公开(公告)号：US07994500B2

公开(公告)日：2011-08-09

申请号：US12424860

申请日：2009-04-16

申请人： Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Tae-Kyung Ahn ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hul-Won Yang

发明人： Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Tae-Kyung Ahn ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hul-Won Yang

IPC分类号： H01L29/22

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/78606

摘要： A thin film transistor (TFT) using an oxide semiconductor as an active layer, a method of manufacturing the TFT, and a flat panel display device having the TFT include source and drain electrodes formed on a substrate; an active layer formed of an oxide semiconductor disposed on the source and drain electrodes; a gate electrode; and an interfacial stability layer formed on at least one of top and bottom surfaces of the active layer. In the TFT, the interfacial stability layer is formed of an oxide having a band gap of 3.0 to 8.0 eV. Since the interfacial stability layer has the same characteristics as a gate insulating layer and a passivation layer, chemically high interface stability is maintained. Since the interfacial stability layer has a band gap equal to or greater than that of the active layer, charge trapping is physically prevented.

摘要翻译： 使用氧化物半导体作为有源层的薄膜晶体管（TFT），TFT的制造方法以及具有TFT的平板显示装置包括：形成在基板上的源极和漏极; 由设置在源极和漏极上的氧化物半导体形成的有源层; 栅电极; 以及形成在活性层的顶表面和底表面中的至少一个上的界面稳定层。 在TFT中，界面稳定层由带隙为3.0〜8.0eV的氧化物形成。 由于界面稳定层具有与栅极绝缘层和钝化层相同的特性，因此保持了化学上高的界面稳定性。 由于界面稳定层具有等于或大于有源层的带隙，所以物理地防止电荷俘获。

公开(公告)号：US20090321732A1

公开(公告)日：2009-12-31

申请号：US12424860

申请日：2009-04-16

申请人： Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Tae-Kyung Ahn ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hul-Won Yang

发明人： Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Tae-Kyung Ahn ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hul-Won Yang

IPC分类号： H01L29/22 ,  H01L21/44

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/78606

摘要： A thin film transistor (TFT) using an oxide semiconductor as an active layer, a method of manufacturing the TFT, and a flat panel display device having the TFT include source and drain electrodes formed on a substrate; an active layer formed of an oxide semiconductor disposed on the source and drain electrodes; a gate electrode; and an interfacial stability layer formed on at least one of top and bottom surfaces of the active layer. In the TFT, the interfacial stability layer is formed of an oxide having a band gap of 3.0 to 8.0 eV. Since the interfacial stability layer has the same characteristics as a gate insulating layer and a passivation layer, chemically high interface stability is maintained. Since the interfacial stability layer has a band gap equal to or greater than that of the active layer, charge trapping is physically prevented.

摘要翻译： 使用氧化物半导体作为有源层的薄膜晶体管（TFT），TFT的制造方法以及具有TFT的平板显示装置包括：形成在基板上的源极和漏极; 由设置在源极和漏极上的氧化物半导体形成的有源层; 栅电极; 以及形成在活性层的顶表面和底表面中的至少一个上的界面稳定层。 在TFT中，界面稳定层由带隙为3.0〜8.0eV的氧化物形成。 由于界面稳定层具有与栅极绝缘层和钝化层相同的特性，因此保持了化学上高的界面稳定性。 由于界面稳定层具有等于或大于有源层的带隙，所以物理地防止了电荷俘获。

公开(公告)号：US08466462B2

公开(公告)日：2013-06-18

申请号：US12369051

申请日：2009-02-11

申请人： Hyun-Joong Chung ,  Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Yeon-Gon Mo

发明人： Hyun-Joong Chung ,  Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Yeon-Gon Mo

IPC分类号： H01L29/10

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/78618

摘要： A thin film transistor (TFT) including a gate electrode, an active layer, and source and drain electrodes. The active layer includes contact regions that contact the source and drain electrodes, which are thinner than a remaining region of the active layer. The contact regions reduce the contact resistance between the active material layer and the source and drain electrodes.

摘要翻译： 一种薄膜晶体管（TFT），其包括栅电极，有源层以及源极和漏极。 有源层包括与源极和漏极接触的接触区，其比有源层的剩余区域薄。 接触区域减小了活性材料层与源极和漏极之间的接触电阻。

公开(公告)号：US20110108831A1

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：US12848919

申请日：2010-08-02

申请人： Jong-Han Jeong ,  Eun-Hyun Kim ,  Jae-Wook Kang ,  Min-Kyu Kim ,  Yeon-Gon Mo

发明人： Jong-Han Jeong ,  Eun-Hyun Kim ,  Jae-Wook Kang ,  Min-Kyu Kim ,  Yeon-Gon Mo

IPC分类号： H01L33/28 ,  H01L21/44

CPC分类号： H01L27/3248 ,  H01L27/3246 ,  H01L27/3262 ,  H01L27/3265 ,  H01L51/5215

摘要： An organic light emitting display device and a method of manufacturing the device are disclosed. The method includes forming a layer over an oxide semiconductor layer to protect the oxide semiconductor layer from damage as further layers are formed and etched.

摘要翻译： 公开了一种有机发光显示装置及其制造方法。 该方法包括在氧化物半导体层上形成一层以保护氧化物半导体层免受损害，因为形成和蚀刻另外的层。

公开(公告)号：US20100006833A1

公开(公告)日：2010-01-14

申请号：US12393422

申请日：2009-02-26

申请人： Jae-Heung Ha ,  Young-Woo Song ,  Jong-Hyuk Lee ,  Jong-Han Jeong ,  Min-Kyu Kim ,  Yeon-Gon Mo ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hui-Won Yang ,  Chaun-Gi Choi

发明人： Jae-Heung Ha ,  Young-Woo Song ,  Jong-Hyuk Lee ,  Jong-Han Jeong ,  Min-Kyu Kim ,  Yeon-Gon Mo ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hui-Won Yang ,  Chaun-Gi Choi

IPC分类号： H01L29/12 ,  H01L21/04

CPC分类号： H01L29/7869

摘要： A thin film transistor, a method of manufacturing the thin film transistor, and a flat panel display device including the thin film transistor. The thin film transistor includes: a gate electrode formed on a substrate; a gate insulating film formed on the gate electrode; an activation layer formed on the gate insulating film; a passivation layer including a compound semiconductor oxide, formed on the activation layer; and source and drain electrodes that contact the activation layer.

摘要翻译： 薄膜晶体管，薄膜晶体管的制造方法以及包括该薄膜晶体管的平板显示装置。 薄膜晶体管包括：形成在基板上的栅电极; 形成在栅电极上的栅极绝缘膜; 形成在所述栅极绝缘膜上的活化层; 在活化层上形成包含化合物半导体氧化物的钝化层; 以及与激活层接触的源极和漏极。

公开(公告)号：US20090321731A1

公开(公告)日：2009-12-31

申请号：US12352851

申请日：2009-01-13

申请人： Jae-Kyeong JEONG ,  Jong-Han Jeong ,  Min-Kyu Kim ,  Tae-Kyung Ahn ,  Yeon-Gon Mo ,  Hui-Won Yang

发明人： Jae-Kyeong JEONG ,  Jong-Han Jeong ,  Min-Kyu Kim ,  Tae-Kyung Ahn ,  Yeon-Gon Mo ,  Hui-Won Yang

IPC分类号： H01L31/0256 ,  H01L29/12 ,  H01L21/02 ,  H01L31/00

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/78696

摘要： A thin film transistor (TFT) using an oxide semiconductor as an active layer, a method of manufacturing the TFT, and a flat panel display device having the TFT include a gate electrode formed on a substrate; an active layer made of an oxide semiconductor and insulated from the gate electrode by a gate insulating layer; source and drain electrodes coupled to the active layer; and an interfacial stability layer formed on one or both surfaces of the active layer. In the TFT, the interfacial stability layer is formed of an oxide having a band gap of 3.0 to 8.0 eV. Since the interfacial stability layer has the same characteristic as a gate insulating layer and a passivation layer, chemically high interface stability is maintained. Since the interfacial stability layer has a band gap equal to or greater than that of the active layer, charge trapping is physically prevented.

摘要翻译： 使用氧化物半导体作为有源层的薄膜晶体管（TFT），制造TFT的方法以及具有该TFT的平板显示装置包括形成在基板上的栅电极; 由氧化物半导体制成的有源层，并通过栅极绝缘层与栅电极绝缘; 源极和漏极耦合到有源层; 以及形成在活性层的一个或两个表面上的界面稳定层。 在TFT中，界面稳定层由带隙为3.0〜8.0eV的氧化物形成。 由于界面稳定层具有与栅极绝缘层和钝化层相同的特性，因此保持化学上高的界面稳定性。 由于界面稳定层具有等于或大于有源层的带隙，所以物理地防止了电荷俘获。

公开(公告)号：US06741321B2

公开(公告)日：2004-05-25

申请号：US10315733

申请日：2002-12-09

申请人： Seok-Hong Jeong ,  Woon-Seop Choi ,  Jeong-Geun Yoo ,  Yeon-Gon Mo ,  Min-Kyu Kim ,  Hee-Jung Lee

发明人： Seok-Hong Jeong ,  Woon-Seop Choi ,  Jeong-Geun Yoo ,  Yeon-Gon Mo ,  Min-Kyu Kim ,  Hee-Jung Lee

IPC分类号： G02F11343

CPC分类号： G02F1/13718 ,  G02F1/133377 ,  G02F1/1341 ,  G02F2203/34

摘要： A raw panel for a liquid crystal display. A first substrate includes first electrodes opposing a second substrate including second electrodes. A plurality of main walls having a predetermined height are arranged in a striped pattern between first and second substrates to define a plurality of channels. The channels include sets of pixels, each set formed by three neighboring channels. First sub-walls are mounted at a predetermined distance from a first end line and between the main walls defining first channels in sets the first channels each having at least two separate spaces. Second sub-walls are mounted at a predetermined second distance from the first end line and between the main walls defining second channels in sets, the second channels each having at least two separate spaces. The raw panel is opened at the first end line and at a second end line opposite the first end line.

摘要翻译： 用于液晶显示器的原始面板。 第一衬底包括与包括第二电极的第二衬底相对的第一电极。 具有预定高度的多个主壁以第一和第二基板之间的条纹图案布置以限定多个通道。 这些通道包括由三个相邻通道形成的每组像素。 第一子壁安装在距离第一端线预定距离处，并且在限定第一通道的主壁之间安装，每个第一通道具有至少两个分开的空间。 第二子壁安装在距离第一端线预定的第二距离处，并且在限定第二通道的主壁之间，第二通道各自具有至少两个分开的空间。 原始面板在第一端线处和与第一端线相对的第二端线处打开。

公开(公告)号：US08541258B2

公开(公告)日：2013-09-24

申请号：US13091614

申请日：2011-04-21

申请人： Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Tae-Kyung Ahn ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hui-Won Yang

发明人： Min-Kyu Kim ,  Jong-Han Jeong ,  Tae-Kyung Ahn ,  Jae-Kyeong Jeong ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Hyun-Joong Chung ,  Kwang-Suk Kim ,  Hui-Won Yang

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/78606

摘要： A thin film transistor (TFT) using an oxide semiconductor as an active layer, a method of manufacturing the TFT, and a flat panel display device having the TFT include source and drain electrodes formed on a substrate; an active layer formed of an oxide semiconductor disposed on the source and drain electrodes; a gate electrode; and an interfacial stability layer formed on at least one of top and bottom surfaces of the active layer. In the TFT, the interfacial stability layer is formed of an oxide having a band gap of 3.0 to 8.0 eV. Since the interfacial stability layer has the same characteristics as a gate insulating layer and a passivation layer, chemically high interface stability is maintained. Since the interfacial stability layer has a band gap equal to or greater than that of the active layer, charge trapping is physically prevented.

摘要翻译： 使用氧化物半导体作为有源层的薄膜晶体管（TFT），TFT的制造方法以及具有TFT的平板显示装置包括：形成在基板上的源极和漏极; 由设置在源极和漏极上的氧化物半导体形成的有源层; 栅电极; 以及形成在活性层的顶表面和底表面中的至少一个上的界面稳定层。 在TFT中，界面稳定层由带隙为3.0〜8.0eV的氧化物形成。 由于界面稳定层具有与栅极绝缘层和钝化层相同的特性，因此保持了化学上高的界面稳定性。 由于界面稳定层具有等于或大于有源层的带隙，所以物理地防止了电荷俘获。

公开(公告)号：US08237168B2

公开(公告)日：2012-08-07

申请号：US12801201

申请日：2010-05-27

申请人： Hui-Won Yang ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Min-Kyu Kim ,  Tae-Kyung Ahn ,  Hyun-Joong Chung

发明人： Hui-Won Yang ,  Yeon-Gon Mo ,  Jin-Seong Park ,  Min-Kyu Kim ,  Tae-Kyung Ahn ,  Hyun-Joong Chung

IPC分类号： H01L51/00 ,  H01L35/24 ,  H01L29/04 ,  H01L31/036

CPC分类号： H01L27/124 ,  H01L27/1225 ,  H01L27/3262 ,  H01L27/3276

摘要： An organic light emitting display device including a plurality of scan lines arranged in a first direction, a plurality of data lines arranged in a second direction, the plurality of data lines intersecting with the plurality of scan lines, and pixels respectively disposed at intersection portions of the scan and data lines, each pixel including at least one thin film transistor (TFT) and an organic light emitting diode, wherein the TFT is an oxide TFT, the oxide TFT including a first oxide semiconductor layer as an active layer, and a second oxide semiconductor layer is disposed between intersecting scan and data lines.

摘要翻译： 一种有机发光显示装置，包括沿第一方向布置的多条扫描线，沿第二方向布置的多条数据线，与多条扫描线相交的多条数据线，以及分别设置在多条扫描线的交点处的像素 所述扫描和数据线，每个像素包括至少一个薄膜晶体管（TFT）和有机发光二极管，其中所述TFT是氧化物TFT，所述氧化物TFT包括作为有源层的第一氧化物半导体层，以及第二 氧化物半导体层设置在相交的扫描线和数据线之间。

公开(公告)号：US08148779B2

公开(公告)日：2012-04-03

申请号：US12352851

申请日：2009-01-13

申请人： Jae-Kyeong Jeong ,  Jong-Han Jeong ,  Min-Kyu Kim ,  Tae-Kyung Ahn ,  Yeon-Gon Mo ,  Hui-Won Yang

发明人： Jae-Kyeong Jeong ,  Jong-Han Jeong ,  Min-Kyu Kim ,  Tae-Kyung Ahn ,  Yeon-Gon Mo ,  Hui-Won Yang

IPC分类号： H01L31/0256 ,  H01L29/12 ,  H01L21/02 ,  H01L31/00

CPC分类号： H01L29/7869 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/78696

摘要： A thin film transistor (TFT) using an oxide semiconductor as an active layer, a method of manufacturing the TFT, and a flat panel display device having the TFT include a gate electrode formed on a substrate; an active layer made of an oxide semiconductor and insulated from the gate electrode by a gate insulating layer; source and drain electrodes coupled to the active layer; and an interfacial stability layer formed on one or both surfaces of the active layer. In the TFT, the interfacial stability layer is formed of an oxide having a band gap of 3.0 to 8.0 eV. Since the interfacial stability layer has the same characteristic as a gate insulating layer and a passivation layer, chemically high interface stability is maintained. Since the interfacial stability layer has a band gap equal to or greater than that of the active layer, charge trapping is physically prevented.

摘要翻译： 使用氧化物半导体作为有源层的薄膜晶体管（TFT），制造TFT的方法以及具有该TFT的平板显示装置包括形成在基板上的栅电极; 由氧化物半导体制成的有源层，并通过栅极绝缘层与栅电极绝缘; 源极和漏极耦合到有源层; 以及形成在活性层的一个或两个表面上的界面稳定层。 在TFT中，界面稳定层由带隙为3.0〜8.0eV的氧化物形成。 由于界面稳定层具有与栅极绝缘层和钝化层相同的特性，因此保持化学上高的界面稳定性。 由于界面稳定层具有等于或大于有源层的带隙，所以物理地防止了电荷俘获。