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公开(公告)号:CN1568548A
公开(公告)日:2005-01-19
申请号:CN02819994.4
申请日:2002-10-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: G·F·A·范德瓦尔勒 , A·H·蒙特里
IPC: H01L29/786 , H01L21/18 , H01L29/423
CPC classification number: H01L29/78603 , H01L29/41733 , H01L29/42384
Abstract: 电子器件包括薄膜晶体管(10)并且可以由两个基板(1,11)得到。为了避免在金属图形(24,29)和有机层(4)之间的未粘接界面处分层,金属图形(24,29)包括开口(30)。通过这些开口(30),可以实现有机层(4,5)和基板(11)之一的表面(111)处的有机材料之间的粘接。借助微接触印刷可以制造电子器件。
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公开(公告)号:CN100367516C
公开(公告)日:2008-02-06
申请号:CN02819994.4
申请日:2002-10-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor: G·F·A·范德瓦尔勒 , A·H·蒙特里
IPC: H01L29/786 , H01L21/18 , H01L29/423
CPC classification number: H01L29/78603 , H01L29/41733 , H01L29/42384
Abstract: 电子器件包括薄膜晶体管(10)并且可以由两个基板(1,11)得到。为了避免在金属图形(24,29)和有机层(4)之间的未粘接界面处分层,金属图形(24,29)包括开口(30)。通过这些开口(30),可以实现有机层(4,5)和基板(11)之一的表面(111)处的有机材料之间的粘接。借助微接触印刷可以制造电子器件。
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公开(公告)号:CN1726597A
公开(公告)日:2006-01-25
申请号:CN200380106077.7
申请日:2003-12-08
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H01L29/78 , H01L29/423 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/7813 , H01L29/4236 , H01L29/42368 , H01L29/66666 , H01L29/7827
Abstract: 通过提供穿过源层(8)和沟道层(6)向漏层(2)延伸的沟槽(26),制作了垂直绝缘栅晶体管。采用隔离刻蚀以形成沿沟槽侧壁的栅部分(20),在侧壁栅部分(20)之间的沟槽内填充电介质材料(30),并且在沟槽顶部形成栅电连接层(30)以横跨沟槽来电连接栅部分(20)。
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