公开(公告)号：US08889609B2

公开(公告)日：2014-11-18

申请号：US13414339

申请日：2012-03-07

申请人： Aiping Wu ,  Yi-Chia Lee ,  Wen Dar Liu ,  Machukar Bhaskara Rao ,  Gautam Banerjee

发明人： Aiping Wu ,  Yi-Chia Lee ,  Wen Dar Liu ,  Machukar Bhaskara Rao ,  Gautam Banerjee

IPC分类号： C11D7/50 ,  C11D3/20 ,  C11D11/00 ,  C11D3/00 ,  C11D3/30 ,  C11D7/26 ,  C11D3/43 ,  C11D7/06 ,  C11D7/32 ,  C11D3/28 ,  C11D3/04

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/044 ,  C11D3/2034 ,  C11D3/2058 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/43 ,  C11D7/06 ,  C11D7/261 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5004 ,  C23G1/22

摘要： A water-rich hydroxylamine formulation for photoresist and post-etch/post-ash residue removal in applications wherein a semiconductor substrate comprises aluminum. The cleaning composition comprises from about 2 to about 15% by wt. of hydroxylamine; from about 50 to about 80% by wt. of water; from about 0.01 to about 5.0% by wt. of a corrosion inhibitor; from about 5 to about 45% by wt. of a component selected from the group consisting of: an alkanolamine having a pKa

摘要翻译： 在半导体衬底包括铝的应用中，用于光致抗蚀剂和后蚀刻/后灰渣残留物去除的富水羟胺制剂。 清洁组合物包含约2至约15重量％ 的羟胺; 约50至约80重量％。 的水; 约0.01至约5.0重量％。 的腐蚀抑制剂; 约5至约45重量％。 选自：具有pKa <9.0的链烷醇胺，水混溶性溶剂及其混合物的组分。 这种组合物的使用对于Al基材显示出有效的清洁能力，最小的硅蚀刻，同时保护包含这两种材料的基材的铝。

公开(公告)号：US20130061882A1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：US13414339

申请日：2012-03-07

申请人： Aiping Wu ,  Yi-Chia Lee ,  Wen Dar Liu ,  Machukar Bhaskara Rao ,  Gautam Banerjee

发明人： Aiping Wu ,  Yi-Chia Lee ,  Wen Dar Liu ,  Machukar Bhaskara Rao ,  Gautam Banerjee

IPC分类号： C11D7/60 ,  B08B3/04

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/044 ,  C11D3/2034 ,  C11D3/2058 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/43 ,  C11D7/06 ,  C11D7/261 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5004 ,  C23G1/22

摘要： A water-rich hydroxylamine formulation for photoresist and post-etch/post-ash residue removal in applications wherein a semiconductor substrate comprises aluminum. The cleaning composition comprises from about 2 to about 15% by wt. of hydroxylamine; from about 50 to about 80% by wt. of water; from about 0.01 to about 5.0% by wt. of a corrosion inhibitor; from about 5 to about 45% by wt. of a component selected from the group consisting of: an alkanolamine having a pKa

摘要翻译： 在半导体衬底包括铝的应用中，用于光致抗蚀剂和后蚀刻/后灰渣残留物去除的富水羟胺制剂。 清洁组合物包含约2至约15重量％ 的羟胺; 约50至约80重量％。 的水; 约0.01至约5.0重量％。 的腐蚀抑制剂; 约5至约45重量％。 选自：具有pKa <9.0的链烷醇胺，水混溶性溶剂及其混合物的组分。 这种组合物的使用对于Al基材显示出有效的清洁能力，最小的硅蚀刻，同时保护包含这两种材料的基材的铝。