一种自形成梯度Zr/ZrN双层扩散阻挡层及其制备方法

    公开(公告)号:CN102437145A

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:CN201110402808.9

    申请日:2011-12-06

    Abstract: 本发明提供了一种自形成梯度Zr/ZrN双层扩散阻挡层及其制备方法,扩散阻挡层包括衬底、沉积在衬底上并作为种子层和自析层的Cu(Zr)合金薄膜、植入于衬底和Cu(Zr)合金薄膜之间并作为预阻挡的纳米晶ZrN,以及沉积在Cu(Zr)合金薄膜上层的纯铜互联线。本发明自形成的双层阻挡层连续均匀致密,厚度可控制在几纳米内,且具有低的电阻、高的热稳定性和良好的粘附性,满足超大规模集成电路对Cu互连扩散阻挡层的性能要求。

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