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公开(公告)号：CN106465491B
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：CN201580023152.6
申请日：2015-05-06
申请人： 华盛顿州立大学
IPC分类号： H05B6/78
CPC分类号： A23L3/01 , A23L29/272 , A23V2002/00 , H05B6/705 , H05B6/707 , H05B6/782 , H05B6/802 , H05B2206/044 , H05B2206/045
摘要： 本发明公开了用于微波消毒和巴氏灭菌的处理系统和部件的多个实施例及其相应的操作方法。例如，一种微波消毒和巴氏灭菌的方法包括：将物体浸渍于浸渍液中，和浸渍物体受制于浸渍液的静水压。该方法还包括当物体浸渍于浸渍液中并：将物体浸渍于浸渍液中，和浸渍物体受制于浸渍液的静水压时，施加微波能量于物体上。浸渍液的静水压防止当施加微波能量时物体中的水分在物体中发生蒸汽爆炸进而导致包装袋破损。该方法进一步包括施加微波能量的同时，加热浸渍于浸渍液中的物体至目标温度，目标温度使得物体可充分微波消毒或巴氏灭菌。
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公开(公告)号：CN108141931A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680041194.7
申请日：2016-06-16
申请人： 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 , IBF电子有限公司
CPC分类号： H05B6/701 , H05B6/78 , H05B2206/044
摘要： 用于利用微波处理材料（12）的组件（10），包括：用于在第一处理区域（20）中用微波处理材料的多模式微波施加器（18）；用于在第二处理区域（22）中用微波处理所述材料的多件式构造的单模式微波施加器（24）；和用于依次输送有待处理的材料通过所述第一和所述第二处理区域的器件（14）；其中，设置有驱动器（32）用于使所述单模式微波施加器的两个部件如下地彼此分开或离开运动，使得所述第二处理区域的尺寸（30）垂直于输送方向（28）地增大。
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公开(公告)号：CN106664753A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580044031.X
申请日：2015-08-18
申请人： 斯伯特实验室有限公司
发明人： 卡里姆·萨梅赫·塞迪克
IPC分类号： H05B6/68
CPC分类号： H05B6/6447 , G05B15/02 , G09B19/0092 , H05B6/6411 , H05B6/6441 , H05B6/645 , H05B6/6455 , H05B6/6464 , H05B6/6482 , H05B6/72 , H05B2206/044
摘要： 一种选择性加热装置，可包括配置为容纳需要至少部分加热的目标的腔室、至少一个加热元件和控制器。所述至少一个加热元件可配置为以第一能量级和第一时间段选择性加热所述目标的第一部分。所述至少一个加热元件还可配置为以第二能量级和第二时间段选择性加热所述目标的第二部分，其中，所述第二能量级和/或第二时间段与所述第一能量级和/或第一时间段不同；或者避免加热所述目标的第三部分；或它们的组合。所述控制器可配置为接收加热指令并基于所述加热指令控制所述至少一个加热元件。
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公开(公告)号：CN104540261A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201510042042.6
申请日：2010-05-12
申请人： 高知有限公司
发明人： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 丹妮拉·阿兹莫尼 , 平夏斯·艾恩齐格 , 阿米特·拉贝尔
CPC分类号： H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
摘要： 本申请涉及使用RF能量进行加热的装置和方法。施加EM能量到负载的设备可以包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示针对多个调制空间元素中的每一个的耗散能量的信息，并且基于所接收的指示耗散能量的信息将若干该多个调制空间元素分组为至少两个子集。该处理器还可以被配置为将一种功率输送协议与该至少两个子集中的每一个相关联，其中该功率输送协议在子集之间不同并且根据每个功率输送协议调节施加到负载的能量。
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公开(公告)号：CN102484912A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080026483.2
申请日：2010-04-15
申请人： 电器科技公司
IPC分类号： H05B6/80
CPC分类号： H05B6/6476 , H05B6/6473 , H05B6/74 , H05B6/80 , H05B2206/044 , Y02P60/833
摘要： 本发明涉及通过提供净空气冲击和/或施加至烹饪炉中的食品的净微波能量的与时间相关的空间变化来基于热空气冲击和微波加热的组合改进常规高速烹饪炉。其旨在优化高速烹饪炉中的热传递和微波效率，由此与常规高速烹饪炉相比，使炉能够输送最佳烹饪效率。此外，在本发明实施方式的情况下，可以通过在烹饪室的每个壁与炉的壳体之间设置集气室来进一步优化烹饪效率。
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公开(公告)号：CN102124814A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN201080002350.1
申请日：2010-05-31
申请人： 松下电器产业株式会社
IPC分类号： H05B6/68
CPC分类号： H05B6/686 , H05B6/70 , H05B6/705 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
摘要： 本发明的高频加热装置具有：多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)，其放射多种高频功率；以及控制部(150)，其对多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)设定由多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)放射的高频功率的各种频率的组合，多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)中的逆流功率检测部(108a、108b、108c)独立检测反射功率和通过功率，控制部(150)根据检测到的反射功率以及通过功率的相位和振幅，确定在加热被加热物时使多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)产生的多种高频功率的组合。
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公开(公告)号：CN100588305C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN03810275.7
申请日：2003-05-07
申请人： BTU国际公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明为各种等离子体加工和处理提供了用于等离子体激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中，在惰性或活性等离子体存在的情况下，通过使多模处理腔中的气体受到频率介于大约1MHz和大约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。例如，惰性等离子体催化剂可以包括能够使局部电场变形而诱发等离子体的任何物体。活性等离子体催化剂可以包括在电磁辐射存在的情况下能够向气态原子或分子输送大量能量以从气态原子或分子激发出至少一个电子的任何粒子或高能波包。
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公开(公告)号：CN100505976C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN03810279.X
申请日：2003-05-07
申请人： BTU国际公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了用于一个或多个部件的等离子体辅助连接的方法和装置。连接过程可包括例如在腔中相互接近地放置至少第一和第二连接区域，在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到电磁辐射在所述腔内形成等离子体，以及维持所述等离子体至少直到所述第一和第二连接区域被连接。本发明还提供了用于激发、调节和维持连接等离子体的等离子体催化剂、方法和装置。本发明还提供了用于选择性等离子体连接的其它腔形状、方法和装置。
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公开(公告)号：CN100436763C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN03810266.8
申请日：2003-05-07
申请人： BTU国际公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了等离子体辅助发动机排气处理的方法和装置。在一个实施例中，发动机排气处理系统包括至少一个管道，该管道包括入口部分(215)、出口部分(216)、中间部分(205)和至少一个等离子体腔(210)。该入口部分设置成与发动机气缸(510)相连并接收排气。该出口部分在等离子体处理后排出所述气体。该中间部分将排气从入口部分传送到出口部分。在一个实施例中，一个或多个等离子体腔(342，344，346)位于入口部分附近，用于处理排气。该系统也包括与各腔相连的电磁辐射源(340)，用于将辐射提供到各腔，其中辐射的频率小于大约333GHz。还提供了采用等离子体催化剂(70，170)的排气处理。
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公开(公告)号：CN1324931C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN03810267.6
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了使用多个辐射源的等离子体辅助方法和装置。在一个实施例中，在惰性或活性等离子体催化剂存在的情况下，通过使处理腔中的气体受到频率低于约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。使用控制器来延迟一个辐射源相对于另一个辐射源的激活。
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