公开(公告)号：CN118119734A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202280070446.4

申请日：2022-10-17

申请人： 默克专利股份有限公司 ,  沃萨姆材料美国有限责任公司

发明人： R·坎乔利亚 ,  J-S·莱恩 ,  M·E·麦克布里阿提 ,  R·皮尔斯泰因 ,  J·L·麦克威廉姆斯 ,  N·M·吴

IPC分类号： C23F1/12 ,  C09K13/00 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213

摘要： 所公开及要求保护的主题涉及利用一系列新颖不含卤素有机酸的选择性的热原子层蚀刻，其利用氧化剂作为共反应物循环以蚀刻金属。

公开(公告)号：CN113166930B

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN201980079591.7

申请日：2019-12-03

申请人： 默克专利股份有限公司 ,  加利福尼亚大学董事会

发明人： R·坎乔利亚 ,  M·蒙普尔 ,  J·伍德拉夫 ,  S·沃尔夫 ,  M·布里登 ,  S·T·乌达 ,  A·库梅尔 ,  A·阿努拉格

IPC分类号： C23C16/18 ,  C23C16/455

摘要： 本发明构思涉及选择性金属层沉积。实施方案包括一种用于金属的原子层沉积(ALD)的方法，该方法包括以下至少一个循环：a)将衬底暴露于金属有机前体，所述衬底包含的表面包含金属部分和绝缘体部分；b)在衬底的金属部分的上表面上沉积金属有机前体，以在衬底的金属部分的上表面上选择性地提供金属前体层；c)将金属前体层暴露于共反应物；d)将共反应物沉积在金属前体层上，其中所述共反应物参与与金属前体层的配体交换。

公开(公告)号：CN118648092A

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202380019999.1

申请日：2023-02-01

申请人： 默克专利股份有限公司 ,  北卡罗来纳州立大学

发明人： R·坎乔利亚 ,  J·伍德拉夫 ,  M·蒙普尔 ,  C·德泽拉赫 ,  H·萨莱 ,  谢稳仪 ,  G·帕森斯 ,  M·麦克布利亚蒂

IPC分类号： H01L21/3213 ,  C23F1/00

摘要： 所公开和要求保护的主题涉及使用亚硫酰氯（SOCl2）或亚硫酰氯和吡啶的组合对金属及其合金（例如，钴和钴合金）进行热原子层蚀刻（ALE）加工。

公开(公告)号：CN115516130A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202180033920.1

申请日：2021-06-15

申请人： 默克专利股份有限公司

发明人： V·K·纳拉西穆罕 ,  J-S·M·莱恩 ,  K·利塔奥 ,  J·伍德拉夫 ,  R·坎乔利亚

IPC分类号： C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  H01L21/02 ,  H01L21/28 ,  H01L29/51

摘要： 所公开并要求保护的主题涉及结晶铁电材料，其包含氧化铪及氧化锆的混合物，具有大量(即约40％或更多)或大部分的该材料在沉积时(即不需要进一步加工诸如后续覆盖或退火)呈铁电相及用于制备及沉积这些材料的方法。

公开(公告)号：CN113166930A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980079591.7

申请日：2019-12-03

申请人： 默克专利股份有限公司 ,  加利福尼亚大学董事会

发明人： R·坎乔利亚 ,  M·蒙普尔 ,  J·伍德拉夫 ,  S·沃尔夫 ,  M·布里登 ,  S·T·乌达 ,  A·库梅尔 ,  A·阿努拉格

IPC分类号： C23C16/18 ,  C23C16/455

摘要： 本发明构思涉及选择性金属层沉积。实施方案包括一种用于金属的原子层沉积(ALD)的方法，该方法包括以下至少一个循环：a)将衬底暴露于金属有机前体，所述衬底包含的表面包含金属部分和绝缘体部分；b)在衬底的金属部分的上表面上沉积金属有机前体，以在衬底的金属部分的上表面上选择性地提供金属前体层；c)将金属前体层暴露于共反应物；d)将共反应物沉积在金属前体层上，其中所述共反应物参与与金属前体层的配体交换。