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公开(公告)号：CN112640038A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980057338.1
申请日：2019-08-23
Applicant: 首选网络株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , G06N3/02 , H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 一种用于提高制造工艺的仿真精度的学习装置。该学习装置包括：取得部，取得对象物的图像数据和关于针对所述对象物的处理的数据；以及学习部，向学习模型输入所述对象物的图像数据和关于所述处理的数据，并且以使所述学习模型的输出接近所述处理后的所述对象物的图像数据的方式，使所述学习模型进行学习。
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公开(公告)号：CN112640038B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN201980057338.1
申请日：2019-08-23
Applicant: 首选网络株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , G06N3/02 , H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 一种用于提高制造工艺的仿真精度的学习装置。该学习装置包括：取得部，取得对象物的图像数据和关于针对所述对象物的处理的数据；以及学习部，向学习模型输入所述对象物的图像数据和关于所述处理的数据，并且以使所述学习模型的输出接近所述处理后的所述对象物的图像数据的方式，使所述学习模型进行学习。
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公开(公告)号：CN116783688A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202180086058.0
申请日：2021-12-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种参数导出装置、参数导出方法和参数导出程序，其使用形状模拟器，导出模拟参数的全局性最佳解。参数导出装置包括：生成部，用于生成表示在相同处理条件下处理的基板的处理前形状的数据和表示处理后形状的数据的多个组合，在所述多个组合中，表示处理前或处理后的任意一者的形状的数据不同于其他组合的表示处理前或处理后的形状的数据；以及导出部，用于导出使表示所预测的处理后的形状的数据与表示对应的处理后的形状的数据的各差分值的总和最小的、形状模拟器的模拟参数的值，所述所预测的处理后的形状是通过将所述多个组合中包含的表示各自处理前的形状的数据输入到所述形状模拟器中来预测的。
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公开(公告)号：CN104851794B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201510076454.1
申请日：2015-02-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/67 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/311 , H01J37/32091 , H01J37/32137 , H01J37/32449 , H01J37/32724 , H01J2237/334 , H01L21/31116 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/76897
Abstract: 本发明提供一种相对于由氮化硅构成的第2区域而对由氧化硅构成的第1区域选择性地进行蚀刻的蚀刻方法和等离子体处理装置。该方法具有工序(a)和工序(b)。在工序(a)中，将被处理体暴露在碳氟化合物气体的等离子体中而在第2区域上形成比形成在第1区域上的保护膜厚的保护膜。在工序(b)中，利用碳氟化合物气体的等离子体来对第1区域进行蚀刻。在工序(a)中，将被处理体的温度设定为60℃～250℃的温度。
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公开(公告)号：CN111684541B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN201980011654.5
申请日：2019-01-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种信息处理装置，包括：记录单元，记录用于对被处理体的变化进行再现的模型数据，模型数据是根据被处理体的开始状态数据与在预定处理条件下对被处理体执行工艺处理后的被处理体的结束状态数据之间的差分数据，作为工艺处理的效果构建而成；输入接受单元，接受被处理体的开始状态数据及作为目标的被处理体的结束状态数据的输入；预测单元，使用记录在记录单元中的模型数据及多个模型数据的组合，对输入接受单元接受的被处理体的开始状态数据的被处理体的结束状态数据进行预测；以及确定单元，基于预测的被处理体的结束状态数据与接受的作为目标的被处理体的结束状态数据之间的接近度，确定对被处理体执行的工艺处理的预定处理条件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111527486B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN201880083796.8
申请日：2018-12-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G06F16/00
Abstract: 本发明对在制造工艺中收集到的数据实现通用性高的数据处理。数据处理装置具有：计算单元，收集与工艺内的规定步骤建立对应的数据群，并关于各个数据群来计算该规定步骤中的效果；分割单元，分割特征空间，以便与上述规定步骤建立对应的多个数据群各自在该特征空间中的分布按计算出的每一上述效果被分类；以及输出单元，输出特定数据，该特定数据特定分割后的上述特征空间的各区域。
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公开(公告)号：CN111684541A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011654.5
申请日：2019-01-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种信息处理装置，包括：记录单元，记录用于对被处理体的变化进行再现的模型数据，模型数据是根据被处理体的开始状态数据与在预定处理条件下对被处理体执行工艺处理后的被处理体的结束状态数据之间的差分数据，作为工艺处理的效果构建而成；输入接受单元，接受被处理体的开始状态数据及作为目标的被处理体的结束状态数据的输入；预测单元，使用记录在记录单元中的模型数据及多个模型数据的组合，对输入接受单元接受的被处理体的开始状态数据的被处理体的结束状态数据进行预测；以及确定单元，基于预测的被处理体的结束状态数据与接受的作为目标的被处理体的结束状态数据之间的接近度，确定对被处理体执行的工艺处理的预定处理条件。
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公开(公告)号：CN119156688A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202380038791.4
申请日：2023-04-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , G05B19/418 , G06N20/00 , H01L21/02
Abstract: 本发明提供模型生成方法、计算机程序以及信息处理装置。由计算机执行如下的处理：获取用于构建工艺配方的多个变量组、表示执行工艺配方的特定步骤之前的被处理体的状态的状态数据、以及表示被处理体的目标状态的目标数据；从多个变量组选择一个变量组，对通过执行由所选择的一个变量组表征的一个步骤而得到的上述被处理体的状态进行评价；以及通过使用获取到的状态数据及目标数据、以及根据所评价的上述被处理体的状态而决定的报酬的强化学习，生成用于工艺配方构建的模型。
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公开(公告)号：CN112149268A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010586197.7
申请日：2020-06-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G06F30/20 , G06F111/10
Abstract: 本发明提供数据处理装置、数据处理方法和程序，提高制造工艺的模拟的精度。具有：第1储存部，其储存有以根据针对与制造工艺的规定的步骤建立了对应的多个数据组分别计算出的在该规定的步骤中的效果，对该多个数据组各自在特征空间中的分布进行分类的方式，对该特征空间进行了分割的情况下的确定各区域的解析结果；第2储存部，其将通过被输入被分类于所述特征空间的各区域的数据组而输出与各区域对应的各个效果的多个模型，与各区域建立了对应并储存；以及执行部，其在新取得与所述规定的步骤建立了对应的数据组并基于所述解析结果而判定出该取得的数据组被分类的1个区域的情况下，使用与该1个区域建立了对应地储存的模型进行模拟处理。
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公开(公告)号：CN104851794A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201510076454.1
申请日：2015-02-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/67 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/311 , H01J37/32091 , H01J37/32137 , H01J37/32449 , H01J37/32724 , H01J2237/334 , H01L21/31116 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/76897
Abstract: 本发明提供一种相对于由氮化硅构成的第2区域而对由氧化硅构成的第1区域选择性地进行蚀刻的蚀刻方法和等离子体处理装置。该方法具有工序(a)和工序(b)。在工序(a)中，将被处理体暴露在碳氟化合物气体的等离子体中而在第2区域上形成比形成在第1区域上的保护膜厚的保护膜。在工序(b)中，利用碳氟化合物气体的等离子体来对第1区域进行蚀刻。在工序(a)中，将被处理体的温度设定为60℃～250℃的温度。
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