公开(公告)号：US20030140655A1

公开(公告)日：2003-07-31

申请号：US10348079

申请日：2003-01-21

发明人： Ulrike Stoehr ,  Olaf Claussen ,  Ralf-Dieter Werner

IPC分类号： C03B019/00 ,  C25D001/00

CPC分类号： C03B19/02 ,  C03B19/00

摘要： The process according to the invention reduces the effort required to shape a glass piece. In this process a liquid glass piece is provided on a structured supporting surface of an electrically conducting base. A voltage is applied across the liquid glass piece by connecting a voltage source between a contact position on the liquid glass piece and the electrically conducting base. The apparatus for performing the process has an electrically conducting base on which the liquid glass piece is supported and a device for applying a voltage between a contact position on the liquid glass piece and the electrically conducting base.

摘要翻译： 根据本发明的方法减少了成形玻璃片所需的努力。 在该方法中，在导电基体的结构化支撑表面上设置液体玻璃片。 通过在液体玻璃片上的接触位置和导电基底之间连接电压源，在液体玻璃片上施加电压。 用于执行该处理的装置具有支撑液体玻璃片的导电基座和用于在液体玻璃片上的接触位置和导电基底之间施加电压的装置。

公开(公告)号：US20030051508A1

公开(公告)日：2003-03-20

申请号：US10247288

申请日：2002-09-20

申请人： HOYA CORPORATION

发明人： Atsushi Uezaki ,  Katsumi Utsugi

IPC分类号： C03B009/13 ,  C03B019/00

CPC分类号： C03B7/12 ,  C03B7/14 ,  C03B19/02 ,  C03B40/04

摘要： Disclosed is a method of and device for manufacturing a molded glass object. In the method, glass melt is made to flow from the front end portion of a nozzle; a prescribed weight of the glass melt flowing out is received by a glass melt receiving portion provided on a forming mold moved beneath the nozzle, wherein multiple forming molds are sequentially moved beneath the nozzle; the glass melt gob received is moved from the glass melt receiving portion to a hollow provided on said forming mold; and in the hollow, a molded glass object is formed while blowing gas upward through a gas outlet provided in the bottom of the hollow. The method is characterized in that the front end of said nozzle is constantly positioned outside the space vertically above said gas outlet. Methods of manufacturing press molded articles of glass and optical glass elements are described. In these method, a molded glass object manufactured by the above method is heated, softened, and press molded or precision press molded.

摘要翻译： 公开了一种用于制造模制玻璃物体的方法和装置。 在该方法中，使玻璃熔体从喷嘴的前端部流出， 流出的玻璃熔体的规定重量由设置在喷嘴下方的成型模具上的玻璃熔体接收部分接收，其中多个成形模具顺序地在喷嘴下方移动; 接收的玻璃熔体料料从玻璃熔体接收部分移动到设置在所述成型模具上的中空部分; 并且在中空部中，在通过设置在中空部的底部的气体出口向上吹气的同时形成模制玻璃物体。 该方法的特征在于，所述喷嘴的前端始终位于垂直于所述气体出口上方的空间的外部。 描述制造玻璃和光学玻璃元件的压制成型品的方法。 在这些方法中，通过上述方法制造的模制玻璃物体被加热，软化，并且被压模或精密模压。

公开(公告)号：US20040121247A1

公开(公告)日：2004-06-24

申请号：US10733009

申请日：2003-12-10

发明人： George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Michelle Diane Pierson

IPC分类号： B32B015/00 ,  B32B009/00 ,  C03B037/10 ,  B32B017/06 ,  C03B037/018 ,  G02B006/18 ,  C03B037/075 ,  C03C013/00 ,  G02B006/00 ,  C03C003/112 ,  C03B019/00 ,  G03F009/00

CPC分类号： C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/043 ,  C03B23/045 ,  C03B23/051 ,  C03B23/07 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/60

摘要： The present invention is a method of making a lithography photomask and photomask blank. The method of making the lithography photomask and photomask blank includes providing a silicon oxyfluoride glass tube having an OH content less than 50 ppm. The method further includes cutting the silicon oxyfluoride glass tube, flattening the silicon oxyfluoride glass tube, and forming the flattened cut silicon oxyfluoride glass tube into a photomask blank having a planar surface. The present invention includes a glass lithography mask preform. The glass lithography mask preform is a longitudinal silicon oxyfluoride glass tube that has an OH contentnull10 ppm, a F wt. % concentrationnull0.5 wt. %.

摘要翻译： 本发明是制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法。 制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法包括提供OH含量低于50ppm的氟氧化硅玻璃管。 该方法还包括切割氟氧化硅玻璃管，使氟氧化硅玻璃管扁平化，并将扁平切割的氟氧化硅玻璃管形成具有平坦表面的光掩模坯料。 本发明包括玻璃光刻掩模预制件。 玻璃光刻掩模预制件是具有OH含量<= 10ppm的纵向硅氧氟化物玻璃管，F wt。 ％浓度> = 0.5wt。 ％。

公开(公告)号：US20030131627A1

公开(公告)日：2003-07-17

申请号：US10266630

申请日：2002-10-09

发明人： Monika Oswald ,  Gerrit Schneider ,  Jurgen Meyer

IPC分类号： C03B019/00

CPC分类号： C03B19/06 ,  C03B19/1095 ,  C03B32/00 ,  C03C1/026

摘要： A method for producing ultra-high purity, optical quality, glass articles is disclosed which involves: 1. compacting metaloxide or metalloidoxide to granules having a mean particle size of less than about 1 millimeter; 2. optionally fully sintering the granules to produce high purity, artificial sand; 3. casting the artificial sand by conventional techniques, such as, slip casting, to form a high density, porous, green body; 4. optionally drying and partially sintering the green body; 5. optionally fully sintering the green body under vacuum; and 6. optionally hot isostatic pressing the green body.

摘要翻译： 公开了一种生产超高纯度，光学品质的玻璃制品的方法，其涉及：1.将金属氧化物或金属氧化物压制成具有小于约1毫米的平均粒度的颗粒; 2.可选地完全烧结颗粒以产生高纯度人造砂; 3.通过常规技术如滑移铸造铸造人造砂，形成高密度，多孔，生坯; 4.可选地干燥和部分烧结生坯; 5.选择在真空下完全烧结生坯; 和6.可选的热等静压按压生坯。

公开(公告)号：US20010011465A1

公开(公告)日：2001-08-09

申请号：US09775082

申请日：2001-01-31

发明人： Thomas P. Seward III

IPC分类号： C03B027/012 ,  C03B019/00 ,  C03C010/00 ,  C03B032/00 ,  C01B003/00

CPC分类号： C03C23/0005 ,  C03C21/007 ,  C03C23/0025 ,  C03C23/004 ,  G02B1/12

摘要： This invention relates to a method of rendering fused silica resistant to compaction caused by UV laser beam irradiation. The method of the invention results is a fused silica member that is desensitized to compaction caused by the long-term exposure to UV laser beams. The invention includes a means to pre-compact fused silica members using high energy radiation.

摘要翻译： 本发明涉及一种使由紫外激光束照射引起的压实作用的熔融二氧化硅的方法。 本发明的方法是对由UV激光束的长期暴露引起的压实脱敏的熔融二氧化硅构件。 本发明包括使用高能量辐射预压缩熔融二氧化硅构件的方法。

公开(公告)号：US20040050099A1

公开(公告)日：2004-03-18

申请号：US10628350

申请日：2003-07-29

申请人： JAPAN SUPER QUARTZ CORPORATION

发明人： Masanori Fukui ,  Masaru Satoh

IPC分类号： C03B019/00

CPC分类号： C03B32/00 ,  C03B19/095 ,  C03B29/02 ,  C30B15/10

摘要： A reforming process of a quartz glass crucible in which the quartz glass crucible is reformed by an arc discharge generated by electrodes positioned around a rotational axis and configured to heat an inside surface of the crucible while the crucible is rotated. The process includes arranging electrodes in an electrode structure such that neighboring electrodes are positioned at regular intervals in a ring-like configuration; forming a stable ring-like arc between the neighboring electrodes, without generating a continuous arc between electrodes facing each other across a central portion of the ring-like configuration; heating the inside surface of the crucible; and removing a foreign substance located on the inside surface of the crucible or a bubble located under the inside surface of the crucible.

摘要翻译： 一种石英玻璃坩埚的重整工艺，其中石英玻璃坩埚通过由位于旋转轴线周围的电极产生的电弧放电而重构，并且构造成在坩埚旋转的同时加热坩埚的内表面。 该方法包括在电极结构中布置电极，使得相邻的电极以规定的间隔以环状构造定位; 在相邻电极之间形成稳定的环状电弧，而不会在环状构造的中心部分彼此面对的电极之间产生连续的电弧; 加热坩埚的内表面; 并且去除位于坩埚内表面上的异物或位于坩埚内表面下方的气泡。

公开(公告)号：US20020078709A1

公开(公告)日：2002-06-27

申请号：US09942779

申请日：2001-08-31

申请人： TOSOH CORPORATION

发明人： Hiroya Nagata ,  Masayuki Kudo ,  Koji Tsukuma ,  Yoshikazu Kikuchi ,  Tomoyuki Akiyama

IPC分类号： C03B019/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/09 ,  C03C11/007 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  Y10S65/08 ,  Y10T428/1317 ,  Y10T428/249969

摘要： An opaque silica glass article comprising a transparent portion and an opaque portion, wherein the opaque portion has an apparent density of 1.70-2.15 g/cm3 and contains 5null104-5null106 bubbles per cm3, said bubbles having an average diameter of 10-100 nullm; and the transparent portion has an apparent density of 2.19-2.21 g/cm3 and the amount of bubbles having a diameter of at least 100 nullm in the transparent portion is not more than 1null103 per cm3. The opaque silica glass article is made by a process wherein a mold is charged with a raw material for forming the opaque portion, which is a mixture comprising a silica powder with a small amount of a silicon nitride powder, and a raw material for forming the transparent portion so that the two raw materials are located in the positions corresponding to the opaque and the transparent portions, respectively, of the silica glass article to be produced; and the raw materials are heated in vacuo to be thereby vitrified.

摘要翻译： 一种不透明的玻璃制品，包括透明部分和不透明部分，其中不透明部分的表观密度为1.70-2.15g / cm 3，并且每立方厘米含有5×10 4〜5×10 6个气泡，所述气泡的平均直径为10〜100μm; 并且透明部分的表观密度为2.19-2.21g / cm 3，透明部分中直径至少为100μm的气泡量不超过1×103 / cm3。 不透明的石英玻璃制品通过以下方法制造，其中模具装有用于形成不透明部分的原料，该不透明部分是包含少量氮化硅粉末的二氧化硅粉末的混合物，以及用于形成 透明部分，使得两个原料分别位于与待制造的石英玻璃制品的不透明部分和透明部分相对应的位置; 并将原料真空加热，从而玻璃化。

公开(公告)号：US20020018942A1

公开(公告)日：2002-02-14

申请号：US09841517

申请日：2001-04-24

发明人： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Lisa A. Moore ,  Susan L. Schiefelbein ,  Robert S. Pavlik JR.

IPC分类号： B32B015/00 ,  B32B009/00 ,  B32B017/06 ,  G03G016/00 ,  G03F009/00 ,  C03B037/10 ,  C03B037/018 ,  G02B006/18 ,  C03B037/075 ,  C03C013/00 ,  C03B019/06 ,  C03B019/00 ,  G02B006/00

CPC分类号： G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B37/01202 ,  C03B37/01406 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/0146 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03B2207/40 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/54 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

摘要： High purity direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed. The inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass is transmissive at wavelengths around 157 nm, making it particularly useful as a photomask substrate at the 157 nm wavelength region. The inventive photomask substrate is a dry direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass which exhibits very high transmittance in the vacuum ultraviolet (VUV) wavelength region while maintaining the excellent thermal and physical properties generally associated with high purity fused silica. In addition to containing fluorine and having little or no OH content, the inventive direct deposit vitrified silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrate at 157 nm is also characterized by having less than 1null1017 molecules/cm3 of molecular hydrogen and low chlorine levels.

摘要翻译： 公开了适用于在190nm以下的VUV波长区域中用于光刻应用的光掩模基板的高纯度直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃。 本发明的直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃在157nm波长附近是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是在真空紫外（VUV）波长区域中显示非常高的透射率的干直接沉积玻璃化硅氧氟化物玻璃，同时保持通常与高纯度熔融二氧化硅相关的优异的热和物理性能。 除了含氟且具有很少或不含OH含量之外，本发明的适用于157nm的光掩模衬底的直接沉积玻璃化氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低氯水平。

公开(公告)号：US20040007019A1

公开(公告)日：2004-01-15

申请号：US10194504

申请日：2002-07-12

发明人： Jeffrey T. Kohli

IPC分类号： C03B019/06 ,  C03B019/00

CPC分类号： C03B35/246 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B23/037 ,  C03B23/203 ,  C03B35/14

摘要： A method of forming a glass sheet includes obtaining a preform generated from a glass composition and conveying the preform through a channel having a temperature that decreases along a length of the channel to form a glass sheet having a predetermined width and thickness.

摘要翻译： 形成玻璃板的方法包括获得由玻璃组合物产生的预成型体，并通过具有沿通道长度减小的温度的通道输送预成型体以形成具有预定宽度和厚度的玻璃板。

公开(公告)号：US20030226377A1

公开(公告)日：2003-12-11

申请号：US10378390

申请日：2003-03-03

发明人： W. Tim Barrett ,  Bradley F. Bowden ,  Claude L. Davis ,  Kenneth E. Hrdina ,  Michael MR. Robinson ,  Michael H. Wasilewski ,  John F. Wight

IPC分类号： C03B019/00

CPC分类号： C03B32/005 ,  C03B19/01 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10

摘要： Methods and apparatus for manufacturing titania-containing fused silica bodies are disclosed. The titania-containing fused silica bodies are subsequently processed to make extreme ultraviolet soft x-ray masks. The methods and apparatus involve providing powders external to a furnace cavity and depositing the powders in the furnace cavity to form a titania-containing fused silica body.

摘要翻译： 公开了制造含二氧化钛的熔融石英体的方法和装置。 随后处理含二氧化钛的熔融二氧化硅体以制造极紫外线软X射线掩模。 所述方法和装置包括在炉腔外部提供粉末并将粉末沉积在炉腔中以形成含二氧化钛的熔融二氧化硅体。