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公开(公告)号：CN118234985A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202280075600.7
申请日：2022-10-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 具有可增加循环寿命并减少颗粒产生的阀门的系统。实施例可包括第一可移动构件(413)、第二可移动构件(411)和第三可移动构件(415)；第一连杆(412_1，412_2)，其联接到第一可移动构件和第二可移动构件，使得当第二可移动构件横向移动且第三可移动构件停止时，第一连杆对第一可移动构件施加力，该力使得第一可移动构件朝向表面(409)移动并压靠在该表面上以形成真空密封；以及第二连杆(412_3)，其联接到第一可移动构件和第三可移动构件，使得当第一连杆导致第一可移动构件移动时，第二连杆对第一可移动构件施加力，该力限制第一可移动构件的移动，使得第一可移动构件以有限的偏移朝向表面移动。
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公开(公告)号：CN118119841A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202280067759.4
申请日：2022-10-05
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: G01N23/2251 , H01J37/00
Abstract: 一种诸如用于切片入图像处理的与聚焦离子束铣削柱结合的扫描电子显微镜的双光束装置。基于晶片的测试体积的至少一个横截面的一幅或多幅图像来确定晶片倾斜。
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公开(公告)号：CN111035856A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN202010016981.4
申请日：2020-01-08
Applicant: 刘红宝
Abstract: 本发明提供一种疏通效果好负离子发生器，包括底板、柔性气管、信号线、扣板、握持座、负离子发生头、橡胶手环以及电源插口，防护壳体左右端面对称安装有扣板，防护壳体下端面安装有底板，防护壳体上端面左侧放置有橡胶手环，橡胶手环环形侧面右侧连接有信号线，防护壳体上端面右侧放置有握持座，握持座后端面连接有柔性气管，握持内部前侧安装有负离子发生头，防护壳体左端面下侧安装有电源插口，该设计解决了原有毛细血管疏通方式不方便使用，疏通效果欠佳的问题，本发明结构合理，方便对毛细血管进行疏通，便于使用，实用性强。
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公开(公告)号：CN101844374B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201010159536.X
申请日：2010-03-26
Applicant: FEI公司
Inventor： J·S·法伯 , R·T·J·P·古尔茨
CPC classification number: H01J37/3056 , G01N1/286 , H01J37/304 , H01J2237/30466 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
Abstract: 包括用于成像的扫描电子显微镜(SEM)镜筒和用于切削的聚焦离子射束(FIB)镜筒的双射束仪器常规地用于从半导体晶圆取出样品(薄片)。通过用SEM镜筒观察切削的进展，可以进行该切削工艺的端点指示。本发明提供该问题的备选技术方案，其中使用仅具有FIB镜筒的仪器。为了将薄片切削到例如30nm的其最终厚度，聚焦离子射束100沿薄片重复地扫描。发现，在切削薄片时可以从薄片获得足够的用于端点指示的信号。不需要另外的电子射束用于检查。
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公开(公告)号：CN101919022B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200880119476.X
申请日：2008-09-16
Applicant: 欧瑞康太阳能股份公司(特吕巴赫)
IPC: H01J37/00
CPC classification number: H01J37/32541 , H01J37/32091
Abstract: 用于处理衬底(40)的等离子体反应器(1)，其包括被布置在所述反应器(1)内的至少两个电极(20，30)，在所述两个电极(20，30)之间定义内部工艺空间(13)，同时所述两个电极(20，30)彼此相对地并且相对于所述电极(20，30)的第一表面(20a)平行地被设置。另外，其包括用于将气体传送入以及传送出所述等离子体反应器(1)的气体入口(11)以及气体出口(12)、被连接到所述电极(20，30)中的至少一个的射频发生器(21)。所述电极(20，30)中的至少一个具有矫正层，所述矫正层沿面向所述内部工艺空间(13)的表面(20a)具有非平面的形状，所述非平面的形状在沿所述电极(20)的半径的第一截面中具有包括三个连续的并且邻近的分段的轮廓，即第一、第二和第三分段，其中所述第三分段邻近于所述电极(20)的边缘并且其中所述第一分段中的中间梯度小于所述第二分段中的中间梯度并且所述第二分段中的中间梯度大于所述第三分段中的中间梯度。以上述方式成形的电极(20)沿所述衬底(40)的表面提供均匀的等离子体强度并且因此提供同质的并且以均匀的厚度为特征的处理。本发明还允许真空处理设备(1)的紧凑的构造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101802963B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200880106475.1
申请日：2008-08-25
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 卡森·D·泰克雷特萨迪克 , 艾立克·D·赫尔曼森 , 道格拉斯·梅 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 拉塞尔·J·罗
IPC: H01J37/00
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/16 , H01J2237/038 , H01J2237/08
Abstract: 一种具有含介质鳍片的绝缘导体的离子植入机终端结构。在一实施例中，离子植入机终端结构可由含一个或多个介质鳍片的绝缘导体来实现。例如，离子植入机可包括配置成提供离子束的离子源。离子植入机还包括定义空腔的终端结构，其中离子源可至少部分地设置于空腔内。离子植入机还包括具有至少一介质鳍片的绝缘导体，此介质鳍片设置于终端结构的外部附近以改变电场。
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公开(公告)号：CN101488391B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200810056249.9
申请日：2008-01-16
Applicant: 中国科学院高能物理研究所
Inventor： 唐靖宇
Abstract: 本发明公开了一种带边缘场修正的复合型磁铁，该复合型磁铁由一主磁铁和位于该主磁铁至少一端的附加磁铁构成，该主磁铁的一端对应一附加磁铁。利用本发明，能够克服现有技术存在的缺陷，有效改善大孔径磁铁端部边缘磁场的分布。
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公开(公告)号：CN101064238B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200710098396.8
申请日：2007-04-24
Applicant: 应用材料股份有限公司
Inventor： 亚历山大·M·帕特森 , 瓦伦丁·N·托多罗夫 , 西奥多洛斯·帕纳戈波洛斯 , 布赖恩·K·哈彻 , 丹·卡茨 , 爱德华·P·哈蒙德四世 , 约翰·P·荷文 , 亚历山大·马特尤什金
CPC classification number: H01J37/32935 , H01J37/321
Abstract: 本发明公开了一种用于处理工件的等离子体反应器，包括：构成反应器腔室的罩和所述腔室内的工件支架，所述罩包括面向所述工件支架的顶；环形等离子体源，包括中空凹角管道和靠近凹角外部管道的一部分的RF功率施加器，所述中空凹角管道在腔室外部并具有与腔室内部连接的一对端部同时形成经过管道延伸并贯穿工件支架直径的闭合环形路径；以及耦合至环形等离子体源的RF功率施加器的RF功率发生器。所述反应器进一步包括：具有源功率电极和VHF功率发生器的电容耦合等离子体源功率施加器和包括偏压功率电极和至少第一RF偏压功率发生器的等离子体偏压功率施加器。
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公开(公告)号：CN101939029A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200880126341.6
申请日：2008-11-28
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
CPC classification number: A61L2/087 , A61L2202/122 , B29C71/04 , B29C2035/0877 , G21K5/10 , H01J33/00
Abstract: 本发明涉及一种以富含能量的电子束(10)处理成形件(2)的装置，其中电子束(10)通过两个相对置的静止或活动的电子输出窗传导到成形件(2)上，它们限定成形件(2)的处理空间(6)。设有一个用于成形件(2)的输送装置，成形件(2)可以借助该输送装置被引导从垂直于输送方向地基本上垂直地设置的电子输出窗(7，8)旁边穿过所述处理空间(6)，并且设置有一个相对于处理空间(6)中的伦琴射线在很大程度上被屏蔽的通道(3，3a，3b，3c)，用于输送所述成形件(2)。
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