发光二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN101887934A

    公开(公告)日:2010-11-17

    申请号:CN201010173323.2

    申请日:2010-05-06

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 小岛健介

    CPC classification number: H01L33/20 H01L33/007 H01L33/06 H01L33/18 H01L33/32

    Abstract: 本发明涉及一种发光二极管及其制造方法。该发光二极管的制造方法包括以下步骤:在基板上依次生长第一覆盖层、有源层以及第二覆盖层;将第一覆盖层、有源层以及第二覆盖层图案化为特定的平面形状,并使得有源层的外围部分的至少一部分突出至第一覆盖层和第二覆盖层中的至少一个的外部。

    核酸扩增反应设备、方法及用于核酸扩增反应设备的基板

    公开(公告)号:CN102703309A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201110312670.3

    申请日:2011-10-14

    Applicant: 索尼公司

    CPC classification number: G01N21/6428 G01N21/6452

    Abstract: 本发明公开了核酸扩增反应设备、方法及用于核酸扩增反应设备的基板,该核酸扩增反应设备包括:反应区域,被构造为用作核酸扩增反应的反应场;照射单元,被构造为用于将光照射到反应区域;以及光检测单元,被构造为用于检测反射光的量,其中,设置有用于将由于照射单元的光照射而在反应区域内产生的侧光反射并将光导向光检测单元的反射部件。

    发光二极管及其制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101887934B

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:CN201010173323.2

    申请日:2010-05-06

    Applicant: 索尼公司

    Inventor: 小岛健介

    CPC classification number: H01L33/20 H01L33/007 H01L33/06 H01L33/18 H01L33/32

    Abstract: 本发明涉及一种发光二极管及其制造方法。该发光二极管的制造方法包括以下步骤:在基板上依次生长第一覆盖层、有源层以及第二覆盖层;将第一覆盖层、有源层以及第二覆盖层图案化为特定的平面形状,并使得有源层的外围部分的至少一部分突出至第一覆盖层和第二覆盖层中的至少一个的外部。

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