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公开(公告)号：CN101010356A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580027373.7
申请日：2005-08-01
Applicant: 索尼化学&信息部件株式会社 , 索尼公司 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
IPC: C08F290/06 , G11B7/257 , G11B7/254
CPC classification number: C08F291/12 , G11B7/2542 , Y10S428/913
Abstract: 本发明提供可以形成相对于光盘等被涂布表面显示良好且稳定的密合性和耐刮擦性、透明性也优异的保护膜的非溶剂型光固化型树脂组合物。该非溶剂型光固化型树脂组合物含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、3官能的(甲基)丙烯酸酯单体、光聚合引发剂和稀释用单体，作为稀释用单体，使用10～40重量％的在分子内具有4个以上氟原子的氟系(甲基)丙烯酸酯单体和10～30重量％的1或2官能的(甲基)丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号：CN101010356B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200580027373.7
申请日：2005-08-01
Applicant: 索尼化学&信息部件株式会社 , 索尼公司 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
IPC: C08F290/06 , G11B7/257 , G11B7/254
CPC classification number: C08F291/12 , G11B7/2542 , Y10S428/913
Abstract: 本发明提供可以形成相对于光盘等被涂布表面显示良好且稳定的密合性和耐刮擦性、透明性也优异的保护膜的非溶剂型光固化型树脂组合物。该非溶剂型光固化型树脂组合物含有氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯低聚物、3官能的(甲基)丙烯酸酯单体、光聚合引发剂和稀释用单体，作为稀释用单体，使用10～40重量％的在分子内具有3个以上氟原子的氟系(甲基)丙烯酸酯单体和10～30重量％的1或2官能的(甲基)丙烯酸酯单体。
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公开(公告)号：CN104303062A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201380025770.5
申请日：2013-03-13
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: B01L3/5027 , B01L3/502707 , B01L2200/0642 , B01L2300/0816 , B01L2300/0864 , B01L2300/0883 , B01L2300/0887 , B01L2300/123 , G01N2035/00158
Abstract: 本发明的目的是提供能够从微芯片的外部容易地确认溶液被填充至分析区域中的微芯片。提供了一种微芯片，该微芯片具有：液体引入部；分析区域，用作其中对包含于液体中的物质或物质的反应产物进行分析的位置；显示区域，用于指示分析区域已完全被液体充满；以及通道，用于连接引入部、分析区域和显示区域。该通道被配置为使得从引入部引入的液体到达指示区域占用的时间的量长于从引入部引入的液体填充分析区域占用的时间的量。
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公开(公告)号：CN103801414A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201310536063.4
申请日：2013-11-01
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: B01L3/502715 , B01L3/502753 , B01L7/00 , B01L2200/027 , B01L2300/044 , B01L2300/0672 , B01L2300/0681 , B01L2300/0816 , B01L2300/0832 , B01L2300/0835 , B01L2300/1822 , B01L2400/0478 , B01L2400/0481 , B01L2400/049
Abstract: 本发明提供了样品液体注入工具和样品液体热处理设备，其中样品液体注入工具包括：储存部，被配置为存储样品液体；通道，具有从外表面突出的一端并被配置为将其中的所述样品液体从突出端排出到外部；以及加热单元和过滤器，安装在所述储存部和所述通道之间以使所述液体能够通过。
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公开(公告)号：CN102740977A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180008428.5
申请日：2011-02-01
Applicant: 索尼公司
IPC: B01L3/00
CPC classification number: B01L3/5027 , B01L3/50273 , B01L2200/0689 , B01L2200/10 , B01L2200/141 , B01L2300/044 , B01L2300/0887 , B01L2300/12 , B01L2300/123 , B01L2400/049
Abstract: 本申请提出了一种微芯片。该微芯片（A）包括基底结构，该基底结构包括被配置为容纳样本溶液的流体通道（2），其中，在样本溶液注入流体通道之前，流体通道保持在比大气压低的压力下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102621342A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210020083.1
申请日：2012-01-21
Applicant: 索尼公司
Inventor： 渡边英俊
CPC classification number: B01L3/508 , A61M5/322 , B01L3/0296 , B01L3/502715 , B01L9/527 , B01L2200/0605 , B01L2200/141 , B01L2300/044 , B01L2300/0672 , G01N35/1079
Abstract: 一种样本液供给装置、样本液供给装置组以及微芯片组，该样本液供给装置包括：收容端部，样本液被导入其中；空心针，设置在收容端部的一端，使得其空心部分与收容端部的内部连通；以及密封部件，覆盖一开口，样本液被从该开口导入，其中，密封部件具有通过弹性变形而获得的刺穿-密封特性。
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公开(公告)号：CN102740977B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201180008428.5
申请日：2011-02-01
Applicant: 索尼公司
IPC: B01L3/00
CPC classification number: B01L3/5027 , B01L3/50273 , B01L2200/0689 , B01L2200/10 , B01L2200/141 , B01L2300/044 , B01L2300/0887 , B01L2300/12 , B01L2300/123 , B01L2400/049
Abstract: 本申请提出了一种微芯片。该微芯片（A）包括基底结构，该基底结构包括被配置为容纳样本溶液的流体通道（2），其中，在样本溶液注入流体通道之前，流体通道保持在比大气压低的压力下。
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公开(公告)号：CN104069903A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410087830.2
申请日：2014-03-11
Applicant: 索尼公司
IPC: B01L3/00
CPC classification number: G01N27/447 , G01N30/6095 , G01N2030/8827
Abstract: 本发明提供了一种能够在用液体填充多个分析区域的完成时间时抑制多个分析区域中的波动的微芯片，所述微芯片包括：注入液体的进入部；从所述进入部供给液体的多个分析区域；和形成为将液体同时供给到所述多个分析区域的流路。
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公开(公告)号：CN102741408A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180008396.9
申请日：2011-02-01
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: C12Q1/6844 , B01L3/502707 , B01L2200/0689 , B01L2200/16 , B01L2300/0816 , B01L2300/0864 , C12Q1/6806 , G01N27/447 , C12Q2521/101 , C12Q2521/543 , C12Q2565/629
Abstract: 本发明提供能够通过简单方法进行高精度分析的用于核酸扩增反应的微芯片。具体地，本发明提供了一种用于核酸扩增反应的微芯片A，包括：入口（1），液体通过该入口从外部进入；多个井（41、42、43），用作核酸扩增反应的反应场所；以及流道（2、3），从入口进入的液体通过该流道被供给到各个井（41、42、43），其中，反应所需的多个试剂以规定顺序被层压在各个井（41、42、43）中，从而被固定到各个井（41、42、43）上。
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公开(公告)号：CN102465093A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110359959.0
申请日：2011-11-14
Applicant: 索尼公司
CPC classification number: B01L7/52 , B01L3/5027 , B01L2200/147 , B01L2300/0654 , B01L2300/0829 , B01L2300/0887
Abstract: 本文公开了一种反应处理装置与反应处理方法，该反应处理装置包括温度控制部，该温度控制部包括：第一温度控制部，布置在反应区域组的外周边缘部位处；以及平面型第二温度控制部。其中，该第一温度控制部和该第二温度控制部彼此相对地布置，反应区域组位于其间。
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