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公开(公告)号：CN1652893A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810265.X
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： B23K26/00
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了在生产线中用于等离子体辅助处理多个工件的方法及装置。在一个实施例中，该方法可以包括将工件(320)放置在可动运载部分上，将输送装置(310)上的运载部分移入辐射区域，使气体流入辐射区域，激发辐射区域中的气体以形成等离子体(例如，通过在等离子体催化剂存在的情况下使气体受到电磁辐射的方式)，维持等离子体一段足够长的时间以至少部分地等离子体处理辐射区域中的至少一个工件(320)，并且推进输送装置(310)将至少一个等离子体处理过的工件移出辐射区域。本发明还提供了各种类型的等离子体催化剂。
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公开(公告)号：CN1302843C
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN03810268.4
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： B01J19/08
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了一种渗碳物体表面区域的系统和方法，其包括：使气体受到产生于辐射源(52)的电磁辐射，在等离子体催化剂(70)存在的情况下来激发含碳等离子体。该方法还包括将该物体的表面区域暴露于等离子体一段足够长的时间以从等离子体将至少一部分碳通过第一表面区域转移到该物体。
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公开(公告)号：CN1653851A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810277.3
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： H05B1/02
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了用于等离子体辅助热处理的方法和装置。该方法可以包括在等离子体催化剂(70)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(14)中激发热处理等离子体，通过将该物体暴露与等离子体中加热该物体，以及维持将物体暴露于等离子体中足够长的时间周期，以改变该物体的至少一种材料特性。
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公开(公告)号：CN1652866A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810268.4
申请日：2003-05-07
申请人： 达纳公司
IPC分类号： B01J19/08
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 本发明提供了一种渗碳物体表面区域的系统和方法，其包括：使气体受到产生于辐射源(52)的电磁辐射，在等离子体催化剂(70)存在的情况下来激发含碳等离子体。该方法还包括将该物体的表面区域暴露于等离子体一段足够长的时间以从等离子体将至少一部分碳通过第一表面区域转移到该物体。
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