公开(公告)号：US20100081259A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：US12242990

申请日：2008-10-01

申请人： Chung Woh Lai ,  Xiao Hu Liu ,  Anita Madan ,  Klaus W. Schwarz ,  J. Campbell Scott

发明人： Chung Woh Lai ,  Xiao Hu Liu ,  Anita Madan ,  Klaus W. Schwarz ,  J. Campbell Scott

IPC分类号： H01L21/22 ,  G21K5/00

CPC分类号： H01L21/3221 ,  H01L21/268 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/3226 ,  H01L29/1054 ,  H01L29/7842

摘要： A method for generating patterned strained regions in a semiconductor device is provided. The method includes directing a light-emitting beam locally onto a surface portion of a semiconductor body; and manipulating a plurality of dislocations located proximate to the surface portion of the semiconductor body utilizing the light-emitting beam, the light-emitting beam being characterized as having a scan speed, so as to produce the patterned strained regions.

摘要翻译： 提供了一种在半导体器件中产生图案化应变区域的方法。 该方法包括将发光束局部引导到半导体本体的表面部分上; 以及利用所述发光束操作位于所述半导体主体的表面部分附近的多个位错，所述发光束的特征在于具有扫描速度，以便产生所述图案化的应变区域。

公开(公告)号：US20120294322A1

公开(公告)日：2012-11-22

申请号：US13565018

申请日：2012-08-02

申请人： Chung Woh Lai ,  Xiao Hu Liu ,  Anita Madan ,  Klaus W. Schwarz ,  J. Campbell Scott

发明人： Chung Woh Lai ,  Xiao Hu Liu ,  Anita Madan ,  Klaus W. Schwarz ,  J. Campbell Scott

IPC分类号： H01S3/10

CPC分类号： H01L21/3221 ,  H01L21/268 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/3226 ,  H01L29/1054 ,  H01L29/7842

摘要： A system for manipulating dislocations on semiconductor devices, includes a moveable laser configured to generate a laser beam locally on a surface portion of the semiconductor body having a plurality of dislocations, the moveable laser being characterized as having a scan speed, the moveable laser manipulates the plurality of dislocations on the surface portion of the semiconductor body by adjusting the temperature and the scan speed of the laser beam.

摘要翻译： 一种用于操纵半导体器件上的位错的系统，包括可移动激光器，其被配置为在具有多个位错的半导体主体的表面部分局部地产生激光束，所述可移动激光器的特征在于具有扫描速度，所述可移动激光器 通过调整激光束的温度和扫描速度，半导体本体的表面部分上的多个位错。

公开(公告)号：US08138066B2

公开(公告)日：2012-03-20

申请号：US12242990

申请日：2008-10-01

申请人： Chung Woh Lai ,  Xiao Hu Liu ,  Anita Madan ,  Klaus W. Schwarz ,  J. Campbell Scott

发明人： Chung Woh Lai ,  Xiao Hu Liu ,  Anita Madan ,  Klaus W. Schwarz ,  J. Campbell Scott

IPC分类号： H01L21/322

CPC分类号： H01L21/3221 ,  H01L21/268 ,  H01L21/2686 ,  H01L21/3226 ,  H01L29/1054 ,  H01L29/7842

摘要： A method for generating patterned strained regions in a semiconductor device is provided. The method includes directing a light-emitting beam locally onto a surface portion of a semiconductor body; and manipulating a plurality of dislocations located proximate to the surface portion of the semiconductor body utilizing the light-emitting beam, the light-emitting beam being characterized as having a scan speed, so as to produce the patterned strained regions.

摘要翻译： 提供了一种在半导体器件中产生图案化应变区域的方法。 该方法包括将发光束局部引导到半导体本体的表面部分上; 以及利用所述发光束操作位于所述半导体主体的表面部分附近的多个位错，所述发光束的特征在于具有扫描速度，以便产生所述图案化的应变区域。