公开(公告)号：US5573705A

公开(公告)日：1996-11-12

申请号：US362964

申请日：1994-12-23

申请人： Tatsushi Kaneko ,  Takeshi Kinsho ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

发明人： Tatsushi Kaneko ,  Takeshi Kinsho ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

IPC分类号： C07F7/08 ,  C09K19/40 ,  C09K19/34

CPC分类号： C07F7/0818 ,  C07F7/0896 ,  C09K19/406

摘要： A liquid crystal composition comprising a silacyclohexane compound represented by the following formula (I): ##STR1## wherein R and R' denote an alkyl group, a mono- or di-fluoroalkyl group, an alkoxyalkyl group or an alkenyl group; at least one of ##STR2## denotes a silacyclohexylene group whose silicon at positions 1 or 4 has a substitutional group of H, F, Cl of CH.sub.3, and the other denotes a silacyclohexylene group whose silicon at positions 1 or 4 has a substitutional group of H, F, Cl or CH.sub.3 or a cyclohexylene group; and 0-2 of the substitutional groups X on the aromatic rings denote F and the remaining X's denote H.

摘要翻译： 一种液晶组合物，其包含由下式（I）表示的硅环己烷化合物：其中R和R'表示烷基，单或二氟烷基，烷氧基烷基或烯基; 和中的至少一个表示其中位置1或4的硅具有H，F，CH 3的取代基的硅环亚己基，另一个表示其1或4位的硅具有的硅环亚己基 H，F，Cl或CH 3或亚环己基的取代基; 芳环上的取代基X的0-2表示F，其余的X表示H.

公开(公告)号：US5547606A

公开(公告)日：1996-08-20

申请号：US322549

申请日：1994-10-13

申请人： Takeshi Kinsho ,  Tatsushi Kaneko ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

发明人： Takeshi Kinsho ,  Tatsushi Kaneko ,  Takaaki Shimizu ,  Tsutomu Ogihara ,  Ryuichi Saito ,  Hideshi Kurihara

IPC分类号： C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  C09K19/40 ,  C09K19/34 ,  C09K19/30 ,  G02F1/13

CPC分类号： C07F7/0818 ,  C07F7/0896 ,  C07F7/12 ,  C09K19/406

摘要： A silacyclohexane compound represented by the following general formula (I). ##STR1## In this formula, R denotes hydrogen, a linear-chain alkyl group with a carbon number of 1-10, a branched-chain alkyl group with a carbon number of 3-8, an alkoxyalkyl group with a carbon number of 2-7, a fluoroalkyl group with a carbon number of 1-10 in which one or two hydrogen atoms are substituted by florine atom(s), or an alkenyl group with a carbon number of 2-8. For the groups ##STR2## at least one of these is a trans-1-sila-1,4-cyclohexylene or trans-4-sila-1,4-cyclohexylene group whose silicon at position 1 or position 4 has a substitutional group(s) of H, F, Cl or CH.sub.3, and the other denotes a trans-1,4-cyclohexylene group. X denotes a CN, F, Cl, CF.sub.3, CF.sub.2 Cl, CHFCl, OCF.sub.3, OCHF.sub.2, OCF.sub.2 Cl, OCHFCl, R or OR group (R is the same as defined earlier). Y denotes H or F. Z denotes H or F.

摘要翻译： 由以下通式（I）表示的硅环己烷化合物。 （I）在该式中，R表示氢，碳数为1〜10的直链烷基，碳数为3〜8的支链烷基，碳数为烷氧基烷基 数为2-7，碳数为1-10的氟代烷基，其中一个或两个氢原子被氟原子取代，或碳数为2-8的烯基。 对于组，其中至少一个是位于1或4位的硅具有取代基的反式-1-硅烷-1,4-亚环己基或反式-4-硅烷-1,4-亚环己基， s）H，F，Cl或CH 3，另一个表示反式-1,4-亚环己基。 X表示CN，F，Cl，CF 3，CF 2 Cl，CHFCl，OCF 3，OCHF 2，OCF 2 Cl，OCHFCl，R或OR基团（R与前述相同）。 Y表示H或F.Z表示H或F.

公开(公告)号：US09069245B2

公开(公告)日：2015-06-30

申请号：US13091287

申请日：2011-04-21

申请人： Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Masaki Ohashi ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G02B5/208 ,  G02B5/22 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A composition comprising (A) a near-infrared absorbing dye of formula (1), (B) a polymer, and (C) a solvent is used to form a near-infrared absorptive layer. In formula (1), R1 and R2 are a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, k is 0 to 5, m is 0 or 1, n is 1 or 2, Z is oxygen, sulfur or C(R′)(R″), R′ and R″ are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, and X− is an anion.

摘要翻译： 包含（A）式（1）的近红外吸收染料，（B）聚合物和（C）溶剂的组合物用于形成近红外吸收层。 式（1）中，R 1和R 2是可以含有杂原子的一价烃基，k为0〜5，m为0或1，n为1或2，Z为氧，硫或C（R'）（ R“），R'和R”是氢或可以含有杂原子的一价烃基，X-是阴离子。

公开(公告)号：US08846846B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US13227754

申请日：2011-09-08

申请人： Takeshi Kinsho ,  Daisuke Kori ,  Katsuya Takemura ,  Takeru Watanabe ,  Tsutomu Ogihara

发明人： Takeshi Kinsho ,  Daisuke Kori ,  Katsuya Takemura ,  Takeru Watanabe ,  Tsutomu Ogihara

IPC分类号： H01L21/311 ,  C08G8/02 ,  G03F7/004 ,  H01L21/31 ,  G03F7/09

CPC分类号： C08G61/10 ,  B05D1/40 ,  B05D3/007 ,  G03F7/00 ,  G03F7/091 ,  G03F7/20

摘要： A naphthalene derivative having formula (1) is provided wherein Ar1 and Ar2 denote a benzene or naphthalene ring, and n is such a natural number as to provide a weight average molecular weight of up to 100,000. A material comprising the naphthalene derivative or a polymer comprising the naphthalene derivative is spin coated to form a resist bottom layer having improved properties. A pattern forming process in which a resist bottom layer formed by spin coating is combined with an inorganic hard mask formed by CVD is available.

摘要翻译： 提供具有式（1）的萘衍生物，其中Ar1和Ar2表示苯或萘环，n是这样的自然数，以提供高达100,000的重均分子量。 包含萘衍生物或包含萘衍生物的聚合物的材料被旋涂以形成具有改进性能的抗蚀剂底层。 通过旋涂形成的抗蚀剂底层与通过CVD形成的无机硬掩模组合的图案形成方法是可用的。

公开(公告)号：US08835094B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US13235719

申请日：2011-09-19

申请人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

发明人： Koji Hasegawa ,  Takeru Watanabe ,  Tomohiro Kobayashi ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F18/20 ,  C08F22/18 ,  C08F220/22 ,  G03F7/20 ,  C07C69/675 ,  C08F220/30 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24

CPC分类号： C07C69/675 ,  C07C69/67 ,  C07C69/708 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： Fluoroalcohol compounds of formula (1) are useful in producing polymers which are used as the base resin to formulate radiation-sensitive resist compositions having transparency to radiation having a wavelength of up to 500 nm and improved development characteristics. R1 is hydrogen or a monovalent C1-C20 hydrocarbon group in which any constituent —CH2— moiety may be replaced by —O— or —C(═O)—, Aa is a (k1+1)-valent C1-C20 hydrocarbon or fluorinated hydrocarbon group, and k1 is 1, 2 or 3.

摘要翻译： 式（1）的氟醇化合物可用于制备用作基础树脂的聚合物，以配制具有高达500nm波长的辐射透明度和改进的显影特性的对透射性的辐射敏感性抗蚀剂组合物。 R1是氢或一价C1-C20烃基，其中任何组成的-CH 2 - 部分可以被-O-或-C（= O） - 代替，A a是（k1 + 1）价的C1-C20烃或 氟化烃基，k1为1,2或3。

公开(公告)号：US08795955B2

公开(公告)日：2014-08-05

申请号：US13165536

申请日：2011-06-21

申请人： Takeshi Kinsho ,  Katsuya Takemura ,  Daisuke Kori ,  Takeru Watanabe ,  Tsutomu Ogihara

发明人： Takeshi Kinsho ,  Katsuya Takemura ,  Daisuke Kori ,  Takeru Watanabe ,  Tsutomu Ogihara

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D311/78 ,  B05D3/12 ,  C08G65/00 ,  B05D3/10 ,  C07C43/20 ,  C07D307/77 ,  C07C43/275 ,  C09D201/06

CPC分类号： C07C43/275 ,  B05D3/10 ,  B05D3/12 ,  C07C43/20 ,  C07C2603/18 ,  C07D307/77 ,  C07D311/78 ,  C08G65/00 ,  C09D201/06 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091

摘要： A naphthalene derivative having formula (1) is provided wherein cyclic structures Ar1 and Ar2 denote a benzene or naphthalene ring, X is a single bond or C1-C20 alkylene, m is 0 or 1, and n is such a natural number as to provide a molecular weight of up to 100,000. A material comprising the naphthalene derivative or a polymer comprising the naphthalene derivative is spin coated to form a resist bottom layer having improved properties. A pattern forming process in which a resist bottom layer formed by spin coating is combined with an inorganic hard mask formed by CVD is available.

摘要翻译： 提供具有式（1）的萘衍生物，其中环状结构Ar1和Ar2表示苯或萘环，X为单键或C1-C20亚烷基，m为0或1，n为自然数，提供 分子量高达100,000。 包含萘衍生物或包含萘衍生物的聚合物的材料被旋涂以形成具有改进性能的抗蚀剂底层。 通过旋涂形成的抗蚀剂底层与通过CVD形成的无机硬掩模组合的图案形成方法是可用的。

公开(公告)号：US08791288B2

公开(公告)日：2014-07-29

申请号：US12787004

申请日：2010-05-25

申请人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

发明人： Takeshi Kinsho ,  Tomohiro Kobayashi ,  Masayoshi Sagehashi ,  Takeru Watanabe ,  Koji Hasegawa ,  Seiichiro Tachibana

IPC分类号： C07C69/54 ,  C08F22/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26

CPC分类号： C07C69/54 ,  C07C69/753 ,  C07C2602/42 ,  C07C2602/50 ,  C07C2603/94 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R2 is H or monovalent hydrocarbon, R3 and R4 are H or monovalent hydrocarbon, or R3 and R4, taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

摘要翻译： 螺环结构的酸不稳定酯单体具有式（1）其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷，环己烷或降冰片烷环的二价基团，R 2是H或一价烃，R 3和 R 4为H或一价烃，或者R 3和R 4一起代表形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2.由酸不稳定酯单体获得的聚合物具有如此高的反应性 酸催化的消除反应，聚合物可用于配制具有高分辨率的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US08541158B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US13013143

申请日：2011-01-25

申请人： Wataru Kusaki ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Wataru Kusaki ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition is provided comprising an acid generator, a resin component which generates resin-solubilizing groups under the action of acid so that the resin component becomes soluble in an alkaline developer, at least some resin-solubilizing groups being carboxyl groups, and a compound for activating or condensing a carboxyl group. When processed by the lithography, the resist composition forms a resist pattern having a very high resolution and good mask fidelity.

摘要翻译： 提供了一种正性抗蚀剂组合物，其包含酸产生剂，在酸的作用下产生树脂增溶基团的树脂组分，使得树脂组分变得可溶于碱性显影剂，至少一些树脂增溶基团为羧基， 用于活化或缩合羧基的化合物。 当通过光刻处理时，抗蚀剂组合物形成具有非常高的分辨率和良好的掩模保真度的抗蚀剂图案。

公开(公告)号：US08349533B2

公开(公告)日：2013-01-08

申请号：US12588590

申请日：2009-10-20

申请人： Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

发明人： Youichi Ohsawa ,  Jun Hatakeyama ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/028 ,  G03F7/029

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/93 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/091

摘要： A resist lower-layer composition configured to be used by a multi-layer resist method used in lithography to form a layer lower than a photoresist layer acting as a resist upper layer film. The resist lower-layer composition is insoluble or poorly-soluble in an alkaline developer after formation of the lower layer, and the resist lower-layer composition comprises, at least, a thermal acid generator for generating an acid by heating at a temperature of 100° C. or higher.

摘要翻译： 一种抗蚀剂下层组合物，其被配置为通过在光刻中使用的多层抗蚀剂方法使用，以形成低于作为抗蚀剂上层膜的光致抗蚀剂层的层。 抗蚀剂下层组合物在形成下层之后在碱性显影剂中不溶或难溶，抗蚀剂下层组合物至少包含用于通过在100℃的温度下加热产生酸的热酸发生剂 ℃以上。

公开(公告)号：US08329384B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US12785930

申请日：2010-05-24

申请人： Takeru Watanabe ,  Kazuhiro Katayama ,  Masashi Iio ,  Jun Hatakeyama ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho

发明人： Takeru Watanabe ,  Kazuhiro Katayama ,  Masashi Iio ,  Jun Hatakeyama ,  Tsunehiro Nishi ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273

摘要： A patterning process includes (1) coating a first positive resist composition onto a substrate, baking, exposing, post-exposure baking, and alkali developing to form a first resist pattern, (2) coating a resist-modifying composition onto the first resist pattern and heating to effect modifying treatment, and (3) coating a second positive resist composition, baking, exposing, post-exposure baking, and alkali developing to form a second resist pattern. The resist modifying composition comprises a base resin comprising recurring units having formula (1) wherein A1 is alkylene, R1 is H or methyl, R2 is alkyl or bond together to form a nitrogen-containing heterocycle, and an alcohol-based solvent.

摘要翻译： 图案化工艺包括（1）将第一正性抗蚀剂组合物涂覆在基材上，烘烤，曝光，曝光后烘烤和碱显影以形成第一抗蚀剂图案，（2）将抗蚀剂改性组合物涂覆到第一抗蚀剂图案上 加热进行改性处理，（3）涂布第二正性抗蚀剂组合物，烘烤，曝光，曝光后烘烤和碱显影以形成第二抗蚀剂图案。 抗蚀剂改性组合物包括含有式（1）的重复单元的基础树脂，其中A1是亚烷基，R1是H或甲基，R2是烷基或键合在一起形成含氮杂环和醇类溶剂。