公开(公告)号：CN106185854A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201610369957.2

申请日：2016-05-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李昇浩 ,  赵旼熙 ,  姜基文 ,  金兑根

IPC: C01B25/237 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/31111 ,  B01D1/0011 ,  B01D1/0041 ,  B01D1/0082 ,  B01D11/0484 ,  B01D11/0492 ,  C09K13/08 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708 ,  C01B25/237 ,  C01B25/2375 ,  H01L21/02096 ,  H01L21/67023

Abstract: 公开了一种从包括硅(Si)、氟化氢(HF)和磷酸的处理液中再生磷酸溶液的方法，所述方法包括：通过向所述处理液供应对应于预设量或更多量的氟化氢而去除硅，通过将所述处理液加热到氟化氢的沸点或更高温度而去除所述氟化氢，和将所述磷酸的温度和浓度调节到预设值。

公开(公告)号：CN105280523B

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201510284646.1

申请日：2015-05-28

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金奉主 ,  李昇浩 ,  崔龙贤 ,  姜秉万

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67109

Abstract: 本发明构思提供一种用于处理基板的设备。所述设备包括壳体，所述壳体在其内具有处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑所述基板；喷嘴单元，所述喷嘴单元将溶液排放到由所述支撑单元支撑的所述基板上；以及溶液供应单元，所述溶液供应单元将所述溶液供应至所述喷嘴单元。所述溶液供应单元包括溶液供应管线，所述溶液供应管线连接至所述喷嘴单元；加热构件，所述加热构件安装在所述溶液供应管线上以加热所述溶液；以及回收管线，所述回收管线在设置于所述加热构件下游的第一点处从所述溶液供应管线分出。

公开(公告)号：CN101409247B

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200810167563.4

申请日：2008-10-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 郑惠善 ,  李昇浩

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/306 ,  H01L21/00 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67313 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基材支撑单元以及使用该基材支撑单元的基材处理设备。该基材支撑单元包括基板和在该基板上形成的支撑部。该支撑部包括两个彼此相对的侧壁和连接两个侧壁的主体。在该主体内形成有与该基材接触的多个狭槽，该狭槽向垂直于第一方向的第二方向倾斜。

公开(公告)号：CN105280523A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510284646.1

申请日：2015-05-28

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金奉主 ,  李昇浩 ,  崔龙贤 ,  姜秉万

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明构思提供一种用于处理基板的设备。所述设备包括壳体，所述壳体在其内具有处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间中支撑所述基板；喷嘴单元，所述喷嘴单元将溶液排放到由所述支撑单元支撑的所述基板上；以及溶液供应单元，所述溶液供应单元将所述溶液供应至所述喷嘴单元。所述溶液供应单元包括溶液供应管线，所述溶液供应管线连接至所述喷嘴单元；加热构件，所述加热构件安装在所述溶液供应管线上以加热所述溶液；以及回收管线，所述回收管线在设置于所述加热构件下游的第一点处从所述溶液供应管线分出。

公开(公告)号：CN101409247A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200810167563.4

申请日：2008-10-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 郑惠善 ,  李昇浩

IPC: H01L21/673 ,  H01L21/306 ,  H01L21/00 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67313 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供一种基材支撑单元以及使用该基材支撑单元的基材处理设备。该基材支撑单元包括基板和在该基板上形成的支撑部。该支撑部包括两个支撑杆和多个支撑件。所述两个支撑杆沿预定方向彼此分开地延伸。所述多个支撑件沿预定方向彼此分开地设置。各支撑件均与支撑杆连接。

公开(公告)号：CN111816592A

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN202010725079.X

申请日：2018-10-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李映一 ,  崔重奉 ,  李昇浩 ,  朴贵秀 ,  宋吉勋 ,  吴承勋 ,  金钟翰

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  H01L21/311

Abstract: 提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括支承构件、处理液喷嘴和控制器，支承构件用于支承基板，处理液喷嘴用于供应处理液至定位在支承构件上的基板，控制器用于控制处理液喷嘴使得在低流量供应段和高流量供应段中将供应至基板的处理液不同地排出，高流量供应段中的每小时平均排出量多于低流量供应段中的每小时平均排出量。

公开(公告)号：CN109659256A

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201811191785.X

申请日：2018-10-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李映一 ,  崔重奉 ,  李昇浩 ,  朴贵秀 ,  宋吉勋 ,  吴承勋 ,  金钟翰

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括支承构件、处理液喷嘴和控制器，支承构件用于支承基板，处理液喷嘴用于供应处理液至定位在支承构件上的基板，控制器用于控制处理液喷嘴使得在低流量供应段和高流量供应段中将供应至基板的处理液不同地排出，高流量供应段中的每小时平均排出量多于低流量供应段中的每小时平均排出量。