用于测试红外光电探测器噪声的红外光源系统及测试方法

    公开(公告)号:CN118464203A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410450193.4

    申请日:2024-04-15

    IPC分类号: G01J5/54 G01J5/90 G01R31/26

    摘要: 本发明涉及一种用于测试红外光电探测器噪声的红外光源系统及测试方法,该系统包括直流电源模块、高精度电位器和红外光源,所述直流电源模块包括电池壳和位于电池壳内的直流电池,所述直流电池的正极与红外光源的输入端连接,负极与红外光源的输出端连接,所述高精度电位器连接在正极与红外光源输入端连接的电路上,用于调节直流电源模块的供电水平,以改变光强大小。与现有技术相比,本发明具有保证噪声测试精度的同时极大精简了设备装置,同时也极大的降低了设备成本等优点。

    一种针对卤素灯矩阵模拟太阳热辐射的辐射强度修正系统及方法

    公开(公告)号:CN118424475A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410502105.0

    申请日:2024-04-24

    申请人: 同济大学

    摘要: 本发明公开了一种针对卤素灯矩阵模拟太阳热辐射的辐射强度修正系统及方法。该系统包括数据输入模块、基准点角系数计算模块、任意点角系数计算模块和任意点辐射强度计算模块。方法包括:输入基准点与卤素灯矩阵的距离,基准点辐射强度和任意点坐标;基准点角系数计算模块根据输入的基准点与卤素灯矩阵的距离确定基准点的坐标进而计算基准点相对卤素灯矩阵的角系数;任意点角系数计算模块根据手动输入的任意点坐标计算任意点相对卤素灯矩阵的角系数;辐射强度计算模块根据手动输入的基准点,计算得到的任意点角系数和基准点角系数计算任意点的辐射强度,该方法可以减小因卤素灯矩阵与太阳的差异而造成不同位置辐射强度不同的影响。

    一种透射式宽动态范围红外偏振度辐射源装置

    公开(公告)号:CN117470386A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202311423654.0

    申请日:2023-10-30

    IPC分类号: G01J5/54 G01J5/53 G01J4/00

    摘要: 本发明涉及一种透射式宽动态范围红外偏振度辐射源装置,包括黑体辐射源、平行光管和偏振调节部,平行光管设置于黑体辐射源的输出光路上。偏振调节部包括腔体和四个红外光学平板,腔体的一端设有入光孔,入光孔设置于平行光管的输出光路上,腔体的另一端设有出光孔,四个红外光学平板平行间隔设置在腔体内,且位于入光孔和出光孔之间,平行光管输出的红外线依次经过四个红外光学平板,从出光孔输出与入射角度对应偏振度的线偏振光,通过伺服电机调整红外光学平板倾斜角度。装置结构简单、便携、调节方便,输出的红外偏振度在0‑0.92范围内连续可调,将现有透射式红外偏振度辐射源输出的线偏振度提高至一倍左右,并且精度也基本能够满足地面测试需要。

    一种基于参考标定的测温方法及装置

    公开(公告)号:CN112665734B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202011410426.6

    申请日:2020-12-04

    发明人: 顾宏 沈新华

    摘要: 本发明公开了一种基于参考标定的测温方法及装置,包括以下步骤:将微面阵测温仪的光学中心与面阵测温仪的光学中心合一;获取大面阵中每个与微面阵对应的区域灰度方差Sx;获取其中最小方差区域Sm,以及该区域的平均灰度Gm;获取微面阵位置m点的温度Tm;通过Gm和Tm计算面阵中每个像元灰度与温度的转换参数Fij;将每个像元的当前灰度换算成温度值。上述技术方案将微面阵测温仪和大面阵测温仪结合,实时将微面阵测温仪测量的目标物表面温度作为面阵测温仪的测量基准,通过找到大面阵中图像均匀性最低处,将该处灰度与微面阵对应点的温度做标定,取得大面阵温度转换的基准,从而实现大面阵测温仪与微面阵测温仪一样的精度,大大降低了产品的成本。

    一种远程操控的点光源防护罩装置

    公开(公告)号:CN109945972B

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN201910212228.X

    申请日:2019-03-20

    IPC分类号: G01J3/28 G01J5/54

    摘要: 本发明公开了一种远程操控的点光源防护罩装置,包括立柱、防护罩底、防护罩顶,防护罩底连接于立柱上端,防护罩底内部用于安装点光源,防护罩底后部转动安装有轴向水平的驱动轴,防护罩顶固定连接于驱动轴并随驱动轴转动,防护罩底一侧安装有电机减速驱动装置,由电机减速驱动装置与驱动轴对应方向一端传动连接以驱动驱动轴转动,防护罩底另一侧安装有位置开关装置,由位置开关装置检测驱动轴轴向另一端的转动位置,立柱向后连接有托架,由托架托住转动至托架位置的防护罩顶。本发明可实现远程自动控制,能够防风沙、防雨,不会影响点光源设备的正常使用,具备一定的强度,可抵挡一定的外力冲击。

    一种高精度黑体腔及其制作方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111678609A

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN202010530910.6

    申请日:2020-06-11

    摘要: 本发明涉及光辐射测量领域内的一种高精度黑体腔,包括第一腔体和第二锥体;所述第一腔体包括柱形段和锥形段,所述柱形段与所述锥形段连接成敞口腔体结构,所述锥形段为锥台结构,所述锥形段端部设有缺口;所述第二锥体通过所述缺口与所述锥形段连接,所述第二锥体的尖端位于所述锥形段的空腔内。本发明还提供了一种高精度黑体腔的制作方法。本发明通过正圆锥面和倒圆锥面相结合的形式可以有效增加表面反射或入射光吸收次数,从而提高黑体腔的吸收率。

    半导体薄膜反应腔辅助温度校准装置

    公开(公告)号:CN104089703A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201410325405.2

    申请日:2014-07-09

    IPC分类号: G01J5/00 G01J5/54 H01L21/66

    摘要: 本发明公开了一种半导体薄膜反应腔辅助温度校准装置,属于半导体制造领域。该装置能够将光源的光强调节到P0,由于P0对应的黑体炉靶心的温度为T0,因此,可以将光源等效为一个温度为T0的热辐射源,此时,由温度探测装置探测到的光源透过狭缝窗口后光线的光强的最大值P0'等效为半导体薄膜反应腔内温度T0时的热辐射强度。应用该半导体薄膜反应腔辅助温度校准装置时,相当于在已知T0和P0'的条件下,对半导体薄膜反应腔的测温装置进行校准。因此,该光源能够模拟温度为T0时的黑体辐射P0',为半导体薄膜反应腔温度校准提供支持。

    一种外场型红外辐射计
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103335730A

    公开(公告)日:2013-10-02

    申请号:CN201310260942.9

    申请日:2013-06-27

    IPC分类号: G01J5/52 G01J5/54 G01J5/56

    摘要: 本发明涉及光学测试技术领域,具体的讲是一种外场型红外辐射计,其中汇聚主镜与斩波器相连接,斩波器与标准参考黑体源相连接,斩波器还与滤光片相连接,滤光片与中性衰减片相连接,中性衰减片与光谱校正片相连接,光谱校正片与红外探测器相连接,信号采集部件分别与红外探测器和所述斩波器相连接。通过上述实施例,通过光谱校正片可以使整个系统在测量波段内的光谱相应曲线为一条平坦的曲线,提高了整个系统的线性度和测量精度,避免测量结构受被测目标辐射光谱的影响;采用不同衰减比的中性滤光片,扩展设备的动态范围,使设备具有多个量程,能够测量强辐射和微弱辐射目标。

    一种中红外成像光学系统

    公开(公告)号:CN101893757B

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN200910022610.0

    申请日:2009-05-20

    IPC分类号: G02B27/00 G01J5/08 G01J5/54

    摘要: 一种中红外成像光学系统,包括位于同一光轴OO′的前组镜头、后组镜头以及探测器,目标经前组镜头成一次实像于后组镜头前,一次实像经后组镜头二次成像于焦平面,前组镜头焦距为50mm,总焦距为200mm;后组镜头放大率为4;其一次像距每减小1个单位,则像面增加约16个单位;探测器为致冷探测器。本发明小巧紧凑、且像质良好;本发明通过控制后组位置来补偿由于温度变化引起的离焦,从而使系统可在很大温度范围正常工作,而不需重新调焦。