用于改进磁头定位的系统和方法

    公开(公告)号:CN102800331B

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201210166931.X

    申请日:2012-05-25

    IPC分类号: G11B5/58 G11B5/596

    CPC分类号: G11B5/59672

    摘要: 本发明提供了一种使用已有伺服模式改进磁头定位的准确度的系统和方法。在一个实施方式中,提供了一种改进读磁头定位的方法,所述方法包括:在要校准的读偏移量的范围上写一系列磁道;从该系列磁道测量原始磁道曲线的集合;在一系列信号幅值电平处对原始磁道曲线的集合采样;从所述经采样的磁道曲线的集合构建基准磁道曲线;从每个经采样的磁道曲线计算读偏移量变化量的集合;将读偏移量变化量的集合合并为平均读偏移量变化量的集合;以及将平均读偏移量变化量的集合转换为读偏移量校正表。还提供用于改进磁盘写磁头定位的类似方法,其利用这种读偏移量校正表来最终创建写偏移量校正表。

    硬盘双润滑层
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104538044A

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201410466282.4

    申请日:2014-07-30

    IPC分类号: G11B5/725 G11B5/842

    CPC分类号: G11B5/725

    摘要: 本发明名称为硬盘双润滑层。阐述了用于制造具有双润滑层的硬盘的系统和方法,该双润滑层允许最小化HDD磁头DFH触地点同时保持良好的摩擦力性能用于HDD可靠性。示例性硬盘包括磁性记录层、碳保护层、以及双润滑层:结合润滑层和移动润滑层。结合润滑层包括高保形性和高密度第一润滑剂。移动层包括提升HDI可靠性的高润滑性润滑剂。

    多速可编程成批式擦洗器系统

    公开(公告)号:CN105478393A

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201510639601.1

    申请日:2015-09-30

    IPC分类号: B08B1/04 B08B3/04 B08B13/00

    摘要: 示出了用于多速可编程成批式擦洗器系统和方法。所披露的系统包括:刷子,该刷子被配置成用于在清洗盘的过程中以多个速度擦洗该盘;梳刷系统,该梳刷系统被配置成用于在清洗过程中支撑该盘;清洗液布散器;以及第一去离子水布散器,该第一去离子水布散器被配置成用于在清洗过程中将水布散在该刷子上。该盘在多个预先确定的清洗步骤中被清洗,每个步骤包括预先确定的参数值,例如刷子RPM、步骤时长、清洗液布散器的布散状态、以及去离子水布散器的布散状态。

    用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统

    公开(公告)号:CN103170913A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201210559989.0

    申请日:2012-12-21

    IPC分类号: B24B55/12 B24B57/02

    CPC分类号: B24B57/02

    摘要: 本发明提供了用于在抛光工艺期间再循环泥浆材料的系统。一种系统包括抛光器和再循环组件,其中抛光器具有入口和排水出口以及泥浆存储罐,泥浆存储罐将包括预选材料的泥浆供给到抛光器的入口,再循环组件包括错流过滤器、密度计、阀门和控制器,其中错流过滤器包括从抛光器的排水出口接收含有预选材料的废料泥浆的入口,其中错流过滤器经配置从而浓缩出口泥浆中的预选材料,密度计经配置从而测量过滤器出口泥浆中的预选材料的浓度,阀门被联接到过滤器出口,并且经配置从而供给泥浆存储罐,并且控制器被联接到密度计和阀门,其中控制器经配置从而当预选材料的浓度达到第一浓度阈值时打开阀门。

    抛光后的磁盘清洁处理
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102310065A

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201110187642.3

    申请日:2011-06-29

    IPC分类号: B08B7/04

    摘要: 本发明提供一种清洁用于硬盘驱动器介质中的电镀抛光磁盘的方法。该方法包括将多个电镀抛光磁盘定位在包括多个第一刷子的第一批处理刷洗器中,其中多个电镀抛光磁盘的每个定位在第一刷子的两个之间;以及用第一刷子刷洗所述多个电镀抛光磁盘。该方法还包括将在第一批处理刷洗器中刷洗的多个电镀抛光磁盘定位在包括多个第二刷子的第二批处理刷洗器中,其中所述多个电镀抛光磁盘的每个定位在第二刷子的两个之间;以及用第二刷子刷洗所述多个电镀抛光磁盘。

    用于低温动态冷却的方法和装置

    公开(公告)号:CN105374658A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201510500645.6

    申请日:2015-08-14

    IPC分类号: H01J37/34 H01J37/02

    CPC分类号: F25D31/001 G11B5/8404

    摘要: 本发明涉及用于低温动态冷却的方法和装置。本发明的各个方面涉及用于热辅助磁记录介质基片的低温动态冷却装置和冷却方法。所述冷却装置包括被配置为接收基片的腔室。基片座将基片固定在腔室内。所述装置具有在腔室内的回缩位置和伸展位置之间可移动的冷却板。所述冷却板提供间隙以用于在回缩位置时所述基片座在所述腔室中运动,并且所述冷却板在伸展位置时冷却基片。而且,冷却板基本与基片平行且与其分隔。所述装置还包括低温冷却元件,其可操作地耦合到由低温冷却元件冷却的冷却板。