公开(公告)号：CN105793964A

公开(公告)日：2016-07-20

申请号：CN201480027415.6

申请日：2014-11-13

Applicant: 瑞萨电子株式会社

Inventor： 前川和义 ,  河野祐一

IPC: H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: H01L24/02 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/06 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L24/45 ,  H01L24/48 ,  H01L24/73 ,  H01L2224/02166 ,  H01L2224/02181 ,  H01L2224/02185 ,  H01L2224/0219 ,  H01L2224/02331 ,  H01L2224/0235 ,  H01L2224/02373 ,  H01L2224/0239 ,  H01L2224/024 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/0346 ,  H01L2224/03462 ,  H01L2224/03466 ,  H01L2224/0347 ,  H01L2224/035 ,  H01L2224/03614 ,  H01L2224/0391 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/04042 ,  H01L2224/05007 ,  H01L2224/05008 ,  H01L2224/05025 ,  H01L2224/05124 ,  H01L2224/05147 ,  H01L2224/05155 ,  H01L2224/05157 ,  H01L2224/05164 ,  H01L2224/05166 ,  H01L2224/05176 ,  H01L2224/0518 ,  H01L2224/05181 ,  H01L2224/05184 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05566 ,  H01L2224/05567 ,  H01L2224/05664 ,  H01L2224/2919 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/4502 ,  H01L2224/45144 ,  H01L2224/45147 ,  H01L2224/45565 ,  H01L2224/45664 ,  H01L2224/48095 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/48228 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/48465 ,  H01L2224/48664 ,  H01L2224/48864 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01022 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01046 ,  H01L2924/04941 ,  H01L2924/07025 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/1306 ,  H01L2924/15183 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/01008

Abstract: 半导体器件具有形成于多层布线层的最上层的焊盘电极(9a)、在焊盘电极(9a)上有开口(11a)的基底绝缘膜(11)、形成在基底绝缘膜(11)上的基底金属膜(UM)、形成在基底金属膜(UM)上的再布线(RM)、和形成为覆盖再布线(RM)的上表面以及侧面的覆盖金属膜(CM)。而且，在再布线(RM)的外侧区域，在形成在再布线(RM)的侧壁上的覆盖金属膜(CM)与基底绝缘膜(11)之间形成有材料不同于再布线(RM)的基底金属膜(UM)和材料不同于再布线(RM)的覆盖金属膜(CM)，在再布线(RM)的外侧区域基底金属膜(UM)与覆盖金属膜(CM)直接接触。

公开(公告)号：CN105720027A

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201510940548.9

申请日：2015-12-16

Applicant: 瑞萨电子株式会社

Inventor： 松本雅弘 ,  前川和义 ,  河野祐一

IPC: H01L23/488 ,  H01L23/31 ,  H01L21/56 ,  H01L21/60

CPC classification number: H01L21/4817 ,  H01L21/76852 ,  H01L23/3121 ,  H01L23/525 ,  H01L23/53238 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/06 ,  H01L24/13 ,  H01L24/45 ,  H01L24/48 ,  H01L2221/1078 ,  H01L2224/02166 ,  H01L2224/0345 ,  H01L2224/03452 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/04042 ,  H01L2224/05007 ,  H01L2224/05008 ,  H01L2224/05075 ,  H01L2224/05548 ,  H01L2224/05664 ,  H01L2224/0612 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/45144 ,  H01L2224/45147 ,  H01L2224/45565 ,  H01L2224/45644 ,  H01L2224/45664 ,  H01L2224/48247 ,  H01L2224/48465 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00 ,  H01L23/3157 ,  H01L21/56 ,  H01L24/10 ,  H01L24/81

Abstract: 本发明涉及半导体器件以及其制造方法，使提高半导体器件的可靠性成为可能。半导体器件在半导体衬底上具有在多个布线层中的最上层处形成的焊盘电极、在焊盘电极上的具有开口的表面保护膜、在表面保护膜上形成并且具有上表面和侧表面的再分配线、包括覆盖再分配线的侧表面并且曝露再分配线的上表面的绝缘膜的侧壁阻挡膜以及覆盖再分配线上表面的封盖金属膜。于是，再分配线的上表面和侧表面覆盖以封盖金属膜或者侧壁阻挡膜，而封盖金属膜和侧壁阻挡膜具有重叠部分。