公开(公告)号：US20050263068A1

公开(公告)日：2005-12-01

申请号：US10966110

申请日：2004-10-18

申请人： Christiaan Hoogendam ,  Bob Streefkerk ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Erik Theodorus Bijlaart ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Mertens ,  Bernardus Slaghekke ,  Patricius Aloysius Tinnemans ,  Helmar Van Santen

发明人： Christiaan Hoogendam ,  Bob Streefkerk ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Erik Theodorus Bijlaart ,  Aleksey Kolesnychenko ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Johannes Sophia Mertens ,  Bernardus Slaghekke ,  Patricius Aloysius Tinnemans ,  Helmar Van Santen

IPC分类号： G03F7/20 ,  B05C11/00 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70808

摘要： Liquid is supplied to a space between the projection system and the substrate by an inlet. In an embodiment, an overflow region removes liquid above a given level. The overflow region may be arranged above the inlet and thus the liquid may be constantly refreshed and the pressure in the liquid may remain substantially constant.

摘要翻译： 通过入口将液体供给到投影系统和基板之间的空间。 在一个实施例中，溢流区域去除高于给定水平的液体。 溢流区域可以布置在入口的上方，因此液体可以不断刷新，并且液体中的压力可能保持基本恒定。

公开(公告)号：US20050007569A1

公开(公告)日：2005-01-13

申请号：US10844575

申请日：2004-05-13

申请人： Bob Streefkerk ,  Levinus Bakker ,  Johannes Baselmans ,  Hendrikus Cox ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Mulkens ,  Gerardus Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

发明人： Bob Streefkerk ,  Levinus Bakker ,  Johannes Baselmans ,  Hendrikus Cox ,  Antonius Theodorus Derksen ,  Sjoerd Donders ,  Christiaan Hoogendam ,  Joeri Lof ,  Erik Loopstra ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Frits Van Der Meulen ,  Johannes Mulkens ,  Gerardus Van Nunen ,  Klaus Simon ,  Bernardus Slaghekke ,  Alexander Straaijer ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Martijn Houkes

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/709

摘要： In a lithographic apparatus, a localized area of the substrate surface under a projection system is immersed in liquid. The height of a liquid supply system above the surface of the substrate can be varied using actuators. A control system uses feedforward or feedback control with input of the surface height of the substrate to maintain the liquid supply system at a predetermined height above the surface of the substrate.

摘要翻译： 在光刻设备中，将投影系统下的基板表面的局部区域浸入液体中。 可以使用致动器来改变衬底表面上方的液体供应系统的高度。 控制系统使用前馈或反馈控制输入基板的表面高度，以将液体供应系统保持在基板表面上方的预定高度。