一种对单晶硅进行硼扩散的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119287522A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202411379993.8

    申请日:2024-09-29

    Abstract: 本申请提供一种对单晶硅进行硼扩散的方法,其中,包括:将单晶硅经过预处理、亲硼薄膜层生长后得到表面为亲硼薄膜层的单晶硅;将表面为亲硼薄膜层的单晶硅在氧气和硼源的存在下进行反应,得到覆盖亲硼薄膜层的B2O3薄膜层;将经过两次薄膜层生长的单晶硅在无氧的条件下进行第一硼扩散反应,冷却,除膜后在氧气存在的条件下进行第二硼扩散反应,然后单晶硅在氮气和氢气的条件下进行消硼反应,得到硼扩散单晶硅。本申请利用亲硼薄膜层和氢气辅助推进技术,在不超过940℃的条件下实现了较深的PN结和高方阻的硼扩散效果,有效避免了高温对硅片本体的损伤,提升了太阳能电池的转换效率,并为后续生产复杂结构的太阳能电池提供了便利。

    一种在长石晶体中生长纳米材料的方法

    公开(公告)号:CN112226818B

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN202011212050.8

    申请日:2020-11-03

    Abstract: 本发明公开了一种在长石晶体中生长纳米材料的方法,该制备方法通过高温扩散的手段将金属元素引入到长石晶体内部,为了减少长石晶体在高温扩散过程中与扩散原料的化学反应对长石晶体表面造成的损伤,在高温扩散过程中将长石晶体的一部分包埋在扩散原料中,另外一部分露出不与扩散原料直接接触。这种方法得到的含有纳米材料的长石晶体露出的部分表面无损伤,可以最大程度地保留其作为宝石材料、光电材料的应用价值。

    一种Cr掺杂II-VI族化合物同质包边多晶激光材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN113186602A

    公开(公告)日:2021-07-30

    申请号:CN202110477013.8

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种Cr掺杂II‑VI族化合物同质包边多晶激光材料及其的制备方法,其中,方法包括步骤:在II‑VI族化合物激光材料的通光面上镀Cr膜,得到一次处理II‑VI族化合物激光材料;在所述一次处理II‑VI族化合物激光材料的非通光面上镀Fe膜,得到二次处理II‑VI族化合物激光材料;在所述二次处理II‑VI族化合物激光材料的通光面和非通光面上镀Au膜,得到三次处理II‑VI族化合物激光材料;将所述三次处理II‑VI族化合物激光材料置于真空环境中并在800‑1000℃的温度条件下扩散2‑8周,得到所述Cr掺杂II‑VI族化合物同质包边多晶激光材料。本发明制备的Cr掺杂II‑VI族化合物同质包边多晶激光材料可以抑制激光增益介质的寄生振荡,从而提升材料的中波红外增益性能。

    一种合成硼氢共掺杂金刚石单晶的方法

    公开(公告)号:CN112899776A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202110067618.X

    申请日:2021-01-19

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 本发明的一种合成硼氢共掺杂金刚石单晶的方法属于晶体生长中的金刚石单晶生长的技术领域。本发明采用高温高压温度梯度法合成金刚石大单晶,自腔体的高温端向低温端依次排列碳源(7)、改性触媒(8)、籽晶(3)和晶床(10);所述改性触媒(8)由KBH4粉末与NiMnCo金属触媒混合而成。本发明的方法更容易获得硼氢共掺杂金刚石晶体,减小了硼氢共掺杂金刚石的获取难度,该方法合成晶体质量优秀,形状规则对称,并且操作简单,成本低,具有可重复性。

    抗下垂制动装置及侧壁加热器扩散炉的超低质量运送系统

    公开(公告)号:CN102953123B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201210279698.6

    申请日:2012-08-07

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 多区域太阳能电池扩散炉具有多个辐射元件(SiC)或/和高强度IR灯加热式加工区域,区域包含挡板区域、升高区域、焙烧区域、均热区域及冷却区域。通过超低质量晶片运送系统来实施将太阳能电池晶片运送穿过炉的操作,太阳能电池晶片,晶片运送系统包括横向隔开、有防护、并且同步驱动的金属带或链,金属带或链承载悬挂在金属带或链之间的金属丝上的非旋转式氧化铝管。晶片位于沿着氧化铝管横向隔开的凸起圆周支座上,减少污染。高强度IR通量对晶片进行快速光辐射调节,使得扩散发生的速度比常规高质量热炉快两倍以上。使用插在运送管中的因科镍护套的纵向侧壁加热器来确保对邻近侧壁的晶片边缘进行均匀加热,加热器包括盘管式加热器。

    一种高均匀性、高产率半绝缘碳化硅衬底的制备方法

    公开(公告)号:CN103696012A

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201310683603.1

    申请日:2013-12-13

    Applicant: 山东大学

    Abstract: 本发明涉及一种高均匀性、高产率半绝缘碳化硅衬底的制备方法。该方法包括:采用升华法将碳化硅源料加热至升华,根据剩余碳化硅源料形状判断温场情况,确定出高温区与次高温区域;在高温区与次高温区放置盛有掺杂剂的石墨坩埚;再填满源料继续生长。所得碳化硅晶棒电阻率均匀性好,切割的晶片均呈半绝缘特性,可实现高产率的半绝缘碳化硅晶片的生产。

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