.0
申请日：2006-10-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/3213 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/205 , H01L21/67 , C23F4/00 , C23C16/00 , H01J37/32 , H01J37/00 , H05H1/00 , B32B9/00 , B32B33/00
CPC classification number: C23C4/04 , C23C4/02 , C23C24/04 , Y10T428/24355 , Y10T428/24413
Abstract: 当耐腐蚀构件暴露于含氯气体或其等离子体且随后暴露于环境气氛时，构件表面不吸收湿气。待暴露于含氯气体或其等离子体的构件表面不形成基体材料的氯化物颗粒。在用水冲洗构件后，冲洗水不会显示出对基体的腐蚀性质。构件不存在对基体的损伤而且构件也不会损失耐腐蚀能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1658412A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN200510005786.7
申请日：2000-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01M4/38
CPC classification number: H01M4/385 , H01M4/383 , H01M10/345 , Y10S420/90
Abstract: 本发明的目的是提供吸氢合金，它能改善高比率放电性能并抑制粒径下降，即使当其钴含量下降时，循环寿命等同于或高于传统合金，并具有高容量。具体而言，本发明提供主相为CaCu5型晶体结构的吸氢合金，其中合金的La含量范围在24－33wt％之间，而合金的Mg或Ca含量范围在0.1－1.0wt％之间，上述合金的Co含量不大于9wt％。
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公开(公告)号：CN1283877A
公开(公告)日：2001-02-14
申请号：CN00122528.6
申请日：2000-08-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: H01M4/385 , H01M4/383 , H01M10/345 , Y10S420/90
Abstract: 本发明的目的是提供吸氢合金,它能改善高比率放电性能并抑制粒径下降,即使当其钴含量下降时,循环寿命等同于或高于传统合金,并具有高容量。具体而言,本发明提供主相为CaCu5型晶体结构的吸氢合金,其中合金的La含量范围在24—33wt%之间,而合金的Mg或Ca含量范围在0.1—1.0wt%之间,上述合金的Co含量不大于9wt%。
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公开(公告)号：CN101135033B
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN200710182172.5
申请日：2007-04-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C23C4/00 , C23C14/00 , C23C16/50 , C23F4/00 , H01L21/3065
CPC classification number: C23C4/08 , C23C4/06 , Y10T428/31678
Abstract: 一种适于暴露在卤素基气体等离子体气氛中的导电、等离子体耐受性构件，该构件包括基材，所述基材在有待暴露于等离子体中的至少部分区域上形成有热喷涂涂层，该热喷涂涂层由金属钇或金属钇与氧化钇和/或氟化钇混合物构成从而具有导电性。由于该构件具有导电性，并且对卤素基腐蚀性气体或其等离子体具有改良的耐腐蚀性，因此在半导体制造设备或平板显示器制造设备中可以抑制因等离子体刻蚀导致的颗粒污染。
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公开(公告)号：CN101691307A
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200910126738.1
申请日：2009-01-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C04B41/81
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C4/10 , C23C4/11 , C23C4/134 , C23C4/18 , H01J37/32477
Abstract: 陶瓷喷涂部件，包括基底和其上的陶瓷喷涂层。层片已从喷涂层的表面被去除，一般是通过喷砂处理去除。该具有改进的耐等离子体性能的陶瓷喷涂部件减轻了晶片的颗粒污染，并当在用于半导体制造等类似情形的卤素等离子体工艺中使用时能够使生产稳定。
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公开(公告)号：CN100587116C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200610099687.4
申请日：2006-06-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 使用具有最低含量的杂质金属元素的稀土金属，将其加工成构件并用基于有机酸的封端剂进行清洗，获得完全由稀土金属组成并且在亚表面区域包含不多于100ppm的杂质金属元素的稀土金属构件，该稀土金属构件的特征在于高表面纯度、大晶粒尺寸、最少的晶界和提高的耐卤素性或耐蚀性。
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