漂移模式和减速模式下具束角控制的离子注入系统

    公开(公告)号:CN110678954A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201880036357.1

    申请日:2018-06-13

    摘要: 一种离子注入系统具有形成离子束的离子源。质量分析器沿射束路径限定并改变经质量分析的射束。可动质量解析孔径组件具有解析孔径,响应于质量分析器改变射束路径而选择性改变该解析孔径的位置。定位的偏转减速元件选择性偏转射束路径并选择性使经质量分析的射束减速。控制器在漂移模式和减速模式下选择性操作离子注入系统。控制器在漂移模式下使经质量分析的射束沿第一路径穿过解析孔径而不会发生偏转或减速,而在减速模式下使射束沿第二路径偏转并减速。选择性改变解析孔径的位置是基于穿过质量分析器和偏转减速元件的射束路径变化。

    用于高生产量扫描束离子注入机的扫描和校正器磁体设计

    公开(公告)号:CN113169011B

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN201980078886.2

    申请日:2019-11-06

    IPC分类号: H01J37/147 H01J37/317

    摘要: 一种离子注入系统和方法提供带状离子束的非均匀通量。形成点离子束并将其提供给扫描仪,并且向扫描仪施加具有时变电势的扫描波形。扫描仪在扫描路径上对离子束进行扫描,从而大体上限定由多个子束组成的扫描离子束。然后,扫描射束通过校正器装置。校正器装置构造成在整个工件上以大体上恒定的入射角朝向工件引导扫描离子束。校正器装置还包括多个磁极,该多个磁极构造成在理想点离子束以基本上恒定的速度完全扫描工件的理想情况下,在工件处提供扫描离子束的非均匀通量分布,其中,非均匀通量分布具有从工件的中心区域向工件的边缘基本上单调增加的通量。

    具有增进效率的扫描磁体设计

    公开(公告)号:CN112567492B

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN201980053599.6

    申请日:2019-08-21

    摘要: 扫描磁体位于离子注入系统的质量分辨磁体的下游,并且被配置为控制质量分辨磁体下游的离子束路径以用于扫描或抖动离子束。扫描磁体具有其中界定有通道的轭部。轭部是含铁的并且具有第一侧和第二侧以界定离子束的对应入口和出口。轭部具有从第一侧到第二侧所堆栈的多个层合物,其中与第一侧和第二侧相关联的多个层合物的至少一部分包括一个或多个槽口式层合物,一个或多个槽口式层合物具有界定在其中的多个槽口。

    漂移模式和减速模式下具备束角控制的离子注入系统

    公开(公告)号:CN110678954B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN201880036357.1

    申请日:2018-06-13

    摘要: 一种离子注入系统具有形成离子束的离子源。质量分析器沿射束路径限定并改变经质量分析的射束。可动质量解析孔径组件具有解析孔径,响应于质量分析器改变射束路径而选择性改变该解析孔径的位置。定位的偏转减速元件选择性偏转射束路径并选择性使经质量分析的射束减速。控制器在漂移模式和减速模式下选择性操作离子注入系统。控制器在漂移模式下使经质量分析的射束沿第一路径穿过解析孔径而不会发生偏转或减速,而在减速模式下使射束沿第二路径偏转并减速。选择性改变解析孔径的位置是基于穿过质量分析器和偏转减速元件的射束路径变化。

    用于离子源的集成提取电极操纵器

    公开(公告)号:CN107430968B

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201680020055.6

    申请日:2016-03-22

    摘要: 模块化离子源和提取设备200包括选择性地电连接到电压电位的离子源室202,其中离子源室包括提取孔203。提取电极206位于靠近离子源室的提取孔的位置,其中提取电极被配置为从离子源室提取离子,并且可以电接地。一个或多个连杆208可操作地连接到离子源室,并且一个或多个绝缘体210将提取电极连接到相应的一个或多个连杆,其中一个或多个绝缘体使相应的一个或多个连杆与提取电极电绝缘,其中提取电极与离子源室电绝缘。一个或多个致动器212、218、220可操作地将一个或多个连杆连接到离子源室,其中一个或多个致动器被配置成使一个或多个连杆相对于所述离子源室平移,其中使提取电极在一个或多个轴线上平移。