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公开(公告)号：CN114676520B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202210282142.6
申请日：2022-03-22
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及高集成光谱探测器件制造领域，具体涉及制备一种线性渐变滤光片修正挡板的设计方法。本发明提供的设计方式是：首先建立关于相对膜厚与变量的仿真模型，利用Mathcad15进行编程仿真，设计程序模拟热蒸发设备薄膜厚度分布，通过实验确定使用电子束热蒸发设备蒸发源的发射特性n；然后引入修正挡板函数，实现旋转球面蒸发系统的膜厚分布模拟，确定线性渐变滤光片所需要的初始修正挡板；最后使用石英晶振法监控膜厚，进行单层工艺试验优化出渐变线性滤光片的修正挡板。本发明通过仿真结合实验的方式，仅需3~4次即可获得符合要求的修正挡板，解决了以往修正挡板设计中需要进行多次的重复单层工艺实验的特点，降低了制造成本、提高了加工效率。
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公开(公告)号：CN116862805A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310878987.6
申请日：2023-07-18
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种针对激光散斑的图像噪声抑制方法及系统，涉及图像噪声抑制技术领域，首先获取两张相同位置的激光图像，并进行二维离散小波变换，得到高、低频图像；对高、低频图像进行融合，得到高频融合图像和低频融合图像；使用优化的非局部均值滤波算法，对高频融合图像进行滤波，得到滤波后的高频融合图像；通过小波逆变换，将低频融合图像和滤波后的高频融合图像进行还原恢复，得到还原图像；使用优化的非局部均值滤波算法对还原图像进行滤波，得到最终的结果图像。本发明针对激光散斑高频噪声，引入小波变换和改进优化的非局部均值滤波相结合，不仅消除了激光图像中的高频散斑噪声，而且还将低频信息部分完全保留，获得的图像效果最佳。
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公开(公告)号：CN116698852A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310674961.X
申请日：2023-06-08
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及光学检测领域，具体涉及一种高精度多维信息光学检测系统及其检测方法，所述检测系统包括：CCD成像光路上依次设置的微透镜阵列、镜头、线性渐变滤光片，所述线性渐变滤光片位于平移台上，平移台通过控制器与PC连接。本发明对光谱和光场信息进行获取，得到更加完善的目标特征，从而实现高精度的测量；本发明的系统和方法能够获得目标的多维信息，包括：光谱信息、光场信息和深度信息；本发明可以对划痕、气泡、破边等各种类型缺陷的实行检测，获取到高精度和多参量的的检测结果。
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公开(公告)号：CN116149072A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202310165940.5
申请日：2023-02-27
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种激光高效合束的散斑抑制装置及方法，涉及光学技术领域，包括：偶数个激光光源、与激光光源数目对应的准直透镜、1/2个激光源数目的反射镜、1/2个激光源数目的偏振合束棱镜、望远系统、扩束透镜和光屏。本发明散斑抑制装置通过引入偶数个激光器出射激光，并通过控制不同激光器间的距离改变入射激光的光程差，从而破环激光的空间相干性，并结合偏振多样性，将不同偏振态的激光束在空间两两叠加，最后利用扩束透镜将所有的激光光斑叠加，实现高功率、低损耗抑制散斑的目的，具有结构简单无需马达控制的优点。
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公开(公告)号：CN116047783A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310136854.1
申请日：2023-02-20
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种激光散斑抑制装置及方法，属于光学技术领域，由激光光源、准直透镜、半透半反镜、分光膜层阵列、探测器组成，激光光源输出相干激光；准直透镜对激光光束准直后，再由半透半反镜垂直射入分光膜层阵列；分光膜层阵列将入射光束分为多束非相干且光强相等的子光束。本发明为静态散斑抑制装置，不需要电源和驱动，装置结构紧凑，体积小，能耗低，使用寿命长；此装置结构简单，对散斑抑制效果好，可以将激光光束分为N束光强相等的非相干光，最多将激光的散斑对比度降低到原来的1/N1/2。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110994189A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201911345072.9
申请日：2019-12-24
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种异质材料结构化多层薄膜吸波器及其制造方法，所述结构化多层薄膜包括硅基底，Ag薄膜、SiO2薄膜和SiNx薄膜从下往上依次层叠；该结构化多层薄膜整体为微金字塔结构阵列。制备时，采用单点金刚石车削技术在异质材料多层薄膜中直接完成微金字塔结构的成型。本发明提出的异质材料结构化多层薄膜吸波器对可见光波以及红外波段光波表现出明显的吸波特性，该包含金属-介质的异质材料结构化多层薄膜吸波器可以实现对电磁波能量的吸收，制备成本低、效率高，对于光伏、隐身领域具有重要的实用价值。
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公开(公告)号：CN110850514A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911345096.4
申请日：2019-12-24
Applicant: 西安工业大学
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开一种具有自聚焦功能的结构化多层光学薄膜及其制备方法。所述多层光学薄膜包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上层叠设有SiNx薄膜、SiOxNy薄膜和/或SiOxFy薄膜；所述光学薄膜整体为金字塔结构。制备时，使用单点金刚石切削金属模具，通过纳米压印技术结合等离子体刻蚀的方法将金字塔结构阵列转移到多层光学薄膜中。本发明的产品具有优良的聚焦性能，焦距可以通过微结构内部的膜层设计进行调节，在可见光以及近红外波段具有消色差的特性。其制备工艺成本低，效率高，可以实现大尺寸范围的批量化生产。
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公开(公告)号：CN107052913B
公开(公告)日：2018-10-30
申请号：CN201710397592.9
申请日：2017-05-31
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明公开了一种RB‑SiC光学元件抛光工艺加工方法，该方法首先利用电感耦合等离子体抛光技术实现RB‑SiC光学元件的精磨抛光，之后利用射频磁控溅射表面平坦化技术在光学表面沉积纳米级平坦化层、最后利用离子束抛光修形技术辅助自由基微波等离子体抛光技术实现光学元件超光滑表面加工。相比于现有技术，本发明利用等离子体抛光技术替代传统的光学加工方法，结合纳米级的平坦化层制备技术和离子束修形抛光技术，极大地缩短了中大口径RB‑SiC元件的加工周期，构建了以高效率、高精度和低损耗的特点RB‑SiC光学元件抛光加工新方法。
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公开(公告)号：CN108385110A
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201810297952.2
申请日：2018-04-04
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及离子束技术领域，具体涉及一种利用原位溅射结合离子束刻蚀的抛光装置及抛光方法。其包括传递室、刻蚀室、溅射沉积室以及设于传递室与刻蚀室，刻蚀室与溅射沉积室之间的插板阀，传递室、刻蚀室和溅射沉积室内设有三者之间传送工件的工件传送装置。以及应用此设备发明的一种抛光方法，其流程为：首先在传递室装载工件，其次在刻蚀室对工件离子束清洗，再次在溅射沉积室对工件溅射沉积一层薄膜层（牺牲层），进而在刻蚀室对工件进行离子束修正抛光，最后通过传递室取出工件，实现光学元件的抛光。
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公开(公告)号：CN108081070A
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201711190715.8
申请日：2017-11-24
Applicant: 西安工业大学
Abstract: 本发明涉及光学元件表面超光滑精密加工技术领域，具体涉及一种数控小工具抛光辅助大气等离子体加工方法。以解决现有大气等离子体加工时，表面次生附着物二次吸附，光学元件表面质量严重下降，加工效率降低的问题。本发明的步骤为开启对称旋转工装上的大气电弧等离子体源喷枪，去除光学元件在前期加工过程中表面缺陷，对光学元件表面进行由点及面的刻蚀抛光，然后开启数控柔性小工具磨头，对光学元件表面进行研磨抛光；同时开启大气电弧等离子体源喷枪和数控柔性小工具磨头，加工原件表面质量；再次开始对被加工元件的上表面加工，所产生的二次附着物被数控柔性小工具磨头研磨去除，多次迭代加工后，完成光学元件的加工。
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