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公开(公告)号:CN103681558A
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201210337060.3
申请日:2012-09-12
Applicant: 矽品精密工业股份有限公司
IPC: H01L23/488
CPC classification number: H01L23/53204 , H01L24/00 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/16 , H01L2224/0401 , H01L2224/05005 , H01L2224/05022 , H01L2224/05027 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05166 , H01L2224/05541 , H01L2224/05572 , H01L2224/05584 , H01L2224/05616 , H01L2224/05639 , H01L2224/05644 , H01L2224/05647 , H01L2224/11849 , H01L2224/13111 , H01L2224/16503 , H01L2924/3512 , H01L2924/35121 , H01L2924/3651 , H01L2924/00014 , H01L2924/206 , H01L2924/00012 , H01L2924/01047 , H01L2924/01029
Abstract: 一种半导体封装件中的连接结构,其设于基板的连接垫上,其包括凸块底下金属层以及一焊锡材料,且该凸块底下金属层依序为形成于该连接垫上的钛层、铜层、镍层及金属层,而该金属层为金层、银层、铅层或铜层的其中一者,又该金属层的厚度为0.5至5微米,所以当回焊该焊锡材料以形成焊锡凸块后,该焊锡凸块与该金属层之间不会产生锡镍化合物,以避免于该凸块底下金属层与该焊锡凸块之间发生凸块脱落的问题。
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公开(公告)号:CN103928433A
公开(公告)日:2014-07-16
申请号:CN201310046666.6
申请日:2013-02-05
Applicant: 矽品精密工业股份有限公司
IPC: H01L23/498 , H01L21/48 , H01L21/60
CPC classification number: H01L2224/11 , H01L2224/16 , H01L2924/00012
Abstract: 一种半导体装置及其制法,该半导体装置包括:基板,其具有基板本体与导电线路,该导电线路形成于该基板本体上并具有容置空间;导电材,形成于该容置空间内并电性连接该导电线路;以及半导体组件,其设置于该基板上,该半导体组件具有电性连接垫与导电体,该导电体形成于该电性连接垫上并电性连接该导电材。由此,本发明可避免相邻的导电体间产生焊料桥接的情形,并改善该导电体与该导电材间的对位能力,进而提升该半导体装置的效能。
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公开(公告)号:CN103681558B
公开(公告)日:2017-11-24
申请号:CN201210337060.3
申请日:2012-09-12
Applicant: 矽品精密工业股份有限公司
IPC: H01L23/488
CPC classification number: H01L23/53204 , H01L24/00 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/16 , H01L2224/0401 , H01L2224/05005 , H01L2224/05022 , H01L2224/05027 , H01L2224/05124 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05166 , H01L2224/05541 , H01L2224/05572 , H01L2224/05584 , H01L2224/05616 , H01L2224/05639 , H01L2224/05644 , H01L2224/05647 , H01L2224/11849 , H01L2224/13111 , H01L2224/16503 , H01L2924/3512 , H01L2924/35121 , H01L2924/3651 , H01L2924/00014 , H01L2924/206 , H01L2924/00012 , H01L2924/01047 , H01L2924/01029
Abstract: 一种半导体封装件中的连接结构,其设于基板的连接垫上,其包括凸块底下金属层以及一焊锡材料,且该凸块底下金属层依序为形成于该连接垫上的钛层、铜层、镍层及金属层,而该金属层为金层、银层、铅层或铜层的其中一者,又该金属层的厚度为0.5至5微米,所以当回焊该焊锡材料以形成焊锡凸块后,该焊锡凸块与该金属层之间不会产生锡镍化合物,以避免于该凸块底下金属层与该焊锡凸块之间发生凸块脱落的问题。
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