公开(公告)号：US20080026146A1

公开(公告)日：2008-01-31

申请号：US11906071

申请日：2007-09-28

申请人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi

发明人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi

IPC分类号： C23C16/44

CPC分类号： C23C16/0227 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B05D3/142 ,  B05D3/145 ,  B05D7/52 ,  B05D7/56 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C17/42 ,  C03C23/006 ,  C23C16/0245 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/401 ,  C23C16/402 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45557 ,  C23C16/56 ,  Y10T428/12618 ,  Y10T428/12632 ,  Y10T428/24 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/261 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

摘要： An improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of multilayered films/coatings on substrates is described. The method is used to deposit multilayered coatings where the thickness of an oxide-based layer in direct contact with a substrate is controlled as a function of the chemical composition of the substrate, whereby a subsequently deposited layer bonds better to the oxide-based layer. The improved method is used to deposit multilayered coatings where an oxide-based layer is deposited directly over a substrate and a SAM organic-based is directly deposited over the oxide-based layer. Typically a series of alternating layers of oxide-based layer and organic-based layer are applied.

摘要翻译： 描述了一种用于在基底上施加多层膜/涂层的改进的气相沉积方法和装置。 该方法用于沉积与衬底直接接触的氧化物基层的厚度作为衬底的化学组成的函数来控制多层涂层，由此随后沉积的层更好地结合到氧化物基层。 改进的方法用于沉积多层涂层，其中氧化物基层直接沉积在衬底上，并且基于SAM的有机基层直接沉积在氧化物基层上。 通常，应用一系列交替层的氧化物基层和基于有机的层。

公开(公告)号：US20060088666A1

公开(公告)日：2006-04-27

申请号：US11295129

申请日：2005-12-05

申请人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak

发明人： Boris Kobrin ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： B05D1/60 ,  B05D3/064 ,  B82Y30/00

摘要： We have developed an improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of layers and coatings on various substrates. The method and apparatus are useful in the fabrication of biofunctional devices, Bio-MEMS devices, and in the fabrication of microfluidic devices for biological applications. In one important embodiment, a siloxane substrate surface is treated using a combination of ozone and UV radiation to render the siloxane surface more hydrophilic, and subsequently a functional coating is applied in-situ over the treated surface of the siloxane substrate.

摘要翻译： 我们已经开发了一种改进的气相沉积方法和装置，用于在各种基底上施加层和涂层。 该方法和装置可用于制造生物功能装置，生物MEMS装置以及制造用于生物应用的微流体装置。 在一个重要的实施方案中，使用臭氧和UV辐射的组合处理硅氧烷底物表面，以使硅氧烷表面更亲水，随后在硅氧烷底物的处理表面上原位施加功能性涂层。

公开(公告)号：US20060029732A1

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：US10912656

申请日：2004-08-04

申请人： Boris Kobrin ,  William Ashurst ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak

发明人： Boris Kobrin ,  William Ashurst ,  Jeffrey Chinn ,  Romuald Nowak

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/0272 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B05D3/142 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/56

摘要： We have developed an improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of organic films/coatings containing a variety of functional groups on substrates. Most substrates can be coated using the method of the invention. The substrate surface is halogenated using a vaporous halogen-containing compound, followed by a reaction with at least one organic molecule containing at least one nucleophilic functional group capable of reacting with a halogenated substrate surface. The halogenation of the substrate surface and the subsequent reaction with the organic molecule nucleophilic functional group are carried out in the same process chamber in a manner such that the halogenated substrate surface does not lose its functionality prior to reaction with the nucleophilic functional group(s) on the organic molecule. Typically the process chamber is operated under a pressure ranging from about 1 mTorr to about 10 Torr.

摘要翻译： 我们已经开发了一种改进的气相沉积方法和装置，用于在基底上应用含有各种官能团的有机膜/涂层。 可以使用本发明的方法涂覆大多数基底。 使用含卤素的化合物将底物表面卤化，然后与至少一种含有至少一个能够与卤化基质表面反应的亲核官能团的有机分子反应。 衬底表面的卤化和随后与有机分子亲核官能团的反应在相同的处理室中进行，使得卤化的衬底表面在与亲核官能团反应之前不失去其官能团， 在有机分子上。 通常，处理室在约1mTorr至约10Torr的压力下操作。

公开(公告)号：US20050271809A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US10862047

申请日：2004-06-04

申请人： Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi ,  Jeffrey Chinn

发明人： Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi ,  Jeffrey Chinn

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/02 ,  C23C16/40

CPC分类号： B82Y30/00 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/402

摘要： We have developed an improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of films/coatings on substrates. The method provides for the addition of a precise amount of each of the reactants to be consumed in a single reaction step of the coating formation process. In addition to the control over the amount of reactants added to the process chamber, the present invention requires precise control over the total pressure (which is less than atmospheric pressure) in the process chamber, the partial vapor pressure of each vaporous component present in the process chamber, the substrate temperature, and typically the temperature of a major processing surface within said process chamber. Control over this combination of variables determines a number of the characteristics of a film/coating or multi-layered film/coating formed using the method. By varying these process parameters, the roughness and the thickness of the films/coatings produced can be controlled.

摘要翻译： 我们已经开发了一种改进的气相沉积方法和装置，用于在基底上施加膜/涂层。 该方法提供在涂层形成过程的单个反应步骤中添加精确量的每种待消耗的反应物。 除了控制添加到处理室中的反应物的量之外，本发明需要精确控制处理室中的总压力（其小于大气压），存在于处理室中的每种气态组分的部分蒸气压 处理室，衬底温度以及典型地在所述处理室内的主处理表面的温度。 对这种变量组合的控制决定了使用该方法形成的膜/涂层或多层膜/涂层的许多特性。 通过改变这些工艺参数，可以控制所生产的膜/涂层的粗糙度和厚度。

公开(公告)号：US20050109277A1

公开(公告)日：2005-05-26

申请号：US11018173

申请日：2004-12-21

申请人： Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi ,  Jeffrey Chinn

发明人： Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi ,  Jeffrey Chinn

IPC分类号： B05D1/18 ,  B05D3/14 ,  B05D7/24 ,  C09D4/00 ,  C23C16/00 ,  C23C16/455 ,  H01L20060101

CPC分类号： B82Y30/00 ,  B05D1/185 ,  B05D1/60 ,  B05D3/142 ,  B82Y40/00 ,  C09D4/00 ,  C23C16/4485 ,  C08G77/04

摘要： A vapor phase deposition method and apparatus for the application of thin layers and coatings on substrates. The method and apparatus are useful in the fabrication of electronic devices, micro-electromechanical systems (MEMS), Bio-MEMS devices, micro and nano imprinting lithography, and microfluidic devices. The apparatus used to carry out the method provides for the addition of a precise amount of each of the reactants to be consumed in a single reaction step of the coating formation process. The apparatus provides for precise addition of quantities of different combinations of reactants during a single step or when there are a number of different individual steps in the coating formation process. The precise addition of each of the reactants in vapor form is metered into a predetermined set volume at a specified temperature to a specified pressure, to provide a highly accurate amount of reactant.

摘要翻译： 一种用于在基底上施加薄层和涂层的气相沉积方法和装置。 该方法和装置可用于制造电子设备，微机电系统（MEMS），生物MEMS装置，微型和纳米压印光刻以及微流体装置。 用于实施该方法的装置提供了在涂层形成过程的单个反应步骤中添加精确量的每种待消耗的反应物。 该装置提供在单一步骤期间或当涂层形成过程中存在许多不同的单独步骤时精确添加量的不同组合的反应物。 将蒸气形式的每种反应物的精确加入在指定温度下计量到预定设定体积至指定压力，以提供高精度的反应物。

公开(公告)号：US06583065B1

公开(公告)日：2003-06-24

申请号：US09366509

申请日：1999-08-03

申请人： Raney Williams ,  Jeffrey Chinn ,  Jitske Trevor ,  Thorsten B. Lill ,  Padmapani Nallan ,  Tamas Varga ,  Herve Mace

发明人： Raney Williams ,  Jeffrey Chinn ,  Jitske Trevor ,  Thorsten B. Lill ,  Padmapani Nallan ,  Tamas Varga ,  Herve Mace

IPC分类号： H01L21302

CPC分类号： H01L21/31116 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/32137

摘要： A process of reducing critical dimension (CD) microloading in dense and isolated regions of etched features of silicon-containing material on a substrate uses a plasma of an etchant gas and an additive gas. In one version, the etchant gas comprises halogen species absent fluorine, and the additive gas comprises fluorine species and carbon species, or hydrogen species and carbon species.

摘要翻译： 在衬底上的含硅材料的蚀刻特征的致密和隔离区域中减小临界尺寸（CD）微载荷的方法使用蚀刻剂气体和附加气体的等离子体。 在一个版本中，蚀刻剂气体包括不含氟的卤素物质，并且添加剂气体包括氟物质和碳物质，或氢物质和碳物质。

公开(公告)号：US6136211A

公开(公告)日：2000-10-24

申请号：US969122

申请日：1997-11-12

申请人： Xue-Yu Qian ,  Zhi-Wen Sun ,  Weinan Jiang ,  Arthur Y. Chen ,  Gerald Zheyao Yin ,  Ming-Hsun Yang ,  Ming-Hsun Kuo ,  David S. L. Mui ,  Jeffrey Chinn ,  Shaoher X. Pan ,  Xikun Wang

发明人： Xue-Yu Qian ,  Zhi-Wen Sun ,  Weinan Jiang ,  Arthur Y. Chen ,  Gerald Zheyao Yin ,  Ming-Hsun Yang ,  Ming-Hsun Kuo ,  David S. L. Mui ,  Jeffrey Chinn ,  Shaoher X. Pan ,  Xikun Wang

IPC分类号： H01L21/302 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/3213 ,  B08B9/00

CPC分类号： H01L21/02071 ,  Y10S438/905

摘要： A process for etching a substrate 25 in an etching chamber 30, and simultaneously cleaning a thin, non-homogeneous, etch residue deposited on the surfaces of the walls 45 and components of the etching chamber 30. In the etching step, process gas comprising etchant gas is used to etch a substrate 25 in the etching chamber 30 thereby depositing etch residue inside the chamber 30. Cleaning gas is added to the process gas for a sufficient time and in a volumetric flow ratio that is sufficiently high, to react with and remove substantially all the etch residue deposited by the process gas. The present method advantageously cleans the etch residue in the chamber 30, during the etching process, and without use of separate cleaning, conditioning, and seasoning process steps.

摘要翻译： 用于在蚀刻室30中蚀刻基板25并同时清洗沉积在壁45的表面上的薄的，非均匀的蚀刻残留物和蚀刻室30的部件的方法。在蚀刻步骤中，包括蚀刻剂的工艺气体 使用气体来蚀刻蚀刻室30中的衬底25，从而在腔室30内沉积蚀刻残留物。将清洁气体加入到工艺气体足够长的时间内，并以足够高的体积流量比与反应和去除 基本上所有由工艺气体沉积的蚀刻残余物。 本方法有利地在蚀刻过程期间清洁室30中的蚀刻残留物，并且不使用单独的清洁，调理和调味处理步骤。

公开(公告)号：US07955704B2

公开(公告)日：2011-06-07

申请号：US12611639

申请日：2009-11-03

申请人： Michael D. Lowery ,  Laurent Hoffmann ,  Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Jeffrey Chinn ,  Richard Yi

发明人： Michael D. Lowery ,  Laurent Hoffmann ,  Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Jeffrey Chinn ,  Richard Yi

IPC分类号： A61F2/16

CPC分类号： B82Y30/00 ,  A61L27/34 ,  A61L29/085 ,  A61L31/10 ,  B82Y40/00 ,  Y10T428/261 ,  Y10T428/31667 ,  C08L71/02

摘要： An intraocular lens with a hydrophilic polymer coating composition and method of preparing same are provided. Specifically, a composition suitable for reducing tackiness in intraocular lenses is provided wherein an acrylic intraocular lens is treated by vapor deposition with an alkoxy silyl terminated polyethylene glycol polymer composition.

摘要翻译： 提供具有亲水性聚合物涂料组合物的眼内透镜及其制备方法。 具体地说，提供一种适用于降低人工晶状体粘合性的组合物，其中丙烯酸类眼内透镜用烷氧基甲硅烷基封端的聚乙二醇聚合物组合物气相沉积处理。

公开(公告)号：US20070213143A1

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：US11370126

申请日：2006-03-07

申请人： Jeffrey Chinn ,  Peter Yang

发明人： Jeffrey Chinn ,  Peter Yang

IPC分类号： A63B37/00 ,  A63B37/14

CPC分类号： B05D1/60 ,  A63B37/0022 ,  A63B45/00 ,  B05D3/144 ,  B05D5/04 ,  B05D5/08 ,  C23C16/401

摘要： Improved golf ball exterior coatings which are used to create an extremely uniform hydrophobic or hydrophilic exterior surface on the golf ball. When the surface of the golf ball is hydrophobic, it tends to repel water, and this reduces drag on the golf ball surface as the golf ball travels through the air. When the surface of the golf ball is hydrophilic, the surface of the golf ball wets uniformly and the ball rolls straighter on a wet green, as the forces acting on the ball are more uniform. The hydrophobic or hydrophilic exterior coating is applied to the golf ball using vapor-phase deposition in instances where strict control over coating thickness uniformity, and/or reduced surface roughness is desired.

摘要翻译： 用于在高尔夫球上产生非常均匀的疏水或亲水外表面的改进的高尔夫球外涂层。 当高尔夫球的表面是疏水性时，它倾向于排斥水分，并且当高尔夫球穿过空气时这降低了高尔夫球表面上的阻力。 当高尔夫球的表面是亲水性时，高尔夫球的表面均匀地润湿，并且当作用在球上的力更均匀时，球以湿绿色滚动更直。 在需要严格控制涂层厚度均匀性和/或降低表面粗糙度的情况下，使用气相沉积将疏水或亲水外涂层施加到高尔夫球上。

公开(公告)号：US20060213441A1

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：US11445706

申请日：2006-06-02

申请人： Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi ,  Jeffrey Chinn

发明人： Boris Kobrin ,  Romuald Nowak ,  Richard Yi ,  Jeffrey Chinn

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C16/45557 ,  B05D1/60 ,  B05D3/142 ,  B82Y30/00 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/45561

摘要： A vapor phase deposition method and apparatus for the application of thin layers and coatings on substrates. The method and apparatus are useful in the fabrication of electronic devices, micro-electromechanical systems (MEMS), Bio-MEMS devices, micro and nano imprinting lithography, and microfluidic devices. The apparatus used to carry out the method provides for the addition of a precise amount of each of the reactants to be consumed in a single reaction step of the coating formation process. The apparatus provides for precise addition of quantities of different combinations of reactants during a single step or when there are a number of different individual steps in the coating formation process. The precise addition of each of the reactants in vapor form is metered into a predetermined set volume at a specified temperature to a specified pressure, to provide a highly accurate amount of reactant.

摘要翻译： 一种用于在基底上施加薄层和涂层的气相沉积方法和装置。 该方法和装置可用于制造电子设备，微机电系统（MEMS），生物MEMS装置，微型和纳米压印光刻以及微流体装置。 用于实施该方法的装置提供了在涂层形成过程的单个反应步骤中添加精确量的每种待消耗的反应物。 该装置提供在单一步骤期间或当涂层形成过程中存在许多不同的单独步骤时精确添加量的不同组合的反应物。 将蒸气形式的每种反应物的精确加入在指定温度下计量到预定设定体积至指定压力，以提供高精度的反应物。