发光装置
    1.
    发明公开
    发光装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN110660820A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910238059.7

    申请日:2019-03-27

    Abstract: 发光装置包括:衬底,其在第一方向和第二方向上延伸;第一发光结构至第四发光结构,其在第一方向和第二方向上彼此间隔开并且以矩阵形式布置在衬底上;多个第一互连层结构,其将第一发光结构连接至第二发光结构;第二互连层结构,其将第二发光结构连接至第三发光结构;以及多个第三互连层结构,其将第三发光结构连接至第四发光结构。

    半导体器件
    4.
    发明公开
    半导体器件 审中-公开

    公开(公告)号:CN120035165A

    公开(公告)日:2025-05-23

    申请号:CN202410780055.2

    申请日:2024-06-17

    Abstract: 本公开涉及半导体器件。一种示例半导体器件包括:沟道层;阻挡层,所述阻挡层位于所述沟道层上并且包括与所述沟道层中包括的材料比具有不同的能带隙的材料;栅电极,所述栅电极位于所述阻挡层上;栅极半导体层,所述栅极半导体层位于所述阻挡层与所述栅电极之间;保护层,所述保护层位于所述阻挡层和所述栅电极上;源电极和漏电极,所述源电极和所述漏电极位于所述栅电极的两侧并且延伸穿过所述保护层,以覆盖所述沟道层和所述阻挡层的侧表面;以及扩散阻挡层,所述扩散阻挡层位于所述保护层内,覆盖所述阻挡层和所述栅电极并且包括氮。

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