公开(公告)号：US06689706B2

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US10158688

申请日：2002-05-29

申请人： Daniel R. Sempolinski

发明人： Daniel R. Sempolinski

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C2201/32

摘要： Fused silica articles exhibiting improved internal transmission and decreased absorption change when irradiated with a laser when compared with fused silica articles containing lower levels of aluminum. The articles also exhibit induced transmission when irradiated with a laser.

摘要翻译： 当与含有较低含量的铝的熔融石英制品相比时，用激光照射时，熔融二氧化硅制品表现出改善的内部透光性和降低的吸收变化。 当用激光照射时，制品也表现出诱导的传播。

公开(公告)号：US06486084B2

公开(公告)日：2002-11-26

申请号：US09789318

申请日：2001-02-20

申请人： Toshio Oda ,  Hiromichi Kobayashi ,  Tsuneaki Ohashi ,  Shinji Kawasaki

发明人： Toshio Oda ,  Hiromichi Kobayashi ,  Tsuneaki Ohashi ,  Shinji Kawasaki

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C04B35/575 ,  C03B19/06 ,  C03C14/004 ,  C03C2214/04 ,  C03C2214/30 ,  C04B35/56 ,  C04B35/5611 ,  C04B35/565 ,  C04B35/58014 ,  C04B35/584

摘要： A composite material has a quartz glass phase and a complex compound phase compounded with the quartz glass phase, which is made of one or more compounds selected from a group of silicon carbide, silicon nitride, silicon, titanium nitride and titanium carbide, as a main ingredient. The composite material can be used instead of quartz glass, and can prevent the generations of microcrack, tipping and particles after the mechanical working.

摘要翻译： 复合材料具有石英玻璃相和与石英玻璃相复合的复合化合物相，其由选自碳化硅，氮化硅，硅，氮化钛和碳化钛的一种或多种化合物制成，作为主要 成分。 可以使用复合材料代替石英玻璃，并且可以防止在机械加工之后的几代微裂纹，倾翻和颗粒。

公开(公告)号：US06451719B1

公开(公告)日：2002-09-17

申请号：US09692014

申请日：2000-10-19

申请人： Shigeru Yamagata

发明人： Shigeru Yamagata

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  Y10S501/905

摘要： A silica glass optical material for transmitting light with a wavelength of from 155 to 195 nm emitted from an excimer laser or an excimer lamp, which comprises silica glass optical material of ultrahigh purity, containing from 1 to 100 wtppm of OH groups, from 5×1016 to 5×1019 molecules/cm3 of H2, and from 10 to 10,000 wtppm of F, but substantially free from halogens other than F, and having a fluctuation in refractive index, &Dgr;n, of from 3×10−6 to 3×10−7.

摘要翻译： 一种二氧化硅玻璃光学材料，用于从准分子激光或准分子灯发射波长为155至195nm的光，其包括含有1至100重量ppm的OH基团的超高纯度的石英玻璃光学材料，从5×10 16至 5×1019分子/ cm 3的H 2和10至10,000重量ppm的F，但基本上不含F以外的卤素，并且具有3×10 -6至3×10 -7的折射率DELTAn。

公开(公告)号：US06309991B1

公开(公告)日：2001-10-30

申请号：US09254114

申请日：1999-02-25

申请人： Nicholas F. Borrelli ,  Thomas P. Seward, III ,  Charlene Smith

发明人： Nicholas F. Borrelli ,  Thomas P. Seward, III ,  Charlene Smith

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/1065 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B2207/32 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C23/0025 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/50 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70216

摘要： Fused silica stepper lens for photolithographic application are disclosed which are resistant to laser-induced damage, specifically, compaction or densification which can lead to an increase in the optical path length of the lens. The figure compares the phase front distortions of a standard fused silica with the phase front distortions observed in two inventive stepper lens fused silica.

摘要翻译： 公开了用于光刻应用的熔融二氧化硅步进透镜，其耐受激光诱发的损伤，特别是压实或致密化，这可导致透镜的光程长度的增加。 该图将标准熔融石英的相位前变形与在两个创新的步进透镜熔融二氧化硅中观察到的相位前变形进行比较。

公开(公告)号：US06630418B2

公开(公告)日：2003-10-07

申请号：US10034971

申请日：2001-12-21

申请人： Daniel R. Sempolinski

发明人： Daniel R. Sempolinski

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C2201/32

摘要： Fused silica articles containing at least 50 ppb aluminum are disclosed. The fused silica articles containing these levels of aluminum exhibit improved internal transmission and decreased absorption change when irradiated with a laser when compared with fused silica articles containing lower levels of aluminum.

摘要翻译： 公开了含有至少50ppb铝的熔融二氧化硅制品。 与含有较低含量的铝的熔融二氧化硅制品相比，含有这些水平的铝的熔融二氧化硅制品在用激光照射时表现出改善的内部透光性和降低的吸收变化。

公开(公告)号：US06576578B1

公开(公告)日：2003-06-10

申请号：US09762679

申请日：2001-03-01

申请人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

发明人： Yoshiaki Ikuta ,  Shinya Kikugawa ,  Akio Masui ,  Noriaki Shimodaira ,  Shuhei Yoshizawa

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： A synthetic quartz glass to be used for light with a wavelength of from 150 to 200 nm, wherein the OH group concentration is at most 100 ppm, the hydrogen molecule concentration is at most 1×1017 molecules/cm3, reduction type defects are at most 1×1015 defects/cm3, and the relation between &Dgr;k163 and &Dgr;k190, as between before and after irradiation of ultraviolet rays, satisfies 0

摘要翻译： 用于波长为150〜200nm的光的合成石英玻璃，OH基浓度为100ppm以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以下，还原型缺陷为1×1015以下的缺陷 / cm3，紫外线照射前后的DELTAk163与DELTAk190之间的关系满足0

公开(公告)号：US06225245B1

公开(公告)日：2001-05-01

申请号：US08974679

申请日：1997-11-19

申请人： Akira Utsunomiya ,  Yoshio Katsuro ,  Akihiro Takazawa ,  Takashi Moriyama

发明人： Akira Utsunomiya ,  Yoshio Katsuro ,  Akihiro Takazawa ,  Takashi Moriyama

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03B19/09 ,  C03B19/1065 ,  C03C3/06 ,  C03C12/00 ,  C03C14/004 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/27 ,  C03C2214/16 ,  C03C2214/32

摘要： A synthetic quartz powder obtained by calcining a powder of silica gel, characterized in that white devitrification spots having sizes of larger than 20 &mgr;m in diameter formed in an ingot obtained by vacuum melting the synthetic quartz powder at a temperature of from 1780 to 1800° C. to form an ingot, followed by maintaining the ingot at a temperature of 1630° C. for 5 hours, are at most 10 spots/50 g.

摘要翻译： 通过煅烧硅胶粉末得到的合成石英粉末，其特征在于，在1780〜1800℃的温度下真空熔炼合成石英粉末而形成的粒径大于20μm的白色失透斑 形成锭，然后将锭保持在1630℃的温度下5小时，最多为10个/ 50g。

公开(公告)号：US06174830B1

公开(公告)日：2001-01-16

申请号：US09161754

申请日：1998-09-29

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03B32/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass is provided for use in an optical system processing an excimer laser beam. The silica glass has a molecular hydrogen concentration of about 5×1018 molecules/cm3 or less and is substantially free from defects which become precursors susceptible to an one-photon absorption process and a two-photon absorption process upon irradiation of the excimer laser beam to the silica glass.

摘要翻译： 提供石英玻璃用于处理准分子激光束的光学系统中。 二氧化硅玻璃的分子氢浓度约为5×1018分/ cm 3或更低，并且基本上没有成为对单光子吸收过程敏感的前体的缺陷和在将准分子激光束照射到二氧化硅上时的双光子吸收过程 玻璃。

公开(公告)号：US06689705B2

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US10048309

申请日：2002-01-29

申请人： Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Toru Yokota ,  Yasuyuki Yaginuma ,  Akira Sato ,  Tetsuji Ueda

发明人： Akira Fujinoki ,  Hiroyuki Nishimura ,  Toru Yokota ,  Yasuyuki Yaginuma ,  Akira Sato ,  Tetsuji Ueda

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： An object of the present invention is to provide a synthetic quartz glass optical material having a high optical transmittance for a radiation 157 nm in wavelength emitted from F2 excimer laser and a high resistance against irradiation of a F2 excimer laser radiation, yet having a uniformity suitable for such a fine patterning using a F2 excimer laser, and to provide an optical member using the same. The problems above are solved by a synthetic quartz glass optical material for F2 excimer lasers having an OH group concentration of 0.5 ppm or lower, a fluorine concentration of 0.1 to 2 mol %, a hydrogen molecule concentration of 5×1016 molecules/cm3 or lower, a difference between the maximum and minimum fluorine concentrations within 20 mol ppm, and a difference between the maximum and minimum refraction indices of 2×10−5 or lower.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种合成石英玻璃光学材料，其对于从F2准分子激光器发射的波长为157nm的辐射具有高的透光率，并且具有高的对F2准分子激光辐射照射的抗性，但具有适合的均匀性 对于使用F2准分子激光器的精细图案化，并提供使用其的光学部件。 上述问题由OH基浓度为0.5ppm以下，氟浓度为0.1〜2mol％，氢分子浓度为5×10 16分子/ cm 2的F2准分子激光的合成石英玻璃光学材料解决， 3>以下，最大和最小氟浓度在20mol ppm内的差异，以及最大和最小折射率之间的差异为2×10 -5或更低。

公开(公告)号：US06656860B2

公开(公告)日：2003-12-02

申请号：US09993564

申请日：2001-11-27

申请人： Akiko Yoshida ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

发明人： Akiko Yoshida ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： G03F7/70058 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70958

摘要： A photolithography apparatus has an exposure light source for emitting exposure light with a wavelength of 400 nm or less, a reticle with a pattern original image formed therein, an illumination optical system for illuminating the reticle with exposure light, a projection optical system for projecting the pattern image from the reticle onto a photosensitive plate and an alignment system for aligning the reticle and the photosensitive plate. At least some of the synthetic silica glass members composing the illumination optical system, the projection optical system and the reticle consist of synthetic silica glass members which, upon 1×104 pulse irradiation with an ArF excimer laser at an energy density from 0.1 &mgr;J/cm2·p to 200 mJ/cm2·p, have a loss factor no greater than 0.0050 cm−1 at 193.4 nm measured after irradiation, a hydrogen molecule concentration from 1×1016 molecules/cm3 to 2×1018 molecules/cm3 and a loss factor no greater than 0.0020 cm−1 before ultraviolet irradiation.

摘要翻译： 一种光刻设备具有用于发射波长为400nm以下的曝光光的曝光光源，形成有图案原始图像的标线片，用曝光灯照亮该掩模版的照明光学系统，投影光学系统 从掩模版到感光板的图案图像和用于对准掩模版和感光板的对准系统。 构成照明光学系统的合成二氧化硅玻璃构件中的至少一部分，投影光学系统和掩模版由合成石英玻璃构件组成，在用能量密度为0.1μJ/ cm 2的ArF准分子激光器进行1×10 4脉冲照射时， cm 2 p至200mJ / cm 2，在照射后测量的193.4nm处的损耗因子不大于0.0050cm -1，氢分子浓度为1×10 16分子/ cm 2， 3> 2×10 18分子/ cm 3，并且在紫外线照射之前的损失因子不大于0.0020cm -1。