公开(公告)号：CN1777707A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200480010497.X

申请日：2004-06-09

申请人： ETC外延技术中心有限公司

发明人： N·斯佩恰莱 ,  G·瓦朗特 ,  D·克里帕 ,  V·波泽蒂 ,  F·普雷蒂

IPC分类号： C30B25/12 ,  C23C16/458

CPC分类号： C30B25/12

摘要： 本发明公开了一种用于能够处理基片和/或晶片的装置的支承系统(1)，所述系统包括具有基本平坦表面的固定基件(10)，在平坦表面上形成有带有基本平坦底部的基本圆柱形的支座(11)，以及可动的支承件(20)，其具有基本为盘形的形状，置于所述支座(11)内，能够围绕支座(11)的轴线进行旋转并具有基本平坦的底面和设置有至少一个用于基片或晶片的凹穴(21)的基本平坦的顶面；以及一个或多个气流的一个或多个通道(12)，其中所述通道(12)按照倾斜并优选为相对于所述轴线偏斜的方向设置在支座(11)内，以便抬起并旋转所述支承件(20)。

公开(公告)号：CN100529198C

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200480010497.X

申请日：2004-06-09

申请人： ETC外延技术中心有限公司

发明人： N·斯佩恰莱 ,  G·瓦朗特 ,  D·克里帕 ,  V·波泽蒂 ,  F·普雷蒂

IPC分类号： C30B25/12 ,  C23C16/458

CPC分类号： C30B25/12

摘要： 本发明公开了一种用于能够处理基片和/或晶片的装置的支承系统(1)，所述系统包括具有基本平坦表面的固定基件(10)，在平坦表面上形成有带有基本平坦底部的基本圆柱形的支座(11)，以及可动的支承件(20)，其具有基本为盘形的形状，置于所述支座(11)内，能够围绕支座(11)的轴线进行旋转并具有基本平坦的底面和设置有至少一个用于基片或晶片的凹穴(21)的基本平坦的顶面；以及一个或多个气流的一个或多个通道(12)，其中所述通道(12)按照倾斜并优选为相对于所述轴线偏斜的方向设置在支座(11)内，以便抬起并旋转所述支承件(20)。

公开(公告)号：CN1714169A

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN03825587.1

申请日：2003-06-11

申请人： ETC外延技术中心有限公司

发明人： N·斯佩恰莱 ,  G·瓦朗特 ,  D·克里帕 ,  F·普雷蒂

IPC分类号： C23C16/46 ,  C30B25/12 ,  C30B25/10 ,  C30B31/12 ,  H05B6/02 ,  F27B14/06 ,  H01L21/00 ,  C23C16/458

CPC分类号： C30B25/10 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/46 ,  C30B25/12 ,  C30B31/14 ,  C30B35/00 ,  F27B14/061 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67784 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68714

摘要： 本发明介绍了一种系统，用于处理基片和/或晶片的装置，该系统包括：静止基座元件(600)以及用于至少一个基片或至少一个晶片的活动支承件(610)，该支承件可在该元件(600)上面绕静止轴线旋转；腔室(610)；以及至少一个导管，用于允许至少一个气流通向腔室，以便升高该支承件(610)；系统还包括用于将气体进入腔室的流动转变成支承件的旋转的装置。