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公开(公告)号：CN1653248A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810266.8
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了等离子体辅助发动机排气处理的方法和装置。在一个实施例中，发动机排气处理系统包括至少一个管道，该管道包括入口部分(215)、出口部分(216)、中间部分(205)和至少一个等离子体腔(210)。该入口部分设置成与发动机气缸(510)相连并接收排气。该出口部分在等离子体处理后排出所述气体。该中间部分将排气从入口部分传送到出口部分。在一个实施例中，一个或多个等离子体腔(342，344，346)位于入口部分附近，用于处理排气。该系统也包括与各腔相连的电磁辐射源(340)，用于将辐射提供到各腔，其中辐射的频率小于大约333GHz。还提供了采用等离子体催化剂(70，170)的排气处理。
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公开(公告)号：CN1653161A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810271.4
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明为各种掺杂过程提供了激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在的情况下，通过使气体受到一定量的电磁辐射，在腔(285)中形成等离子体(610)，并将至少一种掺杂材料加入等离子体，来掺杂衬底(250)。然后允许所述材料浸入衬底。本发明还提供了各种活性和惰性催化剂。
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公开(公告)号：CN1652889A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810272.2
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了用于等离子辅助烧结的方法和系统。该方法包括在等离子体催化剂存在的情况下使气体受到辐射在腔(12)内激发烧结等离子体，并将可以是粉末材料成分的物体的至少一部分暴露在等离子体中一段足够长的时间以烧结物体的至少一部分。
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公开(公告)号：CN1304103C
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN03810273.0
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
IPC: B01J19/08
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了用于合成碳结构的用于激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，提供了用于合成碳结构的方法，包括在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到电磁辐射来形成等离子体，将至少一种含碳材料加入所述等离子体以在衬底上生长碳结构。本发明中还提供了多种类型的等离子体催化剂。
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公开(公告)号：CN1653574A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810274.9
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了等离子体辅助气体产生的方法和装置。在一个实施例中，包括至少一种原子或分子种类的气体流入腔(305)。使该气体受到频率小于约333GHz(可选地在等离子体催化剂存在的情况下)的电磁辐射，在腔(305)中形成等离子体(310)。过滤器(315)与该腔(305)流体连通，它能使所述原子或分子种类通过，但阻止其它种类通过。用这种方法，所选的种类可以被提取和收集，用于存储或直接使用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1652893A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810265.X
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
IPC: B23K26/00
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了在生产线中用于等离子体辅助处理多个工件的方法及装置。在一个实施例中，该方法可以包括将工件(320)放置在可动运载部分上，将输送装置(310)上的运载部分移入辐射区域，使气体流入辐射区域，激发辐射区域中的气体以形成等离子体(例如，通过在等离子体催化剂存在的情况下使气体受到电磁辐射的方式)，维持等离子体一段足够长的时间以至少部分地等离子体处理辐射区域中的至少一个工件(320)，并且推进输送装置(310)将至少一个等离子体处理过的工件移出辐射区域。本发明还提供了各种类型的等离子体催化剂。
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公开(公告)号：CN1302843C
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN03810268.4
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
IPC: B01J19/08
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了一种渗碳物体表面区域的系统和方法，其包括：使气体受到产生于辐射源(52)的电磁辐射，在等离子体催化剂(70)存在的情况下来激发含碳等离子体。该方法还包括将该物体的表面区域暴露于等离子体一段足够长的时间以从等离子体将至少一部分碳通过第一表面区域转移到该物体。
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公开(公告)号：CN1750900A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200380104608.9
申请日：2003-12-04
Applicant: 达纳公司
IPC: B23K10/00
Abstract: 一种等离子体辅助熔炼的装置和方法。在一个实施例中，等离子体辅助熔炼方法包括：(1)将固体添加入熔炼区域；(2)这样在腔中形成等离子体，在存在等离子体催化剂的情况下，对气体施加电磁辐射，所述辐射的频率小于约333GHz，其中所述腔具有壁；(3)将所述等离子体维持在所述腔中，从而来自所述等离子体的能量通过所述壁进入所述熔炼区域，并将所述固体熔化成液体；以及(4)收集所述液体。根据本发明可以熔炼的固体包括例如金属矿和废金属的金属。本发明还提供了各种等离子体催化剂。
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公开(公告)号：CN1653870A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810279.X
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了用于一个或多个部件的等离子体辅助连接的方法和装置。连接过程可包括例如在腔中相互接近地放置至少第一和第二连接区域，在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到电磁辐射在所述腔内形成等离子体，以及维持所述等离子体至少直到所述第一和第二连接区域被连接。本发明还提供了用于激发、调节和维持连接等离子体的等离子体催化剂、方法和装置。本发明还提供了用于选择性等离子体连接的其它腔形状、方法和装置。
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公开(公告)号：CN1652867A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810273.0
申请日：2003-05-07
Applicant: 达纳公司
IPC: B01J19/08
CPC classification number: H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
Abstract: 本发明提供了用于合成碳结构的用于激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，提供了用于合成碳结构的方法，包括在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到电磁辐射来形成等离子体，将至少一种含碳材料加入所述等离子体以在衬底上生长碳结构。本发明中还提供了多种类型的等离子体催化剂。
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