公开(公告)号：CN119626880A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202410445113.6

申请日：2024-04-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 姜璨秀 ,  姜大元 ,  金敏周 ,  金泰铉 ,  南象基 ,  成德镛 ,  梁正模 ,  吴世真 ,  林建熙 ,  任埈澔

IPC: H01J37/32

Abstract: 衬底加工装置包括提供加工空间的加工室、位于加工室中并被配置为支撑衬底的工作台、耦合到加工室的一侧的窗口、以及耦合到窗口的一侧表面的闪烁体层。闪烁体层覆盖窗口的一侧表面的一部分，该部分小于整个窗口表面。与窗口的一侧表面的另一部分相对应的第二表面被暴露。由加工空间中的等离子体发射的光穿过窗口并由光学系统收集并进行分析。穿过闪烁体的紫外光被转换为更长波长的光，通常是可见光。将穿过裸露窗口的光与穿过闪烁体层的光进行比较可以对等离子体进行分析。

公开(公告)号：CN118471773A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202410029904.0

申请日：2024-01-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李光镐 ,  南象基 ,  朴智兑 ,  印成晋 ,  林建熙 ,  张圣虎

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/153 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  G01N21/25

Abstract: 公开了等离子体监测系统。所述等离子体监测系统包括：腔室，具有被配置为在半导体基底上执行等离子体工艺的内部空间，腔室包括观察窗和基底台；光发射器，在观察窗上，并且包括被配置为获得在等离子体工艺期间生成的第一光的多个光纤；可拆卸反射镜，在观察窗与所述多个光纤之间；光生成器，被配置为通过所述多个光纤将第二光照射到反射镜上并且通过所述多个光纤将第三光照射到观察窗上；以及光分析器，被配置为从第一光获得光谱，基于从反射镜反射的第二反射光来校正所述光谱，并且基于从观察窗反射的第三反射光来校正所述光谱。