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公开(公告)号：CN101010356A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580027373.7
申请日：2005-08-01
Applicant: 索尼化学&信息部件株式会社 , 索尼公司 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
IPC: C08F290/06 , G11B7/257 , G11B7/254
CPC classification number: C08F291/12 , G11B7/2542 , Y10S428/913
Abstract: 本发明提供可以形成相对于光盘等被涂布表面显示良好且稳定的密合性和耐刮擦性、透明性也优异的保护膜的非溶剂型光固化型树脂组合物。该非溶剂型光固化型树脂组合物含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、3官能的(甲基)丙烯酸酯单体、光聚合引发剂和稀释用单体，作为稀释用单体，使用10～40重量％的在分子内具有4个以上氟原子的氟系(甲基)丙烯酸酯单体和10～30重量％的1或2官能的(甲基)丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号：CN101010356B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200580027373.7
申请日：2005-08-01
Applicant: 索尼化学&信息部件株式会社 , 索尼公司 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
IPC: C08F290/06 , G11B7/257 , G11B7/254
CPC classification number: C08F291/12 , G11B7/2542 , Y10S428/913
Abstract: 本发明提供可以形成相对于光盘等被涂布表面显示良好且稳定的密合性和耐刮擦性、透明性也优异的保护膜的非溶剂型光固化型树脂组合物。该非溶剂型光固化型树脂组合物含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、3官能的(甲基)丙烯酸酯单体、光聚合引发剂和稀释用单体，作为稀释用单体，使用10～40重量％的在分子内具有3个以上氟原子的氟系(甲基)丙烯酸酯单体和10～30重量％的1或2官能的(甲基)丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号：CN101548324A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200880000927.8
申请日：2008-04-10
Applicant: 索尼碟片数位解决方案股份有限公司 , 株式会社神户制钢所 , 克贝鲁可科研股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种包括反射膜的只读光学信息记录介质，该反射膜具有高反射率，并且在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性以及在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性和对于重复再生试验的重复再生耐用性方面都很优良。在基板上顺序层压了至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质中，所述反射膜由包括0.01at％～1.0at％的Bi和0.1at％～13.0at％的Cu的Ag基合金构成。
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公开(公告)号：CN101376963A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810212643.7
申请日：2008-08-27
Applicant: 株式会社钢臂功科研 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2003/244 , B22F2998/10 , C22C1/0466 , C22C5/06 , B22F3/24
Abstract: 本发明涉及一种Ag－基合金溅射靶，所述Ag－基合金溅射靶包含总量为1至15重量％的选自Ti、V、W、Nb、Zr、Ta、Cr、Mo、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al和Si的至少一种元素，其中所述Ag－基合金溅射靶在其溅射表面上具有2μm以上的算术平均粗糙度(Ra)以及20μm以上的最大高度(Rz)。
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公开(公告)号：CN101376963B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200810212643.7
申请日：2008-08-27
Applicant: 株式会社钢臂功科研 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F2003/244 , B22F2998/10 , C22C1/0466 , C22C5/06 , B22F3/24
Abstract: 本发明涉及一种Ag-基合金溅射靶，所述Ag-基合金溅射靶包含总量为1至15重量％的选自Ti、V、W、Nb、Zr、Ta、Cr、Mo、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Al和Si的至少一种元素，其中所述Ag-基合金溅射靶在其溅射表面上具有2μm以上的算术平均粗糙度(Ra)以及20μm以上的最大高度(Rz)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101548324B
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN200880000927.8
申请日：2008-04-10
Applicant: 索尼碟片数位解决方案股份有限公司 , 株式会社神户制钢所 , 克贝鲁可科研股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种包括反射膜的只读光学信息记录介质，该反射膜具有高反射率，并且在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性以及在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性和对于重复再生试验的重复再生耐用性方面都很优良。在基板上顺序层压了至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质中，所述反射膜由包括0.01at％～1.0at％的Bi和0.1at％～13.0at％的Cu的Ag基合金构成。
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公开(公告)号：CN101689385B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200980000515.9
申请日：2009-04-30
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼化学&信息部件株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/254 , G11B7/257 , C08F290/06
CPC classification number: G11B7/252 , G11B7/24 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2585 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供了光记录介质以及用于该介质的反应性架桥树脂组合物。同时实现了降低光盘翘曲和降低光透过层的蠕变。在光透过层中，25℃下的弹性模量在1×107Pa至5×108Pa的范围内，-20℃的弹性模量在4×108Pa至5×109Pa的范围内，玻璃化转变温度为一20℃至0℃。光透过层的马氏硬度为10N/mm2以下。光透过层的压痕蠕变为2％以下。光透过层的压痕深度的返回值在0.2微米至2.0微米的范围内。
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公开(公告)号：CN101689385A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200980000515.9
申请日：2009-04-30
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼化学&信息部件株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/254 , G11B7/257 , C08F290/06
CPC classification number: G11B7/252 , G11B7/24 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2585 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供了光记录介质以及用于该介质的反应性架桥树脂组合物。同时实现了降低光盘翘曲和降低光透过层的蠕变。在光透过层中，25℃下的弹性模量在1×10 7 Pa至5×10 8 Pa的范围内，-20℃的弹性模量在4×10 8 Pa至5×10 9 Pa的范围内，玻璃化转变温度为-20℃至0℃。光透过层的马氏硬度为10N/mm 2 以下。光透过层的压痕蠕变为2％以下。光透过层的压痕深度的返回值在0.2微米至2.0微米的范围内。
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公开(公告)号：CN102439663A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN201080022297.1
申请日：2010-05-17
Applicant: 索尼公司 , 索尼信息技术股份有限公司
CPC classification number: G11B7/00736 , G11B7/2585 , Y10T428/24545
Abstract: 公开了一种耐久的预记录光学记录介质，其中，在由于时间的改变而导致的金属反射膜的特性的改变低。该预记录的光学记录介质(100)包括：基板(101)；信息记录表面，通过岸面(L)和凹坑(P)的组合来在其上记录信息；以及金属反射膜(102)，提供为接触该信息记录表面。该金属反射膜(102)表示为Al100-x-zXxZz(其中，x、z是At％)，其中，X包括至少包含Ti的元素，Z包括至少包含Fe的元素，x＝1.0到3.0，并且z＝0.05到1.0。
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公开(公告)号：CN103377662A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310136735.2
申请日：2013-04-19
Applicant: 索尼公司 , 索尼信息技术股份有限公司
Inventor： 大川直树
CPC classification number: G11B7/2403 , B05D3/002 , B05D3/007 , G11B7/24038 , G11B7/254 , G11B7/26 , G11B7/265
Abstract: 一种记录介质的制造方法和记录介质，该方法包括：制备该记录介质的基板；在该基板的第一面侧形成第一面记录层；在该第一面记录层上形成用于保护该第一面记录层的第一面保护层；形成第二面以构成该基板的第二面侧的层构造的全部或部分；对该第一面保护层的保护性能进行去活化；以及在该第一面保护层上形成第一面以构成第一面的层构造的全部或部分。
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