公开(公告)号：CN102520583B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201110317143.1

申请日：2003-03-28

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： S·F·瓦纳特 ,  R·R·普拉斯 ,  J·E·奥伯兰德 ,  D·麦肯齐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。

公开(公告)号：CN102520583A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN201110317143.1

申请日：2003-03-28

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： S·F·瓦纳特 ,  R·R·普拉斯 ,  J·E·奥伯兰德 ,  D·麦肯齐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。

公开(公告)号：CN1650232A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN03808168.7

申请日：2003-03-28

Applicant: AZ电子材料日本株式会社

Inventor： S·F·瓦纳特 ,  R·R·普拉斯 ,  J·E·奥伯兰德 ,  D·麦肯齐

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明公开了一种光刻胶组合物，其包含：a)至少一种选自线性酚醛清漆树脂和聚羟基苯乙烯的成膜树脂；b)至少一种光活性化合物或光酸产生剂；和c)包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂的溶剂组合物。还公开了一种包含聚碳酸酯树脂和溶剂组合物的光刻胶组合物，所述溶剂组合物包含至少一种选自缩醛和缩酮的溶剂。还公开了一种用于将光刻胶组合物成像的方法，其包括如下步骤：a)用任何一种前述光刻胶组合物涂覆基材；b)烘烤基材以基本上去除溶剂；c)成像式照射光刻胶膜；和d)用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。