公开(公告)号：CN101583909A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200780035599.0

申请日：2007-09-25

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·M·J·W·范赫彭 ,  V·Y·拜尼恩 ,  J·C·L·弗兰肯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  D·J·W·克朗德尔 ,  N·M·德里森 ,  W·A·索尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置(1)。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面(3)和构造用于从传感器表面去除碎片(6)的去除机构(5)。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和/或污染物测量。

公开(公告)号：CN101583909B

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN200780035599.0

申请日：2007-09-25

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： M·M·J·W·范赫彭 ,  V·Y·拜尼恩 ,  J·C·L·弗兰肯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  D·J·W·克朗德尔 ,  N·M·德里森 ,  W·A·索尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置(1)。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面(3)和构造用于从传感器表面去除碎片(6)的去除机构(5)。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和/或污染物测量。

公开(公告)号：CN100538525C

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200510056552.5

申请日：2005-01-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·H·J·穆尔斯 ,  J·C·L·弗兰肯 ,  U·米坎 ,  H·-J·沃尔马

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70891

Abstract: 一种光刻设备，包括：照明系统，用于提供辐射的投射光束；支撑结构，用于支撑构图装置，该构图装置用于使投射光束在其横截面上具有图案；衬底台，用于支承衬底；投射系统，用于将带图案的光束投射到衬底的目标部分上；以及收集器，被设置成用于将从第一辐射源接收的辐射传输到照明系统上，其中所述设备包括至少一个加热器，以在收集器没有从第一辐射源接收辐射时加热该收集器，其中所述加热器至少包括或者连接到一个控制器，用于控制所述加热器，而且所述控制器设置成当第一辐射源不作用时启动加热器。本发明还提供一种收集器和器件制造方法。

公开(公告)号：CN1648777A

公开(公告)日：2005-08-03

申请号：CN200510056552.5

申请日：2005-01-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·H·J·穆尔斯 ,  J·C·L·弗兰肯 ,  U·米坎 ,  H·-J·沃尔马

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70891

Abstract: 一种光刻设备，包括提供辐射的投射光束(PB)的照明系统(IL)、支持构图装置(MA)的支撑结构(MT)，该构图装置(MA)用于使投射光束(PB)在其横截面上构成图案。所述设备进一步包括支持衬底(W)的衬底台(WT)、将受到构图的光束投射到衬底(W)的目标部分上的投射系统(PL)，以及收集器(1；101；201)，收集器(1；101；201)设置成将从第一辐射源(SO)接收的辐射(R)传输到照明系统(IL)。所述设备包括至少一个加热器(2；102；202)，用于当收集器基本上没有从第一辐射源(SO)接收辐射时加热收集器(1；101；201)。该发明还提供一种器件制造方法以及由此制成的器件。