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公开(公告)号：CN118192179B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410615551.2
申请日：2024-05-17
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜，沿光路传播方向依次包括光源、数字微镜阵列、锥透镜以及刻写平台，所述数字微镜阵列的数量与所述锥透镜的数量相同，以使所述数字微镜阵列和所述锥透镜一一对应。本发明通过改变数字微镜阵列中处于打开状态的子微镜分布、数量，由此能够改变在锥透镜出光侧所形成焦点区域对应的焦深，以及焦点区域在x方向和y方向上对应的宽度，由此改变获得的柱体高度和半径。
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公开(公告)号：CN117908339B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410309866.4
申请日：2024-03-19
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种宽带飞秒激光高轴向分辨率直写装置及方法，该装置按光前进方向依次包括飞秒激光光源、第一透镜、介质、第二透镜、反射镜、数字微镜阵列、第三透镜、物镜和位移台，其中，介质位于第一透镜和第二透镜之间的焦点位置，数字微镜阵列位于第三透镜的前焦面位置，物镜的焦面位于位移台所承载的样品内；利用飞秒激光在介质中的非线性作用生成宽带飞秒激光，通过数字微镜阵列对该飞秒激光进行调制实现光场调控，并结合该宽带飞秒激光在刻写平面的时空同步聚焦效应，实现对样品的刻写。本发明能够大幅度提升轴向分辨率，实现高通量、高分辨率、任意复杂结构的三维刻写。
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公开(公告)号：CN112666803B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110048240.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114019763B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202111120476.5
申请日：2021-09-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN115826364A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211493606.4
申请日：2022-11-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于双步双光子效应的高通量超分辨纳米刻写方法与装置，将存在延时的一个激发光和一个促进光合束，入射到数字微镜器件，随后成像到三维样品台的基板上涂覆的具有双步双光子效应的光刻胶上；根据所需刻写结构控制数字微镜器件，完成基板所在焦面处的曝光，同时控制三维样品台，以及激发光和促进光的延时，使延时大于光刻胶分子的单重态的激发态S1到多重态T1，进而实现双步双光子效应，实现任意三维纳米结构的刻写；激发光和促进光为同一波长且重复频率相同的激光束，且激发光的脉宽为飞秒，促进光的脉宽为皮秒或者纳秒。本发明实现超分辨激光刻写，并且结合数字微镜器件，进而实现高通量刻写能力。
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公开(公告)号：CN114077168B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210009224.3
申请日：2022-01-06
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及光学技术领域，具体公开了一种基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像方法和装置，包括激光器、准直扩束系统、空间光调制器、4f缩束系统、二向色镜、显微物镜、微球、直写基底、三维可控精密位移台、照明光源、照明模块及相机等，所述的激光器出射光经过扩束准直后入射到加载有相位全息图的空间光调制器上面，调制后的光斑经过4f缩束系统入射到显微物镜，在显微物镜焦面形成聚焦光斑阵列同时捕获多个微球，利用微球强聚焦特性配合相位全息图变化，在直写基底上面进行任意图案的高通量超分辨激光直写；同时，微球结合显微物镜可对超分辨激光直写结构进行实时成像，图像由相机采集，实现基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像。
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公开(公告)号：CN114019766A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111266973.6
申请日：2021-10-28
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。
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公开(公告)号：CN118466124A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410325977.4
申请日：2024-03-21
Abstract: 一种基于多通道独立控制的激光并行直写装置及方法；该装置包括光提供源、位于光源输出光路上的微透镜阵列MLA、多通道声光调制器AOMC、第一凸透镜、反射镜、二向色镜、位于二向色镜透射光路上的物镜、精密位移台、以及位于二向色镜反射光路上的第二凸透镜、CCD10；MLA包含m×n个微透镜，用于生成m×n的激光焦点阵列，AOMC包含m×n个通道，可对m×n光束阵列的各子光束进行独立开关和强度调控。本发明装置结构简洁，可产生独立可控的m×n个光束，可实现高通量并行加工，能高速加工高精度的三维微结构，可应用于超分辨激光直写等领域。
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