公开(公告)号：US20070086931A1

公开(公告)日：2007-04-19

申请号：US11452188

申请日：2006-06-13

申请人： Sebastien Raoux ,  Brian Kingston ,  Mark Curry ,  Daniel Clark ,  Robbert Vermeulen ,  Belynda Flippo ,  Mark Holst ,  Steve Tsu ,  Kevin Lin ,  Monique Mcintosh

发明人： Sebastien Raoux ,  Brian Kingston ,  Mark Curry ,  Daniel Clark ,  Robbert Vermeulen ,  Belynda Flippo ,  Mark Holst ,  Steve Tsu ,  Kevin Lin ,  Monique Mcintosh

IPC分类号： B01D53/34 ,  B01D53/46 ,  B01D53/86

CPC分类号： B01D53/78 ,  B01D53/68 ,  B01D53/70 ,  B01D53/75 ,  B01D53/8659 ,  B01D53/8662 ,  B01D53/8678 ,  B01D2257/204 ,  B01D2257/206 ,  B01D2257/2064 ,  B01D2257/2066 ,  B01D2257/708 ,  B01D2258/0216 ,  Y02C20/30

摘要： In a first aspect, a first abatement apparatus is provided. The first abatement apparatus includes (1) an oxidation unit adapted to receive an effluent stream from a semiconductor device manufacturing chamber; (2) a first water scrubber unit adapted to receive the effluent stream from the oxidation unit; and (3) a catalysis unit adapted to receive the effluent stream from the first water scrubber unit. Numerous other aspects are provided.

摘要翻译： 在第一方面，提供了一种第一减排装置。 第一减排装置包括（1）氧化单元，适于从半导体装置制造室接收流出物流; （2）适于接收来自氧化单元的流出物流的第一水洗涤单元; 和（3）适于接收来自第一水洗涤器单元的流出物流的催化单元。 提供了许多其他方面。