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公开(公告)号:CN102437145A
公开(公告)日:2012-05-02
申请号:CN201110402808.9
申请日:2011-12-06
Applicant: 西安交通大学
IPC: H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 本发明提供了一种自形成梯度Zr/ZrN双层扩散阻挡层及其制备方法,扩散阻挡层包括衬底、沉积在衬底上并作为种子层和自析层的Cu(Zr)合金薄膜、植入于衬底和Cu(Zr)合金薄膜之间并作为预阻挡的纳米晶ZrN,以及沉积在Cu(Zr)合金薄膜上层的纯铜互联线。本发明自形成的双层阻挡层连续均匀致密,厚度可控制在几纳米内,且具有低的电阻、高的热稳定性和良好的粘附性,满足超大规模集成电路对Cu互连扩散阻挡层的性能要求。
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公开(公告)号:CN102166650B
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201110077669.7
申请日:2011-03-30
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种梯度铜钨/铜铬锆青铜整体触头的制造方法,将不同配比的铜钨粉末依次进行压制成型,烧结熔渗制得梯度铜钨合金,随后采用烧结法连接铜铬锆青铜导电杆,所得材料即为本发明的梯度铜钨/铜铬锆青铜整体触头。本发明所制得梯度铜钨/铜铬锆青铜整体触头具有更好的导热率、导电性以及结合强度,能够很好的满足高压超高压开关对整体触头的要求,市场应用前景非常广阔。
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公开(公告)号:CN102437144A
公开(公告)日:2012-05-02
申请号:CN201110402807.4
申请日:2011-12-06
Applicant: 西安交通大学
IPC: H01L23/532 , H01L21/768
Abstract: 本发明提供了一种Ru-RuO/Ru-Ge-Cu自形成双层非晶扩散阻挡层及其制备方法,扩散阻挡层体系包括衬底、沉积在衬底上并作为种子层和析出层的Cu(Ru)合金薄膜、植入于衬底和Cu(Ru)合金薄膜之间并作为预阻挡和耗尽层的非晶Ru-Ge合金薄膜,以及镀在Cu(Ru)合金薄膜上并作为互连层的纯Cu层。本发明自形成的双层阻挡层连续均匀致密,厚度可控制在几纳米内,且具有低的电阻和高的热稳定性,满足超大规模集成电路对Cu互连扩散阻挡层的性能要求。
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公开(公告)号:CN102166650A
公开(公告)日:2011-08-31
申请号:CN201110077669.7
申请日:2011-03-30
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种梯度铜钨/铜铬锆青铜整体触头的制造方法,将不同配比的铜钨粉末依次进行压制成型,烧结熔渗制得梯度铜钨合金,随后采用烧结法连接铜铬锆青铜导电杆,所得材料即为本发明的梯度铜钨/铜铬锆青铜整体触头。本发明所制得梯度铜钨/铜铬锆青铜整体触头具有更好的导热率、导电性以及结合强度,能够很好的满足高压超高压开关对整体触头的要求,市场应用前景非常广阔。
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