-
公开(公告)号：CN100441318C
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200610007705.1
申请日：2002-09-28
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
CPC分类号： H01L21/67034 , B05D1/26 , B05D3/0413
摘要： 本发明涉及一种涂布膜的干燥方法、涂布膜的形成方法以及涂布膜形成装置。在构成向下吹风的净化室内，可将被涂布面以向下姿势保持的基板的被涂布面上形成的涂布膜均匀地干燥。涂布装置具有将基板保持在其被涂布面面朝下的姿势的保持机构，配置在由所述保持机构保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽，贮存在所述液槽中的涂布液在毛细管现象作用下被上升到所述被涂布面的同时液体与所述被涂布面接触的喷嘴，和通过将所述喷嘴在所述被涂布面上来回扫喷以将所述涂布液涂布到所述被涂布面上的扫喷机构，其特征在于，还具有局部干燥所述涂布膜的干燥机构，同时，所述干燥机构的结构为追随所述喷嘴的扫喷而在所述被涂布面下扫射。
-
公开(公告)号：CN100389886C
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN02143093.4
申请日：2002-09-28
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
CPC分类号： H01L21/67034 , B05D1/26 , B05D3/0413
摘要： 本发明涉及一种涂布膜的干燥方法、涂布膜的形成方法以及涂布膜形成装置。在构成向下吹风的净化室内，可将被涂布面以向下姿势保持的基板的被涂布面上形成的涂布膜均匀地干燥。涂布装置具有将基板(20)以其被涂布面向下的姿势保持的吸盘(19)，和在由该吸盘(19)保持的基板(20)的被涂布面上涂布涂布液的涂布机构(22)，还具有朝向被涂布面供给净化空气的气流发生装置(21)。
-
公开(公告)号：CN1974028A
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN200610108320.4
申请日：2004-04-30
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
摘要： 提供一种基板涂覆装置及基板涂覆方法，该基板涂覆装置通过使用具有间隙的喷嘴，利用毛细管现象使存储在基板下方的涂覆液上升，使该涂覆液接触朝向下方的基板的被涂覆面，使所述基板和所述喷嘴相对移动，从而在所述被涂覆面上形成涂覆膜，该基板涂覆装置具有：测定从设在所述基板的被涂覆面下方的原点位置到所述基板的被涂覆面的距离的测定单元；使所述喷嘴升降的升降单元；以及根据所述测定单元的测定结果，算出用于使该涂覆液接触被涂覆面的所述喷嘴的上升量、和用于在涂覆液接触后形成规定膜厚的涂覆膜的喷嘴的下降量，并根据所述算出结果控制所述升降单元的控制单元。
-
公开(公告)号：CN1903449B
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200610126594.6
申请日：2002-09-28
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
CPC分类号： H01L21/67034 , B05D1/26 , B05D3/0413
摘要： 本发明提供一种涂布装置和涂布方法，该涂布装置具有：将基板保持在其被涂布面面朝下的姿势并移动的移动框架；配置在由所述移动框架保持的所述基板的所述被涂布面下方的液槽；贮存在所述液槽中的涂布液在毛细管现象作用下被上升到所述被涂布面的同时液体地与所述被涂布面接触的喷嘴，所述移动框架具有吸附所述基板的吸盘，所述吸盘以向下的姿势吸附所述基板，通过使吸附于所述吸盘的基板保持水平并以一定水平速度移动，将所述涂布液涂布到所述被涂布面上。
-
公开(公告)号：CN100482358C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200610115921.8
申请日：2004-04-09
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
摘要： 提供一种不使用旋转机构，就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。该涂敷装置(1a)，利用基板处理单元(2)的毛细管现象使储存在基板(10)下方的涂敷液上升，使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板(10)的被涂敷面，通过使基板处理单元(2)和基板(10)相对移动，在被涂敷面上形成涂敷膜，该涂敷装置具有：可以自由装卸地保持基板(10)的保持单元(5a)；在使基板(10)的被处理面朝向下方的状态下，从保持单元(5a)吸附基板(10)的吸附单元(3)；和使基板处理单元(2)和/或吸附单元(3)在水平面内移动的移动单元(4)。
-
公开(公告)号：CN1296145C
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200410033716.8
申请日：2004-04-09
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
IPC分类号： B05C13/00 , B05C5/02 , B05C11/105 , B05D1/26
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/68
摘要： 提供一种不使用旋转机构，就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。该涂敷装置(1a)，利用基板处理单元(2)的毛细管现象使储存在基板(10)下方的涂敷液上升，使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板(10)的被涂敷面，通过使基板处理单元(2)和基板(10)相对移动，在被涂敷面上形成涂敷膜，该涂敷装置具有：可以自由装卸地保持基板(10)的保持单元(5a)；在使基板(10)的被处理面朝向下方的状态下，从保持单元(5a)吸附基板(10)的吸附单元(3)；和使基板处理单元(2)和/或吸附单元(3)在水平面内移动的移动单元(4)。
-
公开(公告)号：CN1678170A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510058890.2
申请日：2005-03-30
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
CPC分类号： G03F7/16 , B05C5/0254 , B05C9/02
摘要： 一种带有抗蚀膜的基板的制造方法，在使抗蚀剂的涂覆膜(21a)的膜厚形成为规定的厚度，并且在可以调整的范围内调整液面高度H、毛细管状间隙间隔T、涂覆喷嘴(22)和被涂覆面(10a)的相对扫掠速度V，从而增大涂覆间隙G。由此，即使在使用通称为“CAP涂覆机”的涂覆装置进行抗蚀剂的涂覆的情况下，也能使涂覆膜的膜厚形成为规定的厚度，并且减小涂覆膜的膜厚分布，提高由所涂覆的抗蚀剂形成的抗蚀膜的膜厚均匀性。
-
公开(公告)号：CN1536437A
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：CN200410032480.6
申请日：2004-04-09
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
CPC分类号： G03F7/16
摘要： 本发明提供不使用翻转基板的旋转结构、干燥涂膜时不在其厚度方向产生瘀斑并且所形成的抗蚀膜具有很高的厚度均一性的抗蚀膜的形成方法以及应用该形成方法的光掩膜的制造方法。该方法中，在基材位置A处设置吸板19。在朝下的吸附面19’上吸附基板20，所述基板20的涂布面朝下。通过电动机17使吸附有基板20的吸板19移动，抗蚀液通过突出的喷嘴47浸湿基板20的下面，基板20随着吸板19以固定的速度移动到涂布终止位置，在此过程中进行涂布工序，涂布工序结束后，在保持基板朝下的状态下，利用电动机17从涂布终止位置开始，按照涂布时基板移动方向的反方向以固定的速度移动基板，移动的同时进行抗蚀膜的干燥。
-
公开(公告)号：CN1535763A
公开(公告)日：2004-10-13
申请号：CN200410033716.8
申请日：2004-04-09
申请人： HOYA株式会社
发明人： 元村秀峰
CPC分类号： H01L21/6715 , H01L21/68
摘要： 提供一种不使用旋转机构，就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。该涂敷装置1a，利用基板处理单元2的毛细管现象使储存在基板10下方的涂敷液上升，使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板10的被涂敷面，通过使基板处理单元2和基板10相对移动，在被涂敷面上形成涂敷膜，该涂敷装置具有：可以自由装卸地保持基板10的保持单元5a；在使基板10的被处理面朝向下方的状态下，从保持单元5a吸附基板10的吸附单元3；和使基板处理单元2和/或吸附单元3在水平面内移动的移动单元4。
-
公开(公告)号：CN101038445A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200710088511.3
申请日：2007-03-14
申请人： HOYA株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/14 , H01L21/027
摘要： 一种图案形成方法，具有利用采用了光刻法的多个图案形成工序，在同一基板上形成图案的工序，其中，至少具有：形成描绘对位所使用的对准标记的工序；和利用所述对准标记进行对位来描绘图案的工序，所述对准标记由遮光部以及透光部构成，在描绘所述图案的工序之前，除去在最上层具备反射防止膜的所述对准标记的遮光部的所述反射防止膜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
18 条记录 (耗时 0.017 秒)
