一种自带启动电路的带隙基准电路结构

    公开(公告)号:CN115016581B

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202210610222.X

    申请日:2022-05-31

    Abstract: 本发明提供一种自带启动电路的带隙基准电路结构,涉及电子电路技术领域,能够采用正常接法的NPN三极管设计带隙基准源,结构简洁且低成本;该电路第一、第二MOS管G极连接,S极接电源;第二MOS管G极和D极连接;第一MOS管D极与第二三极管集电极连接,第二MOS管D极与第一三极管集电极连接,第一三极管和第二三极管基极连接;两三极管发射极之间串接第一电阻,第二三极管发射极串接第二电阻后接地;第三MOS管S极与第一三极管的基极连接,D极与电源端连接,G极与第一MOS管D极连接;两三极管的两基极连接点作为基准电压输出;第一、第二MOS管为PMOS管,第三MOS管为NMOS管。

    一种面向分布式并行运算类算法的片上网络设计方法

    公开(公告)号:CN114844757B

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202210174904.0

    申请日:2022-02-24

    Inventor: 黄乐天 邓子阳

    Abstract: 本发明涉及计算机算法技术领域,尤其涉及一种面向分布式并行运算类算法的片上网络设计方法,根据片上网络分布式并行计算类算法,将该片上网络分为双层,包括单播网络和多播网络,单播网络实现各节点之间的点对点传播,将各运算节点所需的独立运算数据通过单播的形式传递给每一个运算节点;多播网络为面向分布式并行计算类算法的定制多播网络,用于向所有运算节点传输共有运算数据,通过单播网络和多播网络的结合实现网络中数据包的高效传输,通过设计面向分布式并行计算类算法的多播树状传输架构,在每个运算节点设置二向复制节点或接收节点,这种架构区别于传统多播片上网络中

    一种基于3D-NUMA架构的内存功耗预测方法

    公开(公告)号:CN116089060A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202211488523.6

    申请日:2022-11-25

    Abstract: 本发明属于内存功耗预测技术领域,公开了一种基于3D‑NUMA架构的内存功耗预测方法。本发明进行内存功耗预测时,考虑了计算机架构的现今情况以及未来的发展趋势,基于3D‑NUMA架构提出了一种内存功耗预测方法。以memory bank的访问率为输入,memory bank的功耗为输出,在二者之间建立memory bank的功率模型。基于NUMA的Non‑Uniform Access(非一致性访问),根据core访问不同距离的memory bank时,其访问延迟不同的特性,可以依据其访问延迟以及memory bank和core的电压和频率来修正得到新的访问率,进而通过功率模型来预测新的memory bank的功耗。

    基于Transformer的芯片全片温度分布预测方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN115794584A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211487635.X

    申请日:2022-11-24

    Abstract: 本发明属于芯片温度预测领域,公开了一种基于Transformer的芯片全片温度分布预测方法、系统及介质,包括时序信息编码模块、Transformer神经网络训练模块、模型准确性验证模块;时序信息编码模块用于获取所述性能计数和温度传感器温度数据,并对其时序数据和位置信息进行编码;Transformer神经网络训练模块用于根据输入序列对未来芯片温度进行预测;模型准确性验证模块用于对预测结果和温度仿真器的仿真结果进行比较,符合预期则输出温度分布预测模型,反之则调整训练参数重新训练。本发明既能对芯片全片温度进行预测,并给出芯片未来指定时刻对温度分布,又能辅助动态温度管理在芯片未达到温度阈值时主动进行温度控制,减少因超温而被迫降低工作频率的性能损失。

    一种具有四个端口的全包栅器件的制作方法

    公开(公告)号:CN115565882A

    公开(公告)日:2023-01-03

    申请号:CN202211054589.4

    申请日:2022-08-31

    Abstract: 本发明专利涉及集成电路技术技术领域,尤其指一种具有四个端口的全包栅器件的制作方法。制作方法包括以下步骤:S1外延生长:首先在N+衬底上通过外延生长技术依次生长N‑外延层和P+外延层、本征硅层;S2刻蚀:将N‑外延层、P+外延层和本征硅层刻蚀除去多余部分;S3热氧化:刻蚀的部分通过热氧化工艺,生长SiO2层;S4离子注入:在本征硅层上通过离子注入工艺进行N‑区的掺杂形成N‑源区,再对N‑源区进行N+区的掺杂,形成N+源区;S5再刻蚀:在Si02层的区域进行刻蚀,得到环形槽、矩形槽和圆柱形槽。S6淀积金属:在环形槽、矩形槽和圆柱形槽淀积金属。该方法能够增强器件的抗TID效应,同时可以根据实际的电路情况对源极和衬底施加不同的电位。

    一种自带启动电路的带隙基准电路结构

    公开(公告)号:CN115016581A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202210610222.X

    申请日:2022-05-31

    Abstract: 本发明提供一种自带启动电路的带隙基准电路结构,涉及电子电路技术领域,能够采用正常接法的NPN三极管设计带隙基准源,结构简洁且低成本;该电路第一、第二MOS管G极连接,S极接电源;第二MOS管G极和D极连接;第一MOS管D极与第二三极管集电极连接,第二MOS管D极与第一三极管集电极连接,第一三极管和第二三极管基极连接;两三极管发射极之间串接第一电阻,第二三极管发射极串接第二电阻后接地;第三MOS管S极与第一三极管的基极连接,D极与电源端连接,G极与第一MOS管D极连接;两三极管的两基极连接点作为基准电压输出;第一、第二MOS管为PMOS管,第三MOS管为NMOS管。

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