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公开(公告)号：CN117930600B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410330745.8
申请日：2024-03-22
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开一种基于DMD实现双光束时空调制及扫描的打印方法及系统。该系统将单个DMD分为两个半区实现对两束窄带激光的独立高速调制，并利用二值全息术实现对其衍射级次的三维随机扫描及精确对准。进一步的，本发明还可以在空间域和时间域对两束激光进行任意调制，以适用不同曝光条件的刻写介质。通过匹配物镜的数值孔径和双光束在物镜后孔阑的距离，两束激光在物镜下垂直相交，从而实现更优的等效点扩散函数，并达到接近1：1的体素纵横比。该系统具有高灵活度，高稳定性，低复杂度和低成本的特点，适用于高通量的三维超分辨打印领域。
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公开(公告)号：CN117310850A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311223277.6
申请日：2023-09-21
Applicant: 之江实验室
IPC: G02B3/00
Abstract: 本申请涉及一种灰度刻写方法、装置、计算机设备以及存储介质。根据激光光源射出的激光光束确定光栅光阀的入射光斑；通过所述光栅光阀的子单元对所述入射光斑进行相位调制，确定子单元的一级衍射光场；根据所述子单元的一级衍射光场确定刻写线光场；通过道威棱镜带动所述刻写线光场旋转，确定旋转光场；根据微透镜的曲面结构，确定所述刻写线光场的目标光强分布梯度；根据所述旋转光场、所述刻写线光场和所述目标光强分布梯度对微透镜进行灰度刻写。上述方法能够提高微透镜的加工效率，同时提高微透镜的光洁度。
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公开(公告)号：CN117055302A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311111879.2
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置及激光直写方法，包括线光输出单元、第一反射镜、转动单元和调制面，所述线光输出单元对所述第一反射镜入射线形光，所述第一反射镜将线形光反射至所述调制面上，所述第一反射镜通过所述转动单元相对所述线光输出单元和所述调制面转动设置。本发明采用线形光对光刻胶进行直写，仅需要第一反射镜依靠转动单元在单个平面内转动即可，既不需要平移，也不需要在其他平面内转动，第一反射镜所需活动自由度明显下降，对应的线形光在调制面上仅需要在一个维度上进行移动扫描即可，降低了直写过程所需自由度，简化了直写过程，直写效率较高。同时扫描过程的简化也使激光直写装置获得了简化，有利于整个激光直写装置的小型化。
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公开(公告)号：CN117031891A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311112422.3
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写系统及激光直写方法，包括激发光源、抑制光源、微镜阵列和位移台，所述微镜阵列包括阵列排布的至少两个微镜，所述微镜具有第一角度状态和第二角度状态；所述激发光源通过处于第一角度状态的所述微镜照射至所述位移台处，以形成刻写图案，所述抑制光源通过处于第二角度状态的所述微镜照射至所述位移台处，以形成抑制光斑，所述抑制光斑位于所述刻写图案的边界处。
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公开(公告)号：CN118466124A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410325977.4
申请日：2024-03-21
Abstract: 一种基于多通道独立控制的激光并行直写装置及方法；该装置包括光提供源、位于光源输出光路上的微透镜阵列MLA、多通道声光调制器AOMC、第一凸透镜、反射镜、二向色镜、位于二向色镜透射光路上的物镜、精密位移台、以及位于二向色镜反射光路上的第二凸透镜、CCD10；MLA包含m×n个微透镜，用于生成m×n的激光焦点阵列，AOMC包含m×n个通道，可对m×n光束阵列的各子光束进行独立开关和强度调控。本发明装置结构简洁，可产生独立可控的m×n个光束，可实现高通量并行加工，能高速加工高精度的三维微结构，可应用于超分辨激光直写等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117270327A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311100405.8
申请日：2023-08-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法，所述装置包括按光路依次设置的飞秒激光光源、第一光栅光阀GLV、4F光学系统、第二光栅光阀GLV、成像系统、以及放置有样本的位移台；所述飞秒激光光源入射到第一光栅光阀GLV上，第一光栅光阀GLV出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光聚焦置样品处进行扫描刻写。与现有技术相比，本发明具有兼具高效率、任意复杂结构及灰度结构灵活刻写的优点。
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公开(公告)号：CN116652393A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310572478.0
申请日：2023-05-18
IPC: B23K26/362 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/082 , G06T3/00
Abstract: 本申请涉及一种三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统。所述方法包括：依次获取刻写对象每层对应的二维灰度图；基于所述二维灰度图获取每个刻写点的刻写图像数据；依次控制位移台移动至每行所述刻写点对应的起始位置并控制所述位移台按照指定程序移动，在所述位移台到达指定位置时，控制数字微镜基于对应的所述刻写点的所述刻写图像数据进行并行激光刻写操作。通过本申请，解决了相关技术中刻写效率较低，并且刻写质量较差的技术问题，通过移动位移台去除了拼接步骤，并通过数字微镜并行进行激光刻写，进而提高了激光刻写的效率和质量。
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公开(公告)号：CN116430687B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310698595.1
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
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公开(公告)号：CN117031884A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311021903.3
申请日：2023-08-15
Abstract: 本申请涉及一种基于飞秒激光时空同步聚焦的线光场扫描刻写装置和方法，所述装置包括：包括按光前进方向依次设置的飞秒激光光源、一维扩束系统、光栅光阀、成像系统和位移台；飞秒激光光源用于发射飞秒激光至一维扩束系统；一维扩束系统用于将飞秒激光的光斑扩束为一维线形光斑后垂直入射至光栅光阀的表面；光栅光阀用于对一维线形光斑进行调制并将得到的一级衍射光发射至成像系统；成像系统用于将一级衍射光在成像系统的物镜焦面上进行时空同步聚焦，输出线形光场对待刻写目标进行刻写。采用本装置能够结合飞秒激光和光栅光阀进行线扫描刻写，提升刻写精度，实现任意复杂结构大面积高速扫描刻写和大面积高均匀结构、连续灰度结构的快速加工。
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公开(公告)号：CN116430687A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310698595.1
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
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