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公开(公告)号：CN110730930B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN201880037959.9
申请日：2018-05-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率：(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
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公开(公告)号：CN117813558A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280056334.3
申请日：2022-08-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 披露了一种用于测量衬底上的位于至少一个层下方的目标的方法。所述方法包括：利用包括至少一种泵浦波长的泵浦辐射激发所述至少一个层，以便在所述至少一个层内产生从所述目标反射的声波，由此在所述衬底的表面处产生所述目标的声学复制品；以及利用包括至少一种探测波长的探测辐射照射所述声学复制品，并且捕获从所述声学复制品散射的得到的经散射的探测辐射。所述激发步骤和所述照射步骤中的一个或两个步骤包括：在所述至少一个层的残余形貌上产生从所述目标得到的表面等离子体激元(SPP)。
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公开(公告)号：CN110088682B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201780077241.8
申请日：2017-11-22
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： EUV辐射源(42，300)被用于例如光刻设备或检查设备中。为了产生EUV辐射(302)，将位于第二波段的激光辐射(304)引导到液体锡燃料(69)的靶上，以使得产生等离子体。在传递所述激光辐射(304)之前或期间将光栅辐射(328)引导到所述靶上，以产生具有空间分布的电磁场，所述空间分布包括跨过靶(406)的多个峰和谷。这使得所述靶的性质，诸如折射率，产生对应的空间变化。如果能量足够高，则它可以使得光栅图案中发生烧蚀或形成等离子体。通过一个或更多个机制，诸如表面等离子体激元，靶的光学性质的这种周期性变化提高了激光能量的吸收，从而提高了辐射源设备的转换效率。
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公开(公告)号：CN110730930A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201880037959.9
申请日：2018-05-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率：(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
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公开(公告)号：CN110214261A
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201880008551.9
申请日：2018-01-10
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。随着使用数目增加的具体材料沉积到衬底上的层的数目增加，变得越来越难以准确地检测对准标记，这部分地是由于在一个或更多个层中使用的一种或更多种材料对于用于检测对准标记的辐射是完全或部分不透明的。在第一步骤中，用激发辐射照射衬底。在第二步骤中，以适当的方式测量与由埋入的结构散射的反射材料效应相关联的至少一种效应。在一个示例中，该效应可以包括衬底表面的物理移位。在第三步骤中，基于所测量的效应导出所述结构的至少一个特性。
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公开(公告)号：CN110088682A
公开(公告)日：2019-08-02
申请号：CN201780077241.8
申请日：2017-11-22
申请人： 阿姆斯特丹大学 , 阿姆斯特丹自由大学基金会 , 物资基础研究基金会 , ASML荷兰有限公司
摘要： EUV辐射源(42，300)被用于例如光刻设备或检查设备中。为了产生EUV辐射(302)，将位于第二波段的激光辐射(304)引导到液体锡燃料(69)的靶上，以使得产生等离子体。在传递所述激光辐射(304)之前或期间将光栅辐射(328)引导到所述靶上，以产生具有空间分布的电磁场，所述空间分布包括跨过靶(406)的多个峰和谷。这使得所述靶的性质，诸如折射率，产生对应的空间变化。如果能量足够高，则它可以使得光栅图案中发生烧蚀或形成等离子体。通过一个或更多个机制，诸如表面等离子体激元，靶的光学性质的这种周期性变化提高了激光能量的吸收，从而提高了辐射源设备的转换效率。
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