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公开(公告)号：CN118773579A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410923589.6
申请日：2024-07-10
申请人： 苏科斯(江苏)半导体设备科技有限公司
IPC分类号： C23C16/453 , C23C16/40 , C23C16/458
摘要： 本发明公开了一种基于火焰水解法制备沉积层的装置，包括下工作台和上罩体，该下工作台上固定安装有旋转台，该旋转台上固定安装有置料台，该置料台设有与旋转台的旋转方向相对应的倾斜角度，该上罩体上固定安装有火焰水解喷枪，该火焰水解喷枪也设有与置料台的倾斜角度相同的倾斜角度，即火焰水解喷枪的喷枪口与置料台的置料面呈垂直角度，本发明通过置料台的倾斜角度降低离心力影响沉积层厚度的问题，提高了沉积层的结构稳定。
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公开(公告)号：CN116240621A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202211727056.8
申请日：2022-12-27
申请人： 山东有研半导体材料有限公司 , 有研半导体硅材料股份公司
摘要： 本发明公开了一种直拉法制备超高电阻率硅衬底的方法，该方法的工艺流程为：直拉法制备硅单晶→单晶棒滚磨→多线切割→边缘倒角→双面研磨→化学腐蚀→热处理→化学机械抛光；其中，在所述直拉法制备硅单晶的工序中，单晶生长过程中使用水平超导磁场，磁场强度为1000‑5000高斯，同时，采用特定的晶体转速和坩埚转速相配合，晶体转速为1‑12rpm，坩埚转速为0.1‑2rpm；在所述热处理工序为POLY+LTO薄膜生长；或者为高温退火。该方法适用于制备直径在8英寸及以上、电阻率在3000Ω·cm以上、氧含量在5ppma以下的P型硅衬底。所制备的单晶氧含量低于5ppma，退火后电阻率能够达到3000Ω·cm以上，并且氧含量均匀性小于10％，电阻率均匀性小于5％。
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公开(公告)号：CN114302979A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080058428.5
申请日：2020-08-13
申请人： 查目科技股份有限公司
IPC分类号： C23C16/453 , C23C16/04 , C23C16/52 , G01N23/2206 , G01N23/22 , G01N23/04
摘要： 本发明提供一种能够检查和修理设置在大气中的被处理物的处理装置和一种适用于其的处理方法，所述处理装置包括：支撑部，所述支撑部设置在大气中且能够安置被处理物；腔部，所述腔部配置在支撑部的一侧且与被处理物相向的部分以开口的方式设置；第一发射部，所述第一发射部的至少一部分配置在腔部；第二发射部，所述第二发射部的至少一部分配置在腔部；检查部，所述检查部与第一发射部和第二发射部连接且用于检查被处理物的缺陷；及源供应部，所述源供应部与腔部连接，以便能够喷射用于沉积薄膜的源。
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公开(公告)号：CN106319479B
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201510390671.8
申请日：2015-07-06
申请人： 北大方正集团有限公司 , 深圳方正微电子有限公司
IPC分类号： C23C16/453
摘要： 本发明提供了一种皮带定位装置和包括所述皮带定位装置的常压化学气相沉积设备，该皮带定位装置包括：基座；调节件，调节件的一端安装在基座上，并伸出基座，调节件的另一端设置有连接件；限位件，限位件包括限位轮轴及限位轮，限位轮轴的一端与连接件连接，并伸出连接件，且限位轮轴与调节件垂直，限位轮轴的另一端套设有限位轮；其中，旋转调节件，可使限位件沿调节件的轴向方向运动，旋转限位轮轴，可使限位轮相对连接件沿限位轮轴的轴向方向运动。该技术方案，通过在皮带上设置皮带定位装置，并利用限位轮卡合住皮带，从而限制了皮带的运动轨迹，避免了皮带的运动轨迹变形，从而有效地避免了掉片、叠片等现象的产生。
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公开(公告)号：CN104746044B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201310738635.7
申请日：2013-12-27
发明人： 袁福顺
IPC分类号： C23C16/453 , C23C16/452 , H05H1/46
摘要： 本发明涉及反应腔室及等离子体加工设备，包括腔室顶壁、冷却单元和测温单元；冷却单元用于向腔室顶壁喷淋冷却水；测温单元包括温度传感器和环形挡板，腔室顶壁上设有透明窗口，温度传感器设于腔室顶壁上方，且与透明窗口相对应的位置处，用以透过透明窗口检测反应腔室的内部温度；环形挡板用于将透明窗口与冷却水隔离，以防止冷却水流入透明窗口上，在环形挡板内周壁上设有环绕内周壁一周的凹部，且凹部开口向上倾斜；在凹部内设有排水孔，用以将流入凹部的冷却水排出。上述反应腔室可使溅入到环形挡板内周壁上的冷却水沿环形挡板内周壁流入到凹部内，并经排水口排出，从而避免了冷却水流入到透明窗口上，对温度传感器的检测准确性造成不良影响。
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公开(公告)号：CN106319479A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201510390671.8
申请日：2015-07-06
申请人： 北大方正集团有限公司 , 深圳方正微电子有限公司
IPC分类号： C23C16/453
摘要： 本发明提供了一种皮带定位装置和包括所述皮带定位装置的常压化学气相沉积设备，该皮带定位装置包括：基座；调节件，调节件的一端安装在基座上，并伸出基座，调节件的另一端设置有连接件；限位件，限位件包括限位轮轴及限位轮，限位轮轴的一端与连接件连接，并伸出连接件，且限位轮轴与调节件垂直，限位轮轴的另一端套设有限位轮；其中，旋转调节件，可使限位件沿调节件的轴向方向运动，旋转限位轮轴，可使限位轮相对连接件沿限位轮轴的轴向方向运动。该技术方案，通过在皮带上设置皮带定位装置，并利用限位轮卡合住皮带，从而限制了皮带的运动轨迹，避免了皮带的运动轨迹变形，从而有效地避免了掉片、叠片等现象的产生。
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公开(公告)号：CN101512043B
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN200780033075.8
申请日：2007-05-03
申请人： 皮尔金顿集团有限公司 , 阿肯马公司
IPC分类号： C23C16/40 , C03C17/245 , C23C16/453
CPC分类号： C23C16/407 , C03C17/245 , C03C2217/216 , C03C2218/152 , C23C16/453
摘要： 制备涂覆有氧化锌的玻璃制品的大气压化学气相沉积法，通过将气态反应物流，具体地讲含锌化合物，和含氧化合物的一股或多股物流，引导到透明基材材料的表面上而制备，所述材料被加热至4000℃或更低的温度。
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公开(公告)号：CN118531374A
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202311685414.8
申请日：2023-12-08
申请人： 中天科技精密材料有限公司 , 江苏中天科技股份有限公司 , 复旦大学
IPC分类号： C23C16/453 , C23C16/50 , C23C16/455
摘要： 本申请涉及光纤制造技术领域，旨在解决一些已知的喷灯存在沉积效率低的问题，提供喷灯及等离子沉积设备。其中，喷灯包括第一管件、第二管件、第三管件、辅助进气管。第一管件限定进料通道，第一管件具有沿其长度方向相对设置的进料端和出料端。第二管件套接于第一管件的外侧，第二管件与第一管件围成辅助通道。第三管件套接于第二管件的外侧，第三管件与第二管件围成第一冷却通道。辅助进气管连接于第二管件，辅助进气管与第二管件的径向间距在靠近出料端的方向上逐渐减小。本申请的有益效果是提高喷灯的沉积效率。
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公开(公告)号：CN116288280A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310216715.X
申请日：2023-03-07
申请人： 北京北方华创真空技术有限公司
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/453
摘要： 本申请涉及化学气相沉积的领域，尤其是涉及一种化学气相沉积设备，包括底托、安装在所述底托上的反应区罩、安装在所述底托上且罩设在所述反应区罩外侧的反射罩、设置在所述反应区罩与所述反射罩之间的加热灯、位于所述反应区罩内且连通外界的反应气管，以及安装在所述底托上且位于所述反应区罩内的旋转支撑台；其中，所述反射罩反射至少部分所述加热灯发出的光，在所述旋转支撑台的外周构成环绕所述旋转支撑台的加热面。本申请具有使不规则且原料成本较高的零件生产时既节省原料又受热均匀的效果。
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公开(公告)号：CN114599815A
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202080064229.5
申请日：2020-09-11
申请人： 诺维尔里斯公司
IPC分类号： C23C16/453 , C23C16/455 , C23C16/54
摘要： 本文公开了用于经由干法化学沉积技术工程化金属基材表面的系统和方法。本文还描述了所得表面工程化的金属基材。更具体地，公开了具有薄膜的表面工程化的金属基材，所述薄膜经由包含氧化剂和可燃气体的气体混合物、包含含硅化合物和/或含磷化合物的化学前体和化学添加剂的混合物的火焰热解而沉积。
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