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    Composition for forming liquid immersion upper layer film, resist pattern-forming method, polymer, and compound
    2.
    发明授权
    Composition for forming liquid immersion upper layer film, resist pattern-forming method, polymer, and compound 有权
    用于形成液浸上层膜的组合物，抗蚀剂图案形成方法，聚合物和化合物

    公开(公告)号：US09046775B2

    公开(公告)日：2015-06-02

    申请号：US14032528

    申请日：2013-09-20

    申请人： JSR CORPORATION

    发明人： Shinya Minegishi ,  Kiyoshi Tanaka ,  Kazunori Kusabiraki

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  C08F214/18

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F214/18 ,  C08F214/182 ,  C08F214/186 ,  C08F220/26 ,  C08L33/16 ,  C09D133/14 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/24 ,  C08F228/02 ,  C08F220/38

    摘要： A composition for forming a liquid immersion upper layer film includes a polymer component including a polymer having a structural unit represented by a formula (1); and a solvent. R1 represents a carboxy group or a group represented by a formula (2); X represents a single bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or a divalent fluorinated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms; R2 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a valency of (n+1), a fluorinated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a valency of (n+1), or one of these groups each including between adjacent two carbon atoms thereof —CO—, —COO—, —O—, —NR′—, —CS—, —S—, —SO—, —SO2— or a combination thereof; and R3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms.

    摘要翻译： 用于形成液浸上层膜的组合物包括含有具有由式（1）表示的结构单元的聚合物的聚合物组分; 和溶剂。 R1表示羧基或由式（2）表示的基团。 X表示单键，碳原子数1〜20的二价烃基或碳原子数1〜20的二价氟代烃基。 R 2表示碳原子数1〜20的烃基，（n + 1）的化合价，碳原子数1〜20的氟代烃基，（n + 1）的化合价， -CO - ， - CO-， - O - ， - NR' - ， - S-，-S - ， - SO - ， - SO 2 - 或其组合的两个碳原子; R3表示氢原子或碳原子数1〜20的1价有机基团。

    Composition for forming liquid immersion upper layer film, and polymer
    3.
    发明授权
    Composition for forming liquid immersion upper layer film, and polymer 有权
    用于形成液浸上层膜的组合物和聚合物

    公开(公告)号：US09540535B2

    公开(公告)日：2017-01-10

    申请号：US13852194

    申请日：2013-03-28

    申请人： JSR CORPORATION

    发明人： Kiyoshi Tanaka ,  Kazunori Kusabiraki ,  Takahiro Hayama ,  Motoyuki Shima

    IPC分类号： C08F20/26 ,  C08F20/22 ,  C08F20/34 ,  C08F20/36 ,  C09D133/16 ,  C08F20/28 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

    CPC分类号： C09D135/02 ,  C08F20/28 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/281 ,  C09D133/16 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

    摘要： An immersion upper layer film-forming composition includes [A] a polymer component that includes a polymer (A1), and [B] a solvent, the polymer (A1) including a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (i). The structural unit (I) is preferably a structural unit (I-1) represented by the following formula (1). The polymer component [A] preferably further includes a structural unit (II-1) represented by the following formula (2), the structural unit (II-1) being included in the polymer (A1) or a polymer other than the polymer (A1). The polymer component [A] preferably further includes a structural unit (III) that includes a carboxyl group, the structural unit (III) being included in the polymer (A1) or a polymer other than the polymer (A1).

    摘要翻译： 浸渍上层成膜组合物包括[A]包含聚合物（A1）的聚合物组分和[B]溶剂，包含结构单元（I）的聚合物（A1）包括由下列 式（i）。 结构单元（I）优选为由下式（1）表示的结构单元（I-1）。 聚合物组分[A]优选还包括由下式（2）表示的结构单元（II-1），包含在聚合物（A1）中的结构单元（II-1）或除聚合物 A1）。 聚合物组分[A]优选还包括包含羧基的结构单元（III），包含在聚合物（A1）中的结构单元（III）或聚合物（A1）以外的聚合物。

    UPPER LAYER-FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERNING METHOD
    4.
    发明申请
    UPPER LAYER-FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERNING METHOD 审中-公开
    上层成型和电阻图案方法

    公开(公告)号：US20160109801A1

    公开(公告)日：2016-04-21

    申请号：US14978672

    申请日：2015-12-22

    申请人： JSR Corporation

    发明人： Takahiro Hayama ,  Kazunori Kusabiraki ,  Yukio Nishimura ,  Ken Maruyama ,  Kiyoshi Tanaka

    IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： A liquid immersion lithography upper-layer film-forming composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) shown by the following formula (1), and (S) a solvent. R1 in the formula (1) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (II) that includes a sulfo group. The polymer (A) preferably further includes a structural unit (III) shown by the following formula (3). R2 in the formula (3) represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group. R3 represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or a monovalent alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, provided that at least one hydrogen atom of the hydrocarbon group or the alicyclic group is substituted with a fluorine atom.

    摘要翻译： 液浸光刻上层成膜组合物包含（A）包含下式（1）所示的结构单元（I）的聚合物和（S）溶剂。 式（1）中的R 1表示氢原子，甲基或三氟甲基。 聚合物（A）优选还包括包含磺基的结构单元（II）。 聚合物（A）优选还包含由下式（3）表示的结构单元（III）。 式（3）中的R 2表示氢原子，甲基或三氟甲基。 R 3表示碳原子数1〜12的直链或支链一价烃基或碳原子数3〜20的一价脂环式基，其中烃基或脂环族基中的至少一个氢原子被氟原子取代。