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公开(公告)号:CN119717166A
公开(公告)日:2025-03-28
申请号:CN202410135176.1
申请日:2024-01-31
Applicant: 青岛海信宽带多媒体技术有限公司
Abstract: 本公开提供的光模块及混合InP/Si光芯片组件中,包括混合InP/Si光芯片;混合InP/Si光芯片包括:Si平台,集成有硅光电路Si平台上设置有InP区域,InP区域无焊盘;Si平台的顶部设置射频焊盘和直流偏置焊盘,射频焊盘位于InP区域的一侧,直流偏置焊盘位于InP区域的另一侧;InP相位调制器,位于InP区域;InP相位调制器包括InP波导和电极,电极设置在InP波导的顶部,InP波导耦合连接直流偏置焊盘;射频行波导,一端连接射频焊盘、延伸经过InP波导的上方并延伸至InP区域的另一侧;射频行波导连接电极。提升了相位调制器的调制速率,适应高速率光模块的需求。
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公开(公告)号:CN119717137A
公开(公告)日:2025-03-28
申请号:CN202410135674.6
申请日:2024-01-31
Applicant: 青岛海信宽带多媒体技术有限公司
Abstract: 本公开提供的混合InP/Si光芯片的制备方法及应用,制备方法包括:形成第一衬底,第一衬底包括衬底层和BOX层,BOX层位于衬底层的上方;在BOX层上方形成Si波导层,刻蚀Si波导层形成输入Si波导和输出Si波导;在刻蚀后的Si波导层周围形成第一SiO2层;在第一SiO2层上方设置InP裸片,InP裸片包括n‑InP层、第一i‑InP层、量子肼层、第二i‑InP层、p‑InP层和第二衬底;刻蚀InP裸片形成InP波导;在InP波导的侧边形成第二SiO2层,第一SiO2层和第二SiO2层形成SiO2层;在第二SiO2层的顶部形成射频焊盘、直流偏置焊盘、射频行波导和电极。适应高速率光模块的需求。
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公开(公告)号:CN222381056U
公开(公告)日:2025-01-21
申请号:CN202421234608.6
申请日:2024-05-31
Applicant: 青岛海信宽带多媒体技术有限公司
Abstract: 本公开提供的激光器、混合集成光芯片及光模块中,激光器从上至下包括:P‑InP欧姆接触层、P型InP层、量子阱层、N‑InP欧姆接触层、N型InP层及波导层。其中,P型InP层向量子阱层提供P型载流子,N型InP层向量子阱层提供N型载流子。P型载流子与N型载流子在量子阱层内复合产生光。波导层位于量子阱的下方。波导层的光学限制因子大于量子阱层的光学限制因子,因此量子阱层内的光场较大,从而向下耦合至波导层内,然后经波导层输出光。本公开实施例提供的激光器发光形态为向下发光,然后水平输出。本公开实施例提供的激光器可被集成于硅光类的光芯片中,从而将发光与调制集成于同一芯片中。
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