X射线相位衬度检测器
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113243927A

    公开(公告)日:2021-08-13

    申请号:CN202110024957.X

    申请日:2021-01-08

    Abstract: 本发明题为“X射线相位衬度检测器”。本公开涉及相位衬度成像检测器的制造和用途,该相位衬度成像检测器包括子像素分辨率电极或光电二极管,该子像素分辨率电极或光电二极管被间隔开以对应于相位衬度干涉图案。使用此类检测器的系统可采用比通常在相位衬度成像系统中使用的光栅更少的光栅,其中通常由检测器侧分析仪光栅提供的某些功能性由检测器的子像素分辨率结构(例如,电极或光电二极管)执行。使用检测器采集的测量结果可用于不需要在不同相位阶跃处进行多次采集的情况下确定相位衬度干涉图案的偏移、振幅和相位。

    X射线成像系统的使用和校准

    公开(公告)号:CN111435120A

    公开(公告)日:2020-07-21

    申请号:CN201911419668.9

    申请日:2019-12-31

    Abstract: 本公开涉及在成像过程期间实时确定X射线焦点的位置,以及使用所述焦点位置来确保所述焦点与高长宽比探测器元件的对准或校正焦点不对准,从而减轻图像伪影。例如,可在扫描期间使用电磁电子束转向来实时监测和调节焦点位置。另选地,可应用先前确定的焦点位置与测量数据之间的函数关系来解决或校正所获取的数据中的焦点不对准。

    X射线相位衬度检测器
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113243927B

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN202110024957.X

    申请日:2021-01-08

    Abstract: 本发明题为“X射线相位衬度检测器”。本公开涉及相位衬度成像检测器的制造和用途,该相位衬度成像检测器包括子像素分辨率电极或光电二极管,该子像素分辨率电极或光电二极管被间隔开以对应于相位衬度干涉图案。使用此类检测器的系统可采用比通常在相位衬度成像系统中使用的光栅更少的光栅,其中通常由检测器侧分析仪光栅提供的某些功能性由检测器的子像素分辨率结构(例如,电极或光电二极管)执行。使用检测器采集的测量结果可用于不需要在不同相位阶跃处进行多次采集的情况下确定相位衬度干涉图案的偏移、振幅和相位。

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