公开(公告)号：US5099044A

公开(公告)日：1992-03-24

申请号：US548872

申请日：1990-07-16

申请人： Dietrich Erdmann ,  Ludwig Pohl ,  Martin Hostalek

发明人： Dietrich Erdmann ,  Ludwig Pohl ,  Martin Hostalek

IPC分类号： C07F5/00 ,  C07F5/06 ,  C07F9/50 ,  C07F9/70 ,  C07F9/90 ,  C23C16/18 ,  C23C16/20 ,  C23C16/30

CPC分类号： C23C16/18 ,  C07F5/00 ,  C07F5/062 ,  C23C16/20 ,  C23C16/301

摘要： The invention relates to organometallic compounds which are intramolecularly stabilized, and also to their use for the production of thin films and epitaxial layers by gas-phase deposition.

摘要翻译： PCT No.PCT / EP89 / 01431 Sec。 371日期1990年7月16日 102（e）日期1990年7月16日PCT 1991年11月27日PCT PCT。 出版物WO90 / 06315 日期：1990年6月14日。本发明涉及分子内稳定的有机金属化合物，以及它们用于通过气相沉积生产薄膜和外延层的用途。

公开(公告)号：US5030741A

公开(公告)日：1991-07-09

申请号：US353740

申请日：1989-05-18

申请人： Dietrich Erdmann ,  Ludwig Pohl ,  Martin Hostalek ,  Matthias Lokai

发明人： Dietrich Erdmann ,  Ludwig Pohl ,  Martin Hostalek ,  Matthias Lokai

IPC分类号： C07F5/00 ,  C07F5/06 ,  C07F9/50 ,  C07F9/80 ,  C07F9/90 ,  C23C16/30 ,  C30B25/02

CPC分类号： C30B25/02 ,  C07F5/00 ,  C07F5/062 ,  C23C16/30 ,  C30B29/40

摘要： The invention relates to cyclic organometallic compounds which are intramolecularly stabilized and also to their use to produce thin films and epitaxial layers by gas-phase deposition.

摘要翻译： 本发明涉及分子内稳定的环状有机金属化合物，也涉及通过气相沉积制备薄膜和外延层的用途。

公开(公告)号：US5209952A

公开(公告)日：1993-05-11

申请号：US752697

申请日：1991-09-06

申请人： Dietrich Erdmann ,  Ludwig Pohl ,  Martin Hostalek

发明人： Dietrich Erdmann ,  Ludwig Pohl ,  Martin Hostalek

IPC分类号： C07F5/00 ,  C07F5/06 ,  C07F9/70 ,  C07F9/90 ,  C23C16/30 ,  C30B25/02 ,  C30B29/40

CPC分类号： C30B25/02 ,  C07F5/00 ,  C23C16/301 ,  C30B29/40

摘要： The invention relates to the use of organometallic compounds containing, as metals, aluminum, gallium or indium for the deposition of thin films or epitactic layers from the gas phase.

摘要翻译： PCT No.PCT / EP90 / 00356 Sec。 371日期1991年9月6日 102（e）1991年9月6日PCT PCT 1990年3月3日PCT公布。 公开号WO90 / 10726 日期1986年9月20日。本发明涉及含有金属，铝，镓或铟的有机金属化合物用于从气相沉积薄膜或外延层。

公开(公告)号：US5015747A

公开(公告)日：1991-05-14

申请号：US348624

申请日：1989-04-07

申请人： Martin Hostalek ,  Ludwig Pohl ,  Dietrich Erdmann ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

发明人： Martin Hostalek ,  Ludwig Pohl ,  Dietrich Erdmann ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

IPC分类号： C30B29/40 ,  C07F5/00 ,  C07F5/06 ,  C23C16/18 ,  C23C16/20

CPC分类号： C07F5/00

摘要： The invention relates to organometallic compounds which are stabilized intramolecularly and have a cyclic or bicyclic structure and to the use thereof for the preparation of thin films and epitaxial layers by gas phase deposition.

摘要翻译： PCT No.PCT / EP88 / 00674 Sec。 371日期：1989年4月7日 102（e）日期1989年4月7日PCT Filed 1988年7月26日PCT Pub。 出版物WO89 / 01479 日期：1989年2月23日。本发明涉及分子内稳定且具有环状或双环结构的有机金属化合物及其用于通过气相沉积制备薄膜和外延层的用途。

公开(公告)号：US4880492A

公开(公告)日：1989-11-14

申请号：US96583

申请日：1987-09-15

申请人： Dietrich Erdmann ,  Max E. Van Ghemen ,  Ludwig Pohl ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Wilfried Wassermann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

发明人： Dietrich Erdmann ,  Max E. Van Ghemen ,  Ludwig Pohl ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Wilfried Wassermann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

IPC分类号： C07F5/00 ,  C07F5/06 ,  C23C16/18 ,  C23C16/20 ,  C30B25/02 ,  C30B29/40 ,  H01L21/205

CPC分类号： C30B25/02 ,  C07F5/00 ,  C23C16/18 ,  C30B29/02 ,  C30B29/40

摘要： In a process for the production of thin films and epitaxial layers by gas-phase deposition, intramolecularly stabilized organometallic compounds are employed as a source of metal.

摘要翻译： 在通过气相沉积制造薄膜和外延层的方法中，使用分子内稳定的有机金属化合物作为金属源。

公开(公告)号：US5149853A

公开(公告)日：1992-09-22

申请号：US789518

申请日：1991-11-08

申请人： Dietrich Erdmann ,  Max E. Van Ghemen ,  Ludwig Pohl ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Wilfried Wassermann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

发明人： Dietrich Erdmann ,  Max E. Van Ghemen ,  Ludwig Pohl ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Wilfried Wassermann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

IPC分类号： C07F5/00 ,  C23C16/18 ,  C30B25/02

CPC分类号： C30B25/02 ,  C07F5/00 ,  C23C16/18 ,  C30B29/02 ,  C30B29/40

摘要： In a process for the production of thin films and epitaxial layers by gas-phase deposition, intramolecularly stabilized organometallic compounds are employed as a source of metal.

摘要翻译： 在通过气相沉积制造薄膜和外延层的方法中，使用分子内稳定的有机金属化合物作为金属源。

公开(公告)号：US4073742A

公开(公告)日：1978-02-14

申请号：US781276

申请日：1977-03-25

申请人： Dietrich Erdmann ,  Rudolf Eidenschink ,  Joachim Krause ,  Ludwig Pohl

发明人： Dietrich Erdmann ,  Rudolf Eidenschink ,  Joachim Krause ,  Ludwig Pohl

IPC分类号： C07C67/00 ,  C07C253/00 ,  C07C255/53 ,  C07C255/55 ,  C07C255/57 ,  C07C327/20 ,  C09K19/00 ,  C09K19/20 ,  C09K19/28 ,  C09K19/46 ,  C09K3/34 ,  C07C121/60 ,  C07C121/64 ,  G02F1/13

CPC分类号： C07C255/00 ,  C07C327/00 ,  C09K19/2007 ,  C09K19/28

摘要： Biphenyl derivatives of the formula: ##STR1## wherein X is --CO--O-- or --O--CO--, R.sub.1 and R.sub.4 are alkyl of 1 to 10 carbon atoms, and one of R.sub.2 and R.sub.3 is CN and the other is H, are useful for lowering the dielectric anisotropy of liquid crystalline dielectrics.

摘要翻译： 下式的联苯衍生物：其中X是-CO-O-或-O-CO-，R1和R4是1-10个碳原子的烷基，R2和R3之一是CN，另一个是H， 对于降低液晶电介质的介电各向异性是有用的。

公开(公告)号：US5112432A

公开(公告)日：1992-05-12

申请号：US389197

申请日：1989-08-03

申请人： Dietrich Erdmann ,  Max E. Van Ghemen ,  Ludwig Pohl ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Wilfried Wassermann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

发明人： Dietrich Erdmann ,  Max E. Van Ghemen ,  Ludwig Pohl ,  Herbert Schumann ,  Uwe Hartmann ,  Wilfried Wassermann ,  Meino Heyen ,  Holger Jurgensen

IPC分类号： C07F5/00 ,  C07F5/06 ,  C23C16/18 ,  C23C16/20 ,  C30B25/02 ,  C30B29/40 ,  H01L21/205

CPC分类号： C30B25/02 ,  C07F5/00 ,  C23C16/18 ,  C30B29/02 ,  C30B29/40

摘要： In a process for the production of thin films and epitaxial layers by gas-phase deposition, intramolecularly stabilized organometallic compounds are employed as a source of metal.

公开(公告)号：US4330426A

公开(公告)日：1982-05-18

申请号：US166663

申请日：1980-07-07

申请人： Rudolf Eidenschink ,  Dietrich Erdmann ,  Joachim Krause ,  Ludwig Pohl

发明人： Rudolf Eidenschink ,  Dietrich Erdmann ,  Joachim Krause ,  Ludwig Pohl

IPC分类号： C07C69/017 ,  C07C1/00 ,  C07C1/22 ,  C07C13/28 ,  C07C17/00 ,  C07C17/18 ,  C07C22/08 ,  C07C41/00 ,  C07C43/21 ,  C07C43/225 ,  C07C49/792 ,  C07C67/00 ,  C07C69/035 ,  C09K19/14 ,  C09K19/30 ,  C09K19/42 ,  C09K19/44 ,  C09K19/54 ,  G02F1/13 ,  C07C21/24 ,  C07C43/205 ,  C09K3/34

CPC分类号： C07C17/35 ,  C07C1/22 ,  C07C13/28 ,  C07C22/08 ,  C07C37/0555 ,  C07C39/17 ,  C07C43/21 ,  C07C43/225 ,  C07C45/46 ,  C07C49/792 ,  C09K19/3003 ,  C07C2101/14 ,  C07C2521/18 ,  C07C2523/44

摘要： Compounds of the formula ##STR1## wherein R.sub.1 is alkyl of 1-12 C atoms and R.sub.2 is an optionally perfluorinated alkyl, alkoxy or alkanoyloxy group, each of 1-12 C atoms are valuable liquid crystalline components for broadening the mesophase temperature range of liquid crystalline dielectrics having negative dielectric anisotropy.

摘要翻译： 其中R1为1-12个碳原子的烷基，R2为任选的全氟化烷基，烷氧基或烷酰氧基的化合物，其中1-12个C原子是有价值的液晶组分，用于拓宽液体的中间相温度范围 具有负介电各向异性的晶体介质。

公开(公告)号：US4028412A

公开(公告)日：1977-06-07

申请号：US658507

申请日：1976-02-17

申请人： Jurgen Gehlhaus ,  Dietrich Erdmann

发明人： Jurgen Gehlhaus ,  Dietrich Erdmann

IPC分类号： C09K3/00 ,  C01G3/00 ,  C07C45/62 ,  C07C45/68 ,  C07C49/83 ,  C07C49/835 ,  C07C67/00 ,  C07C239/00 ,  C07C251/48 ,  C07C131/00

CPC分类号： C07C49/835 ,  C01G3/00 ,  C07C45/62 ,  C07C45/68 ,  C07C49/83 ,  Y10S423/14

摘要： Benzoin oximes of the formula ##STR1## wherein R.sup.1 is alkyl of 3 to 16 carbon atoms, alkenyl of 3 or 4 carbon atoms, 3,7-dimethyl-2,6-octadienyl-1, or -A-S-R.sup.4 ; R.sup.2 and R.sup.3 independently are H, methyl or chlorine; R.sup.4 is alkyl or 1 to 8 carbon atoms; and A is alkylene of 3 or 4 carbon atoms, are chelating agents for copper.

摘要翻译： 其中R 1是3至16个碳原子的烷基，3或4个碳原子的链烯基，3,7-二甲基-2,6-辛二烯基-1或-A-S-R 4的苯偶姻肟; R2和R3独立地是H，甲基或氯; R4是烷基或1至8个碳原子; A是3或4个碳原子的亚烷基，是铜的螯合剂。