公开(公告)号：CN119626928A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202411038941.4

申请日：2024-07-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H05F3/00 ,  G03F7/16

Abstract: 本申请提供一种衬底处理装置和衬底处理方法。衬底处理装置包括：衬底支承部分，支承衬底；第一排出单元，包括将第一处理液体排出到所述衬底的第一喷嘴；第一测量单元，连接到所述第一喷嘴，并且测量从所述第一喷嘴排出的所述第一处理液体的第一电荷量；碗状物，围绕所述衬底支承部分设置；第二测量单元，测量从所述衬底散布到所述碗状物的表面的所述第一处理液体的第二电荷量；以及第二排出单元，包括第二喷嘴，所述第二喷嘴将基于所述第一电荷量和所述第二电荷量之间的差而充电的第二处理液体排出到所述衬底。

公开(公告)号：CN118136548A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202311163485.1

申请日：2023-09-11

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  朴岽云 ,  孙永俊 ,  李㥥滥 ,  崔晋镐

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供清洗基板的底面的基板处理装置、基板处理方法以及基板处理设备。根据本发明的基板处理装置包括：处理容器，形成处理空间；基板支承单元，设置于所述处理空间内部，并支承基板；第一喷嘴单元，在所述处理空间内部设置于所述基板支承单元的一侧，并具有朝向所述基板的底面的中心区域供应处理流体的第一喷嘴部件；以及第二喷嘴部件，以固定结合于所述基板支承单元的形式提供，并朝向所述基板的底面的边缘区域供应处理流体，所述第一喷嘴部件提供成在所述基板的底面的中心位置和端部位置之间旋转移动。

公开(公告)号：CN117438334A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202310598640.6

申请日：2023-05-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊

IPC: H01L21/67

Abstract: 本公开提供了一种基板处理装置，其包括：支承板，在面对基板的第一表面中具有第一减压孔和第二减压孔，并且包括连接到第一减压孔的第一减压流路和连接到第二减压孔的第二减压流路；多个移动销，从支承板的第一表面突出，并且被配置成随着在第一方向上移动而接触导电线；以及控制器，被配置成调整对第一减压流路和第二减压流路进行减压的顺序。

公开(公告)号：CN116895567A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310350908.4

申请日：2023-04-03

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊 ,  李泰勳

IPC: H01L21/67 ,  G01R29/24

Abstract: 一种基板处理装置包括：基板支承件，支承基板；以及处理溶液供应装置，被配置成向支承在基板支承件上的基板上供应处理溶液，其中，处理溶液供应装置包括：收集罐，储存处理溶液；供应线，连接到收集罐以向基板上供应处理溶液；第一排放线，连接到收集罐以从收集罐排出包括气泡或气体的处理溶液；以及第一静电量测量单元，连接到第一排放线以测量处理溶液的静电量，并且包括第一法拉第杯和连接到第一法拉第杯的第一静电量测量部。

公开(公告)号：CN116223565A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211409287.4

申请日：2022-11-11

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊 ,  尹荣云 ,  郑星哲

IPC: G01N27/00 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

Abstract: 本发明的液态化学品检测装置包括：基座部，形成有供液态化学品流入的入口；流道部，包括：第一区域部，与基座部的入口相邻布置，且由入口流入的液态化学品在第一区域部中以改变的流体速度移动；以及第二区域部，与第一区域部串联连通，且从第一区域部排出的液态化学品在第二区域部中移动；感测部，包括：第一感测部件，感测作为第一区域部的电信号的第一信号；以及第二感测部件，感测作为第二区域部的电信号的第二信号；以及辨别部，接收来自感测部的信号，当第一信号和第二信号的电流相对于参考值变化时，判断为感测到颗粒和气泡，并根据第一信号与第二信号的电流差或电流变化的时间差来分辨颗粒和气泡。

公开(公告)号：CN116892656A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310349027.0

申请日：2023-04-03

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊 ,  严成勋

IPC: F16L9/14 ,  F16L58/10 ,  F17D1/14 ,  F17D3/01 ,  F17D5/00

Abstract: 本发明涉及管件、包括管件的泵以及化学溶液供应装置。管件包括：外层，该外层包括具有挠性的第一材料；内层，该内层包括具有挠性和耐化学性的第二材料；以及中间层，该中间层布置在外层与内层之间并且包括导电材料。

公开(公告)号：CN116889940A

公开(公告)日：2023-10-17

申请号：CN202310308957.1

申请日：2023-03-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊 ,  崔炳斗

IPC: B05B7/06 ,  B05C11/08 ,  G03F7/16

Abstract: 本发明涉及具有双管结构的喷嘴以及包括喷嘴的光刻胶分配器和旋涂机。具体地提供了一种具有双管结构的喷嘴以及包括喷嘴的光刻胶(PR)分配器和旋涂机，其中，在不驱动喷嘴臂的情况下，可以多次回吸，并且在不移动喷嘴臂的情况下，可以进行减少抗蚀剂消耗(RRC)操作和喷嘴尖端冲洗操作。喷嘴包括：内管，该内管具有向下逐渐变窄的锥形形状并且具有尖端，通过内管传送PR，该PR通过尖端喷出；以及外管，该外管围绕内管，该外管具有向下逐渐变窄的锥形形状并且具有尖端，通过外管传送稀释剂，该稀释剂通过尖端喷出，其中，喷嘴联接到喷嘴臂并移动，并且在不驱动喷嘴臂的情况下执行多次回吸。

公开(公告)号：CN116721936A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202310023388.6

申请日：2023-01-06

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  G01B7/28 ,  G01B7/16

Abstract: 提供了一种能够测量晶片翘曲的晶片处理装置，该晶片处理装置包括：支撑板，提供在其上支撑晶片的表面；温度控制通道，安装在支撑板中以提供流体流过的路径；以及多个翘曲测量器，设置在支撑板上且其下端安装成与温度控制通道的上部竖直地间隔开。

公开(公告)号：CN116313889A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202211617636.1

申请日：2022-12-15

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊 ,  李泰勋 ,  尹铉 ,  金度延

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种主端口及利用其的基板处理装置。本发明提供一种主端口，设置于基板处理装置而临时支承用于向基板喷出工艺液的喷嘴，其中，所述主端口包括：主体，在内部形成有空间；喷嘴架部，布置于所述主体的上部并用于支承所述喷嘴；倾斜面，形成在所述空间中的所述喷嘴架部的下侧；第一供应管，用于从所述喷嘴的头喷出冲洗液；第二供应管，向所述主体内部注入冲洗液；导电线，将所述倾斜面和所述第一供应管电连接；以及第一开关，设置于所述导电线。

公开(公告)号：CN116230583A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211539735.2

申请日：2022-12-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 孙永俊 ,  姜亨奭 ,  金旻佑

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明涉及一种主端口和利用其的基板处理装置以及主端口清洗方法。提供一种主端口，包括：壳体，被支架支承并在内部形成有空间；喷嘴架部，布置在所述壳体的上部并用于支承向基板喷出工艺液的喷嘴；倾斜面，形成在所述空间中的所述喷嘴架部的下侧；排气口，用于对在所述壳体内部空间中形成的烟雾(Fume)进行排气；冲洗供应孔，供应冲洗液，所述冲洗液用于去除从支承在所述喷嘴架部的喷嘴中喷出的工艺液中的留在所述倾斜面的残留工艺液；绞链，布置在所述壳体的下部而使所述壳体和支架能够相互旋转地绞链结合；以及驱动构件，使所述壳体向所述倾斜面与设置有所述壳体的底面平行的方向旋转。