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公开(公告)号：CN1653248A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810266.8
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了等离子体辅助发动机排气处理的方法和装置。在一个实施例中，发动机排气处理系统包括至少一个管道，该管道包括入口部分(215)、出口部分(216)、中间部分(205)和至少一个等离子体腔(210)。该入口部分设置成与发动机气缸(510)相连并接收排气。该出口部分在等离子体处理后排出所述气体。该中间部分将排气从入口部分传送到出口部分。在一个实施例中，一个或多个等离子体腔(342，344，346)位于入口部分附近，用于处理排气。该系统也包括与各腔相连的电磁辐射源(340)，用于将辐射提供到各腔，其中辐射的频率小于大约333GHz。还提供了采用等离子体催化剂(70，170)的排气处理。
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公开(公告)号：CN1653161A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810271.4
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明为各种掺杂过程提供了激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在的情况下，通过使气体受到一定量的电磁辐射，在腔(285)中形成等离子体(610)，并将至少一种掺杂材料加入等离子体，来掺杂衬底(250)。然后允许所述材料浸入衬底。本发明还提供了各种活性和惰性催化剂。
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公开(公告)号：CN1652889A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810272.2
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了用于等离子辅助烧结的方法和系统。该方法包括在等离子体催化剂存在的情况下使气体受到辐射在腔(12)内激发烧结等离子体，并将可以是粉末材料成分的物体的至少一部分暴露在等离子体中一段足够长的时间以烧结物体的至少一部分。
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公开(公告)号：CN1304103C
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN03810273.0
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： B01J19/08
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了用于合成碳结构的用于激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，提供了用于合成碳结构的方法，包括在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到电磁辐射来形成等离子体，将至少一种含碳材料加入所述等离子体以在衬底上生长碳结构。本发明中还提供了多种类型的等离子体催化剂。
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公开(公告)号：CN1653574A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810274.9
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了等离子体辅助气体产生的方法和装置。在一个实施例中，包括至少一种原子或分子种类的气体流入腔(305)。使该气体受到频率小于约333GHz(可选地在等离子体催化剂存在的情况下)的电磁辐射，在腔(305)中形成等离子体(310)。过滤器(315)与该腔(305)流体连通，它能使所述原子或分子种类通过，但阻止其它种类通过。用这种方法，所选的种类可以被提取和收集，用于存储或直接使用。
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公开(公告)号：CN1652893A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810265.X
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： B23K26/00
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了在生产线中用于等离子体辅助处理多个工件的方法及装置。在一个实施例中，该方法可以包括将工件(320)放置在可动运载部分上，将输送装置(310)上的运载部分移入辐射区域，使气体流入辐射区域，激发辐射区域中的气体以形成等离子体(例如，通过在等离子体催化剂存在的情况下使气体受到电磁辐射的方式)，维持等离子体一段足够长的时间以至少部分地等离子体处理辐射区域中的至少一个工件(320)，并且推进输送装置(310)将至少一个等离子体处理过的工件移出辐射区域。本发明还提供了各种类型的等离子体催化剂。
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公开(公告)号：CN1324931C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN03810267.6
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了使用多个辐射源的等离子体辅助方法和装置。在一个实施例中，在惰性或活性等离子体催化剂存在的情况下，通过使处理腔中的气体受到频率低于约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。使用控制器来延迟一个辐射源相对于另一个辐射源的激活。
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公开(公告)号：CN1324114C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN03810271.4
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明为各种掺杂过程提供了激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在的情况下，通过使气体受到一定量的电磁辐射，在腔(285)中形成等离子体(610)，并将至少一种掺杂材料加入等离子体，来掺杂衬底(250)。然后允许所述材料浸入入衬底。本发明还提供了各种活性和惰性催化剂。
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公开(公告)号：CN1653869A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810276.5
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了用于使物体表面至少部分消除结晶而激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，提供了通过形成等离子体(例如使气体受到一定的电磁辐射，可选择在等离子体催化剂存在的情况下)并将物体表面暴露在等离子体中来使物体表面消除结晶的方法。
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公开(公告)号：CN1653867A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810269.2
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： H05H1/46 , H05H1/00 , C23C16/517 , C23C16/455 , C23C16/452 , C23C14/02 , C23C16/48
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了用于激发、调节和维持等离子体(615)以实现各种涂覆处理的方法和装置。在一个实施例中，在等离子体催化剂(240)存在于底座(245)中的情况下，通过使气体受到由电极(270)和电源(275)提供的大量电磁辐射，在具有壁(232)的腔(230)内形成等离子体，并向该等离子体加入至少一种涂层材料，来涂覆(247)物体表面。该材料沉积在底座(260)上的物体(250)的表面以形成涂层(247)。本发明还提供了多种等离子体催化剂。
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