纳米立方银焊膏、互连结构及焊接方法

    公开(公告)号:CN113579563B

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202110860085.0

    申请日:2021-07-28

    Abstract: 本发明公开了一种纳米立方银焊膏、互连结构及其焊接方法,纳米立方银焊膏由尺寸均一的纳米立方银颗粒与有机溶剂混合而成,具有连接层孔隙率低、剪切强度高等优势。所述纳米立方银颗粒为立方体形状、粒径为20nm~200nm,纳米立方银焊膏可用于制备覆铜陶瓷基板和IGBT模块功率芯片的互连结构;本发明利用纳米立方银颗粒的自组装性能,形成超晶格结构,实现纳米立方银颗粒的紧密排列,经焊接后形成的连接层的连接接头界面层结合良好,连接层的孔隙率约为5%,剪切强度达到30Mpa以上,具有较高的剪切强度,能够很好地应用于电子器件的封装互连;其制备工艺简单,便于工业化生产。

    纳米立方银焊膏、互连结构及焊接方法

    公开(公告)号:CN113579563A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110860085.0

    申请日:2021-07-28

    Abstract: 本发明公开了一种纳米立方银焊膏、互连结构及其焊接方法,纳米立方银焊膏由尺寸均一的纳米立方银颗粒与有机溶剂混合而成,具有连接层孔隙率低、剪切强度高等优势。所述纳米立方银颗粒为立方体形状、粒径为20nm~200nm,纳米立方银焊膏可用于制备覆铜陶瓷基板和IGBT模块功率芯片的互连结构;本发明利用纳米立方银颗粒的自组装性能,形成超晶格结构,实现纳米立方银颗粒的紧密排列,经焊接后形成的连接层的连接接头界面层结合良好,连接层的孔隙率约为5%,剪切强度达到30Mpa以上,具有较高的剪切强度,能够很好地应用于电子器件的封装互连;其制备工艺简单,便于工业化生产。

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